JP2013534022A - 誘導装置、およびそれを用いる低流動プラズマ - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
本出願は、2010年5月5日出願の米国仮特許出願第61/331,610号の優先権および利益を主張し、その全体の開示が、この出願において全ての目的のために組み込まれる。
Claims (62)
- 低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチであり、前記トーチは、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いる前記トーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを備える、トーチ。
- 前記トーチの前記外側チューブは、前記外側チューブの全半径が実施的に同じであるように実質的に対称であり、前記スロットが前記外側チューブの一端に位置づけられる、請求項1に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより、少なくとも25%長い、請求項1に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより、約9mm長い、請求項1に記載のトーチ。
- 前記歪みのないスロットの幅は、従来のトーチの歪んだスロットの幅とほぼ同じである、請求項1に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、長さ約83mmであり、前記歪みのないスロットは、長さ約15mmである、請求項1に記載のトーチ。
- 前記トーチの前記外側チューブは、少なくとも3つの歪みのないスロットを備える、請求項1に記載のトーチ。
- 前記3つのスロットのそれぞれは、従来のトーチにあるスロットより約25%短い、請求項7に記載のトーチ。
- 前記3つの歪みのないスロットのそれぞれは、ほぼ同じ長さである、請求項7に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、長さ約83mmであり、前記3つの歪みのないスロットのそれぞれは、長さ約15mmである、請求項7に記載のトーチ。
- 低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチであり、前記トーチは外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さは、らせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さよりも長い、トーチ。
- 前記補助チューブの前記長さは、約8リットル/分以下のプラズマガス率を用いて維持される前記低流動プラズマの形状に合うよう選択される、請求項11に記載のトーチ。
- 前記外側チューブは、少なくとも1つの歪みのないスロットを備える、請求項11に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブの長さより約9mm長い、請求項13に記載のトーチ。
- 前記歪みのないスロットは、従来のトーチにある歪んだスロットの長さより約5mm短い、請求項13に記載のトーチ。
- 前記外側チューブは、少なくとも3つの歪みのないスロットを備える、請求項11に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブの長さより約9mm長い、請求項16に記載のトーチ。
- 前記歪みのないスロットのそれぞれは、従来のトーチにある歪んだスロットの長さより少なくとも5mm短い、請求項17に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは長さ約83mmであり、前記外側チューブは、一端に長さ約15mmの歪みのないスロットを備える、請求項11に記載のトーチ。
- 前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブより約9mm長く、前記外側チューブは、歪みのないスロットを備え、前記外側チューブにおける前記歪みのないスロットは、従来のトーチにおける歪んだスロットより少なくとも5mm短い、請求項11に記載のトーチ。
- 低流動プラズマと共に動作する低流動注入器であり、前記低流動注入器は、有効な量のサンプルを、約8リットル/分以下のプラズマガスと共に動作する前記低流動プラズマに導入するよう構成された、低流動注入器。
- 前記注入器の長さは、従来のプラズマトーチと共に動作可能な従来の注入器よりも長い、請求項21に記載の低流動注入器。
- 前記低流動注入器の前記長さは、約150mmである、請求項22に記載の低流動注入器。
- 前記低流動注入器は、アルミナ、石英、サファイア、チタニア、チタン、インコネル合金、または不活性物質のうち1つまたは複数を備える、請求項21に記載の低流動注入器。
- テーパエンドをさらに備える、請求項21に記載の低流動注入器。
- ストレート穴をさらに備える、請求項21に記載の低流動注入器。
- 前記注入器は、毛細管として構成される、請求項21に記載の低流動注入器。
- 前記注入器は、毛細管を備える、請求項21に記載の低流動注入器。
- 前記注入器は、全ガス流が9リットル/分以下の場合、サンプルを前記低流動プラズマに導入するよう動作する、請求項21に記載の低流動注入器。
- 前記低流動プラズマは、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備えるトーチ内で維持され、前記外側チューブは、少なくとも1つの歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは、長さ約83mmであり、前記歪みのないスロットは、長さ約15mmである、請求項21に記載の低流動注入器。
- 低流動プラズマを維持するためのシステムであり、前記システムは、
低流動トーチを受け取るよう構成された開口部を備えるプレート電極と、
前記プレート電極の前記開口部の少なくとも一部内に位置づけられるよう形成および配置された低流動トーチを備え、
前記トーチは、歪みのないスロットを備える外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記補助チューブは、前記トーチ内で前記低流動プラズマを維持するために有効な長さを備える、システム。 - 前記補助チューブは、長さ約83mmであり、前記歪みのないスロットは、長さ約15mmである、請求項31に記載のシステム。
- 前記補助チューブは、従来のトーチにある補助チューブよりも長い、請求項31に記載のシステム。
- 前記歪みのないスロットは、従来のトーチにある歪んだスロットよりも短い、請求項33に記載のシステム。
- 前記歪みのないスロットは、長さ約15mmであり、前記補助チューブは、長さ約83mmである、請求項34に記載のシステム。
- 前記プレート電極に電気的に結合された発振器をさらに備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記低流動トーチを受け取るよう構成された開口部を備える追加のプレート電極をさらに備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記プレート電極と前記追加のプレート電極に電気的に結合された発振器をさらに備える、請求項31に記載のシステム。
- 前記発振器は、独立して前記プレート電極と前記追加のプレート電極を制御するように構成されている、請求項38に記載のシステム。
- 前記低流動トーチに光学的に結合された検出器をさらに備える、請求項39に記載のシステム。
- 8リットル/分以下のプラズマガスを用いて低流動トーチ内で維持された低流動プラズマであり、前記低流動トーチは、歪みのないスロットを備える外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備える、低流動プラズマ。
- 前記低流動トーチの前記補助チューブは、従来のトーチの補助チューブより長い、請求項41に記載の低流動プラズマ。
- 前記補助チューブは、長さ約83mmである、請求項42に記載の低流動プラズマ。
- 前記歪みのないスロットは、従来のトーチの外側チューブにあるスロットよりも短い、請求項41に記載の低流動プラズマ。
- 前記スロットは、長さ約15mmである、請求項44に記載の低流動プラズマ。
- 前記低流動プラズマの発光領域およびプラズマ領域は圧縮される、請求項41に記載の低流動プラズマ。
- 前記低流動プラズマは、前記外側チューブに3つの歪みのないスロットを備えるトーチ内に維持される、請求項41に記載の低流動プラズマ。
- 前記3つの歪みのないスロットは、外側チューブの周辺に等しい間隔で配置される、請求項47に記載の低流動プラズマ。
- 前記低流動プラズマは、アルゴンを用いて維持される、請求項41に記載の低流動プラズマ。
- 前記低流動プラズマを維持するために使われる全ガス流は、9リットル/分未満である、請求項41に記載の低流動プラズマ。
- 外側チューブにおける歪みのないスロットと前記外側チューブ内の補助チューブを備える低流動トーチ内で低流動プラズマを維持する方法であり、前記補助チューブは前記低流動トーチ内で前記低流動プラズマを維持するために有効な長さを備え、前記方法は、
前記低流動トーチに約8リットル/分以下の率でプラズマガスを導入することと、
少なくとも1つのプレート電極から前記トーチにエネルギーをもたらすことによって前記低流動トーチ内で前記低流動プラズマを維持することと
を備える、方法。 - 前記歪みのないスロットを、長さ約15mmになるよう構成することをさらに備える、請求項51に記載の方法。
- 少なくとも3つの歪みのないスロットを有する前記低流動トーチを構成することをさらに備える、請求項51に記載の方法。
- 従来のトーチにある補助チューブより少なくとも25%長くなるよう前記補助チューブを構成することをさらに備える、請求項51に記載の方法。
- 前記低流動トーチの前記補助チューブを、長さ約83mmになるよう構成することをさらに備える、請求項54に記載の方法。
- 低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、低流動プラズマを維持するよう構成されたトーチを提供することを備え、前記トーチは外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて前記トーチ内に維持された低流動プラズマの形状に合うよう有効な長さを備える、方法。
- 低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブを備えるプラズマトーチで使用するために構成された補助チューブを提供することを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて前記プラズマトーチ内に維持された低流動プラズマの形状に合うよう有効な長さを備える、方法。
- 低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、補助チューブを備えるプラズマトーチで使用するために構成された歪みのない外側チューブを提供することを備え、前記歪みのない外側チューブは、平らなプレート電極を用いて前記プラズマトーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを有するスロットを備える、方法。
- 低流動プラズマへのサンプルの導入を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備える低流動プラズマトーチにサンプルを導入するために有効な長さを備える注入器を提供することを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて前記トーチ内で低流動プラズマの生成を可能にするために有効な長さを備える、方法。
- 低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備えるトーチを提供することを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さはらせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さより長い、方法。
- 低流動プラズマの生産を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブを備えるプラズマトーチで使用するために構成された補助チューブを提供することを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さはらせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さより長い、方法。
- 低流動プラズマへのサンプルの導入を容易にする方法であり、前記方法は、外側チューブと前記外側チューブ内の補助チューブを備える低流動プラズマトーチにサンプルを導入するために有効な長さを備える注入器を提供することを備え、前記外側チューブは歪みのないスロットを備え、前記補助チューブは平らなプレート電極を用いて生成された低流動プラズマを前記トーチが維持するために有効な長さを備え、前記補助チューブの前記長さはらせん状の負荷コイルを備える従来のトーチ内で従来のプラズマを維持するよう構成された補助チューブの長さより長い、方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015184167A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Icp発光分光分析装置 |
JP2017133985A (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマ分光分析装置 |
JP2020519811A (ja) * | 2017-05-16 | 2020-07-02 | サフラン・エアクラフト・エンジンズ | 電気スラスタの推進剤流体の流量を調整する装置 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130098880A1 (en) * | 2011-08-31 | 2013-04-25 | Northwest Mettech Corp. | Injector for plasma spray torches |
JP5965743B2 (ja) * | 2012-06-27 | 2016-08-10 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Icp装置及び分光分析装置並びに質量分析装置 |
EP2904881B1 (en) * | 2012-07-13 | 2020-11-11 | PerkinElmer Health Sciences, Inc. | Torches with refractory and not-refractory materials coupled together |
WO2014084963A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-06-05 | Exelon Generation Company, Llc | Electrical transformer |
US20140227776A1 (en) * | 2013-02-14 | 2014-08-14 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser ablation cell and torch system for a compositional analysis system |
US9504137B2 (en) * | 2013-04-08 | 2016-11-22 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Capacitively coupled devices and oscillators |
EP3099443B1 (en) * | 2014-01-28 | 2022-06-08 | PerkinElmer Health Sciences, Inc. | System for sustaining an inductively coupled ionization source in a torch |
US11802337B1 (en) | 2014-01-28 | 2023-10-31 | United States of America as Administrator of NASA | Atmospheric pressure plasma based fabrication process of printable electronics and functional coatings |
JP5729514B1 (ja) * | 2014-06-14 | 2015-06-03 | プラスウェア株式会社 | プラズマ発生装置、液上溶融方法及び給電装置 |
JP5909014B1 (ja) * | 2015-06-08 | 2016-04-26 | オリジン電気株式会社 | 接合部材の製造方法及び接合部材製造装置 |
GB2540992A (en) * | 2015-08-04 | 2017-02-08 | Edwards Ltd | Control of gas flow and power supplied to a plasma torch in a multiple process chamber gas treatment system |
US10178749B2 (en) | 2016-10-27 | 2019-01-08 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | DC-DC electrical transformer |
US10172226B2 (en) | 2016-10-28 | 2019-01-01 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | DC-AC electrical transformer |
EP3602604A4 (en) * | 2017-03-29 | 2021-01-06 | PerkinElmer Health Sciences, Inc. | COOLING DEVICES AND INSTRUMENTS WITH IT |
US10334713B2 (en) | 2017-05-22 | 2019-06-25 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | DC to DC electrical transformer |
SG11202002725UA (en) | 2017-10-01 | 2020-04-29 | Space Foundry Inc | Modular print head assembly for plasma jet printing |
JP6740299B2 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-08-12 | ファナック株式会社 | 加工条件調整装置及び機械学習装置 |
US10342110B1 (en) * | 2018-09-14 | 2019-07-02 | Serendipity Technologies LLC. | Plasma power generator (z-box and z-tower) |
US11776801B2 (en) | 2020-09-18 | 2023-10-03 | Standard Biotools Canada Inc. | Inductively coupled plasma based atomic analysis systems and methods |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0230049U (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-26 | ||
JPH08210982A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-08-20 | Perkin Elmer Corp:The | 誘導プラズマ光源からの選択可能な放射を持つスペクトロメータ |
US20020089666A1 (en) * | 2000-01-13 | 2002-07-11 | Michael Erath | Torch glassware for use with inductively coupled plasma-optical emission spectrometer |
JP2003240718A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Horiba Ltd | Icp発光分光分析装置 |
JP2008537282A (ja) * | 2005-03-11 | 2008-09-11 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | プラズマとその使用方法 |
JP2009510670A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-03-12 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | プラズマ生成用誘導装置 |
Family Cites Families (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3059149A (en) | 1958-02-12 | 1962-10-16 | Zenith Radio Corp | Plasma accelerator |
US3012955A (en) | 1958-08-20 | 1961-12-12 | Russell M Kulsrud | High temperature reactor |
US3038099A (en) | 1960-08-26 | 1962-06-05 | William R Baker | Cusp-pinch device |
US3324334A (en) | 1966-03-15 | 1967-06-06 | Massachusetts Inst Technology | Induction plasma torch with means for recirculating the plasma |
US3492074A (en) | 1967-11-24 | 1970-01-27 | Hewlett Packard Co | Atomic absorption spectroscopy system having sample dissociation energy control |
US3904366A (en) | 1968-10-07 | 1975-09-09 | Fritz Grasenick | Method for the quantitative elementary analysis of preferably organic substances |
CH554067A (de) * | 1973-09-19 | 1974-09-13 | Sprecher & Schuh Ag | Lichtbogenelektrode, insbesondere fuer eine kontaktanordnung in einem vakuumschalter. |
JPS5532317A (en) | 1978-08-28 | 1980-03-07 | Asahi Chemical Ind | High frequency magnetic field coupling arc plasma reactor |
US4300834A (en) | 1980-05-22 | 1981-11-17 | Baird Corporation | Inductively coupled plasma atomic fluorescence spectrometer |
DE3130908A1 (de) | 1981-08-05 | 1983-03-10 | Horst Dipl.-Ing. 5100 Aachen Müller | "plasma-reaktor" |
US4517495A (en) * | 1982-09-21 | 1985-05-14 | Piepmeier Edward H | Multi-electrode plasma source |
US4629887A (en) | 1983-03-08 | 1986-12-16 | Allied Corporation | Plasma excitation system |
US4575609A (en) * | 1984-03-06 | 1986-03-11 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Concentric micro-nebulizer for direct sample insertion |
JPS61161138A (ja) | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | プラズマ利用化学反応装置 |
DE3521529A1 (de) | 1985-06-15 | 1987-01-02 | Harald Dipl Chem Dr Berndt | Vorrichtung zum zerstaeuben von probenfluessigkeit fuer spektroskopische zwecke |
US4815279A (en) | 1985-09-27 | 1989-03-28 | The United States Of America As Represented By The National Aeronautics And Space Administration | Hybrid plume plasma rocket |
JPS62213056A (ja) | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Yokogawa Electric Corp | 高周波誘導結合プラズマを用いた分析装置 |
JPH0624112B2 (ja) | 1986-04-16 | 1994-03-30 | 横河電機株式会社 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 |
JPS62273047A (ja) | 1986-05-22 | 1987-11-27 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 燃焼炎複合高周波熱プラズマ発生装置 |
US4833294A (en) * | 1986-08-29 | 1989-05-23 | Research Corporation | Inductively coupled helium plasma torch |
JPS63158799A (ja) | 1986-12-22 | 1988-07-01 | 日本高周波株式会社 | 多段無電極高周波プラズマ反応装置 |
US4766287A (en) * | 1987-03-06 | 1988-08-23 | The Perkin-Elmer Corporation | Inductively coupled plasma torch with adjustable sample injector |
JP2675561B2 (ja) * | 1987-12-18 | 1997-11-12 | 株式会社日立製作所 | プラズマ微量元素分折装置 |
US5087434A (en) | 1989-04-21 | 1992-02-11 | The Pennsylvania Research Corporation | Synthesis of diamond powders in the gas phase |
JPH0781953B2 (ja) | 1990-02-07 | 1995-09-06 | 川崎製鉄株式会社 | 分析試料の原子化方法 |
GB9226335D0 (en) | 1992-12-17 | 1993-02-10 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
US5033850A (en) | 1990-03-28 | 1991-07-23 | Pennington Hurm D | Gas flow chamber for use in atomic absorption and plasma spectroscopy |
DE4021182A1 (de) | 1990-07-03 | 1992-01-16 | Plasma Technik Ag | Vorrichtung zur beschichtung der oberflaeche von gegenstaenden |
US5259254A (en) | 1991-09-25 | 1993-11-09 | Cetac Technologies, Inc. | Sample introduction system for inductively coupled plasma and other gas-phase, or particle, detectors utilizing ultrasonic nebulization, and method of use |
JPH05119006A (ja) | 1991-10-30 | 1993-05-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 炭化水素濃度測定装置 |
US5217362A (en) | 1991-12-30 | 1993-06-08 | Thompson Richard E | Method for enhanced atomization of liquids |
JPH05251038A (ja) | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマイオン質量分析装置 |
US5372857A (en) * | 1992-12-17 | 1994-12-13 | Browning; James A. | Method of high intensity steam cooling of air-cooled flame spray apparatus |
JP3116151B2 (ja) | 1993-03-05 | 2000-12-11 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 加熱気化誘導結合プラズマ質量分析装置 |
US5865896A (en) | 1993-08-27 | 1999-02-02 | Applied Materials, Inc. | High density plasma CVD reactor with combined inductive and capacitive coupling |
WO1995015672A1 (en) | 1993-12-01 | 1995-06-08 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method and apparatus for planar plasma processing |
FR2722939B1 (fr) | 1994-07-22 | 1996-08-23 | Alcatel Fibres Optiques | Torche a plasma par induction |
US5725153A (en) | 1995-01-10 | 1998-03-10 | Georgia Tech Research Corporation | Oscillating capillary nebulizer |
EP0792091B1 (en) * | 1995-12-27 | 2002-03-13 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Elemental analysis method |
JP2929275B2 (ja) * | 1996-10-16 | 1999-08-03 | 株式会社アドテック | 透磁コアを有する誘導結合型−平面状プラズマの発生装置 |
US5908566A (en) * | 1997-09-17 | 1999-06-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Modified plasma torch design for introducing sample air into inductively coupled plasma |
US6293090B1 (en) | 1998-07-22 | 2001-09-25 | New England Space Works, Inc. | More efficient RF plasma electric thruster |
GB2344930B (en) * | 1998-12-17 | 2003-10-01 | Trikon Holdings Ltd | Inductive coil assembly |
US6291938B1 (en) | 1999-12-31 | 2001-09-18 | Litmas, Inc. | Methods and apparatus for igniting and sustaining inductively coupled plasma |
GB0029218D0 (en) * | 2000-11-30 | 2001-01-17 | Univ Ulster | Improvements relating to gas discharge spectroscopy |
US6899787B2 (en) * | 2001-06-29 | 2005-05-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Plasma processing apparatus and plasma processing system with reduced feeding loss, and method for stabilizing the apparatus and system |
US6693253B2 (en) | 2001-10-05 | 2004-02-17 | Universite De Sherbrooke | Multi-coil induction plasma torch for solid state power supply |
JP2003168594A (ja) | 2001-11-29 | 2003-06-13 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 高周波熱プラズマ装置 |
JP2003168595A (ja) | 2001-11-29 | 2003-06-13 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 高周波熱プラズマ装置 |
JP2003267742A (ja) | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 硬質脆性板のスクライブ方法 |
KR100502411B1 (ko) | 2002-10-17 | 2005-07-19 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 메모리 장치 및 그것의 제어 방법 |
JP4232951B2 (ja) | 2002-11-07 | 2009-03-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 誘導結合プラズマトーチ |
US7106438B2 (en) | 2002-12-12 | 2006-09-12 | Perkinelmer Las, Inc. | ICP-OES and ICP-MS induction current |
US6876155B2 (en) * | 2002-12-31 | 2005-04-05 | Lam Research Corporation | Plasma processor apparatus and method, and antenna |
US20040174242A1 (en) | 2003-03-03 | 2004-09-09 | Kuehn Mark D. | Inductively coupled plasma load coil |
US7304263B2 (en) * | 2003-08-14 | 2007-12-04 | Rapt Industries, Inc. | Systems and methods utilizing an aperture with a reactive atom plasma torch |
JP2005142200A (ja) | 2003-11-04 | 2005-06-02 | Sharp Corp | 気相成長装置および気相成長方法 |
JP2006038729A (ja) | 2004-07-29 | 2006-02-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマトーチ |
JP2006109637A (ja) | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Kyocera Chemical Corp | ワニス含浸装置 |
US7742167B2 (en) | 2005-06-17 | 2010-06-22 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Optical emission device with boost device |
EP2007175A4 (en) * | 2006-03-07 | 2014-05-14 | Univ Ryukyus | PLASMA GENERATOR AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA THEREFOR |
US9170234B2 (en) | 2006-11-01 | 2015-10-27 | Industry-Academic Cooperation Foundation, Chosun University | Magnetic sensor array and apparatus for detecting defect using the magnetic sensor array |
-
2011
- 2011-05-04 JP JP2013509202A patent/JP5934185B2/ja active Active
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-
2015
- 2015-11-23 US US14/948,448 patent/US9649716B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0230049U (ja) * | 1988-08-16 | 1990-02-26 | ||
JPH08210982A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-08-20 | Perkin Elmer Corp:The | 誘導プラズマ光源からの選択可能な放射を持つスペクトロメータ |
US20020089666A1 (en) * | 2000-01-13 | 2002-07-11 | Michael Erath | Torch glassware for use with inductively coupled plasma-optical emission spectrometer |
JP2003240718A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-27 | Horiba Ltd | Icp発光分光分析装置 |
JP2008537282A (ja) * | 2005-03-11 | 2008-09-11 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | プラズマとその使用方法 |
JP2009510670A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-03-12 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | プラズマ生成用誘導装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015184167A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Icp発光分光分析装置 |
JP2017133985A (ja) * | 2016-01-29 | 2017-08-03 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマ分光分析装置 |
JP2020519811A (ja) * | 2017-05-16 | 2020-07-02 | サフラン・エアクラフト・エンジンズ | 電気スラスタの推進剤流体の流量を調整する装置 |
JP7039619B2 (ja) | 2017-05-16 | 2022-03-22 | サフラン・エアクラフト・エンジンズ | 電気スラスタの推進剤流体の流量を調整する装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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---|---|---|
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