JP2003168594A - 高周波熱プラズマ装置 - Google Patents
高周波熱プラズマ装置Info
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- Powder Metallurgy (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマトーチの熱容量を有効に利用し、か
つ均一温度領域の広いプラズマフレームが得られる高周
波熱プラズマ装置。 【解決手段】 第１段、第２段、第３段、第４段の３段
又は４段の多段のプラズマを発生する第１、第２、第
３、第４の３段又は４段の多段のトーチを有し、プラズ
マフレームを拡大して均一温度領域を広くし、かつプラ
ズマフレームの軸方向の長さを増すことにより熱容量を
有効に利用する高周波熱プラズマ装置。
つ均一温度領域の広いプラズマフレームが得られる高周
波熱プラズマ装置。 【解決手段】 第１段、第２段、第３段、第４段の３段
又は４段の多段のプラズマを発生する第１、第２、第
３、第４の３段又は４段の多段のトーチを有し、プラズ
マフレームを拡大して均一温度領域を広くし、かつプラ
ズマフレームの軸方向の長さを増すことにより熱容量を
有効に利用する高周波熱プラズマ装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱プラズマ加熱に
より粒体を加熱溶融して球状化処理する高周波熱プラズ
マ装置に関するものである。とくに融点の高い材料ある
いは径の大きい球状体の球状化処理のための高周波熱プ
ラズマ装置に関するものである。
より粒体を加熱溶融して球状化処理する高周波熱プラズ
マ装置に関するものである。とくに融点の高い材料ある
いは径の大きい球状体の球状化処理のための高周波熱プ
ラズマ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高周波熱プラズマによる加熱は、高温度
が容易に得られて、物質の汚染がない点で有利であり、
化学物質を溶融球状化して球状粉末を得るために熱プラ
ズマによる加熱処理装置が使用される。
が容易に得られて、物質の汚染がない点で有利であり、
化学物質を溶融球状化して球状粉末を得るために熱プラ
ズマによる加熱処理装置が使用される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】熱プラズマにより大径
の粒子の球状化を行う場合は、大径の原料粒子を用いて
加熱球状化を行うために大きな加熱容量が必要である。
とくに、高融点の物質の大径の球状粒子を得るために
は、プラズマの熱容量を一層大きくしなければならない
ため、大熱容量で均一温度範囲の広いプラズマフレーム
が望まれる。
の粒子の球状化を行う場合は、大径の原料粒子を用いて
加熱球状化を行うために大きな加熱容量が必要である。
とくに、高融点の物質の大径の球状粒子を得るために
は、プラズマの熱容量を一層大きくしなければならない
ため、大熱容量で均一温度範囲の広いプラズマフレーム
が望まれる。
【０００４】しかし、従来の１段フレームは、プラズマ
フレームの半径方向の拡がりがあり、球状化の加熱に有
効なフレームの軸方向の広がりに限界があった。このた
めに、パワーの使用効率が十分でなかった。
フレームの半径方向の拡がりがあり、球状化の加熱に有
効なフレームの軸方向の広がりに限界があった。このた
めに、パワーの使用効率が十分でなかった。
【０００５】上記問題点を解決するために、従来からプ
ラズマフレーム径の小さい第１トーチとフレーム径の大
きい第２プラズマの第１トーチと第２トーチを有する２
段トーチが提唱されている（明石和夫：表面技術，Ｖｏ
ｌ．４１，Ｎｏ．５，１９９０，Ｐ１８など）。
ラズマフレーム径の小さい第１トーチとフレーム径の大
きい第２プラズマの第１トーチと第２トーチを有する２
段トーチが提唱されている（明石和夫：表面技術，Ｖｏ
ｌ．４１，Ｎｏ．５，１９９０，Ｐ１８など）。
【０００６】しかしながら、高融点物質や大径の球状粒
子を得るためには上記２段プラズマでは不十分であり、
さらに大熱容量で均一温度範囲の広い高周波熱プラズマ
装置が要望されている。
子を得るためには上記２段プラズマでは不十分であり、
さらに大熱容量で均一温度範囲の広い高周波熱プラズマ
装置が要望されている。
【０００７】そこで本発明は、プラズマの熱容量を有効
に利用し、大粒径の高融点材料の溶融球状化に使用する
場合に安定したプラズマフレームが得られる高周波熱プ
ラズマ装置を提供することを目的とする。
に利用し、大粒径の高融点材料の溶融球状化に使用する
場合に安定したプラズマフレームが得られる高周波熱プ
ラズマ装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の高周波熱プラズマ装置は、被処理物質を加
熱処理する高周波熱プラズマ装置において、第１段、第
２段、第３段、第４段の３段又は４段の多段のプラズマ
を発生する第１、第２、第３、第４の３段又は４段の多
段のトーチを有することを特徴とするものである。
に、本発明の高周波熱プラズマ装置は、被処理物質を加
熱処理する高周波熱プラズマ装置において、第１段、第
２段、第３段、第４段の３段又は４段の多段のプラズマ
を発生する第１、第２、第３、第４の３段又は４段の多
段のトーチを有することを特徴とするものである。
【０００９】このように３段以上の多段のプラズマにす
ることにより均一温度領域を広くし、かつプラズマフレ
ームの軸方向の長さを増すことにより熱容量の有効利用
を図ることができるので高融点物質の処理や大径の溶融
球状化に適する。
ることにより均一温度領域を広くし、かつプラズマフレ
ームの軸方向の長さを増すことにより熱容量の有効利用
を図ることができるので高融点物質の処理や大径の溶融
球状化に適する。
【００１０】また、前記多段のトーチの複数の誘導加熱
コイルのうち、少なくも２個のコイルが直列若しくは並
列に接続されて１電源により電力が付加されるか、ある
いは前記多段のトーチの複数の誘導加熱コイルのすべて
が直列若しくは並列に接続されて１電源により電力が付
加されることが望ましい。
コイルのうち、少なくも２個のコイルが直列若しくは並
列に接続されて１電源により電力が付加されるか、ある
いは前記多段のトーチの複数の誘導加熱コイルのすべて
が直列若しくは並列に接続されて１電源により電力が付
加されることが望ましい。
【００１１】また、前記多段の装置において各プラズマ
フレームが繋がっていることが望ましい。
フレームが繋がっていることが望ましい。
【００１２】従来の高周波熱プラズマ装置は、図５に示
すように石英管５の内部にプラズマガスを流しながら外
周に巻かれた誘導加熱コイル６に高周波電流を付加して
熱プラズマ４を発生させる１段トーチの装置が使用され
ている。
すように石英管５の内部にプラズマガスを流しながら外
周に巻かれた誘導加熱コイル６に高周波電流を付加して
熱プラズマ４を発生させる１段トーチの装置が使用され
ている。
【００１３】しかし、高融点の物質の大径の球体の加熱
球状化のためには大きな熱容量が必要になるが、前記の
１段トーチでは、熱容量を大きくするのに限界があっ
た。
球状化のためには大きな熱容量が必要になるが、前記の
１段トーチでは、熱容量を大きくするのに限界があっ
た。
【００１４】そこでこれを解決するために、前述の図６
に示すような、第１トーチの高温フレーム１を第２トー
チにより拡散してプラズマフレーム２の均一温度の領域
を広くした２段トーチが使用された（明石和夫：表面技
術，Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．５，１９９０，Ｐ１８）。
に示すような、第１トーチの高温フレーム１を第２トー
チにより拡散してプラズマフレーム２の均一温度の領域
を広くした２段トーチが使用された（明石和夫：表面技
術，Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．５，１９９０，Ｐ１８）。
【００１５】本発明は、これをさらに改善し、２段フレ
ームよりさらに大容量でかつ均一温度の領域を広くした
３段以上の多段トーチを有する高周波熱プラズマ装置を
提供するものである。
ームよりさらに大容量でかつ均一温度の領域を広くした
３段以上の多段トーチを有する高周波熱プラズマ装置を
提供するものである。
【００１６】また、上記明石氏らの提唱する従来の２段
トーチは図６に示すように第１トーチと第２トーチの高
周波誘導加熱コイルを、それぞれ別個の電源に接続して
いたので、同図に示すように第１トーチのプラズマフレ
ームと第２トーチのフレームが繋がらないでとぎれるこ
とがある。このため十分なフレームの拡大効果が得られ
ないという問題点があった。
トーチは図６に示すように第１トーチと第２トーチの高
周波誘導加熱コイルを、それぞれ別個の電源に接続して
いたので、同図に示すように第１トーチのプラズマフレ
ームと第２トーチのフレームが繋がらないでとぎれるこ
とがある。このため十分なフレームの拡大効果が得られ
ないという問題点があった。
【００１７】本発明は、図２に示すように多段のトーチ
の各段の誘導加熱コイルをそれぞれ個別の電源により電
力を付加することもできるが、図３、及び４に示すよう
に多段のトーチの複数の誘導加熱コイルの内少なくも２
個のコイルが直列若しくは並列に接続して１電源により
電力が付加するか、あるいは前記多段のトーチの複数の
誘導加熱コイルのすべてを直列若しくは並列に接続して
１電源により電力が付加することが、前記多段の装置の
各フレームを繋がりやすくするために望ましい。これに
より一層フレームの拡大効果を増すことができる。
の各段の誘導加熱コイルをそれぞれ個別の電源により電
力を付加することもできるが、図３、及び４に示すよう
に多段のトーチの複数の誘導加熱コイルの内少なくも２
個のコイルが直列若しくは並列に接続して１電源により
電力が付加するか、あるいは前記多段のトーチの複数の
誘導加熱コイルのすべてを直列若しくは並列に接続して
１電源により電力が付加することが、前記多段の装置の
各フレームを繋がりやすくするために望ましい。これに
より一層フレームの拡大効果を増すことができる。
【００１８】すなわち、本発明の高周波熱プラズマ装置
によれば、従来の２段フレームよりさらに大熱容量で均
一温度領域の広いプラズマフレームを得ることができ
る。
によれば、従来の２段フレームよりさらに大熱容量で均
一温度領域の広いプラズマフレームを得ることができ
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図示の１実施形態
について具体的に説明する。図１は本発明実施形態の高
周波熱プラズマ装置の断面図、図２〜４は各コイルと電
源の接続の例を示す図である。
について具体的に説明する。図１は本発明実施形態の高
周波熱プラズマ装置の断面図、図２〜４は各コイルと電
源の接続の例を示す図である。
【００２０】まず図１に基づき本発明実施形態の高周波
熱プラズマ装置の構成について説明する。本発明実施形
態の熱プラズマによる加熱処理装置は３段プラズマであ
り、第１トーチ１１、第２トーチ２１及び第３トーチ３
１からなる３段プラズマトーチと原料供給手段４１によ
り構成されている。
熱プラズマ装置の構成について説明する。本発明実施形
態の熱プラズマによる加熱処理装置は３段プラズマであ
り、第１トーチ１１、第２トーチ２１及び第３トーチ３
１からなる３段プラズマトーチと原料供給手段４１によ
り構成されている。
【００２１】３段プラズマトーチになる水冷される二重
管構造の石英管（図には一重に図示）１０は、小径の第
１段管１２と中径の第２段管２２と大径の第３段管３２
とが連結された３段円筒になっている。第１、第２、第
３段管、１２、２２、３２の外周には、それぞれ高周波
誘導加熱する第１コイル１７、第２コイル１８、第３コ
イル１９が巻かれ、高周波電源に接続されて高周波電流
が付加されるようになっている。こうして第１、第２、
第３段管、１２、２２、３２がそれぞれ第１トーチ１
１、第２トーチ２１、第３トーチ３１を構成している。
管構造の石英管（図には一重に図示）１０は、小径の第
１段管１２と中径の第２段管２２と大径の第３段管３２
とが連結された３段円筒になっている。第１、第２、第
３段管、１２、２２、３２の外周には、それぞれ高周波
誘導加熱する第１コイル１７、第２コイル１８、第３コ
イル１９が巻かれ、高周波電源に接続されて高周波電流
が付加されるようになっている。こうして第１、第２、
第３段管、１２、２２、３２がそれぞれ第１トーチ１
１、第２トーチ２１、第３トーチ３１を構成している。
【００２２】第１段管１２の上部は水冷の（水冷は図示
しない）トーチヘッド１６に固定され、第３段管３２の
下部は水冷ジャケット（水冷は図示しない）１５に固定
され、トーチヘッド１６と水冷ジャケット１５はタイバ
ー２０により締結されて、石英管１０を保持している。
そして水冷ジャケット１５が図示しない加熱処理装置の
タンクなどに装着されるようになっている。
しない）トーチヘッド１６に固定され、第３段管３２の
下部は水冷ジャケット（水冷は図示しない）１５に固定
され、トーチヘッド１６と水冷ジャケット１５はタイバ
ー２０により締結されて、石英管１０を保持している。
そして水冷ジャケット１５が図示しない加熱処理装置の
タンクなどに装着されるようになっている。
【００２３】トーチヘッド１６の中心に原料供給管４１
が挿通され、円筒のシース管４５が第１段管１２の内周
との間に隙間を持たせてトーチヘッド１６に固定されて
いる。
が挿通され、円筒のシース管４５が第１段管１２の内周
との間に隙間を持たせてトーチヘッド１６に固定されて
いる。
【００２４】トーチヘッド１６にコアガス供給管１３、
クーリングガス供給管１４が設けられ、コアガス供給管
１３からコアガスが供給され、クーリングガス供給管１
４からシース管４５と第１段管１２との隙間を通してク
ーリングガスが供給される。これらのガスは、目的に応
じて適切な種類のガスが選択される。
クーリングガス供給管１４が設けられ、コアガス供給管
１３からコアガスが供給され、クーリングガス供給管１
４からシース管４５と第１段管１２との隙間を通してク
ーリングガスが供給される。これらのガスは、目的に応
じて適切な種類のガスが選択される。
【００２５】前記第１コイル１７、第２コイル１８、第
３コイル１９は、一例として図２〜図４の各種の形態に
接続される。図２の形態ではすべてのコイルが個別の３
電源に接続されている。この方法は各段のプラズマの調
整が容易であるが各段のプラズマが繋がりにくいという
欠点がある。
３コイル１９は、一例として図２〜図４の各種の形態に
接続される。図２の形態ではすべてのコイルが個別の３
電源に接続されている。この方法は各段のプラズマの調
整が容易であるが各段のプラズマが繋がりにくいという
欠点がある。
【００２６】図３の形態では第１コイル１７、第２コイ
ル１８が直列に接続されて１電源に接続され、第３コイ
ル１９が他の１電源に接続されている。この形態は第１
プラズマと第２プラズマが繋がりやすいという利点があ
る。この形態の他の例としては、図示しないが第１コイ
ル１７を１電源に接続し、第２コイル１８、第３コイル
１９を直列に接続して他の１電源に接続することもでき
る。あるいは、第１コイル１７、第２コイル１８、第３
コイル１９のすべてを直列に接続して１電源に接続する
ことも可能である。
ル１８が直列に接続されて１電源に接続され、第３コイ
ル１９が他の１電源に接続されている。この形態は第１
プラズマと第２プラズマが繋がりやすいという利点があ
る。この形態の他の例としては、図示しないが第１コイ
ル１７を１電源に接続し、第２コイル１８、第３コイル
１９を直列に接続して他の１電源に接続することもでき
る。あるいは、第１コイル１７、第２コイル１８、第３
コイル１９のすべてを直列に接続して１電源に接続する
ことも可能である。
【００２７】また、図４の形態では、第１コイル１７、
第２コイル１８が並列に接続されて１電源に接続され、
第３コイル１９が他の１電源に接続されている。この形
態は前記形態と同様に第１プラズマと第２プラズマが繋
がりやすいという利点がある。この形態の他の例として
は、第１コイル１７を１電源に接続し、第２コイル１
８、第３コイル１９を並列に接続して他の１電源に接続
することもできる。あるいは、第１コイル１７、第２コ
イル１８、第３コイル１９のすべてを並列に接続して１
電源に接続することも可能である。
第２コイル１８が並列に接続されて１電源に接続され、
第３コイル１９が他の１電源に接続されている。この形
態は前記形態と同様に第１プラズマと第２プラズマが繋
がりやすいという利点がある。この形態の他の例として
は、第１コイル１７を１電源に接続し、第２コイル１
８、第３コイル１９を並列に接続して他の１電源に接続
することもできる。あるいは、第１コイル１７、第２コ
イル１８、第３コイル１９のすべてを並列に接続して１
電源に接続することも可能である。
【００２８】原料供給管４１は中空パイプをなし、図示
しないホッパーに装入された原料粉末を一端からキャリ
ヤガスにより第２プラズマフレーム２中に供給する。
しないホッパーに装入された原料粉末を一端からキャリ
ヤガスにより第２プラズマフレーム２中に供給する。
【００２９】上記実施形態の構成の高周波熱プラズマ装
置の動作について説明する。まずコアガス、クーリング
ガス供給管１３、１４から石英管（プラズマトーチ）１
０にＡｒ，Ｈ2 などのガスを供給しながら第１、第２、
第３コイル、１７、１８、１９に高周波電流を付加する
と、図１の鎖線で示すように第１、第２、第３プラズ
マ、１、２、３が発生し、第３段管３２の下部側から噴
出する。このとき、第１プラズマの中心部は１０，００
０Ｋもの超高温になり中心と外周の温度差が大きい。本
発明の装置では、この第１プラズマ、第２プラズマ、第
３プラズマが繋がり、第１プラズマが第２プラズマ、第
３プラズマ位置で順次拡大されるので、第３プラズマで
はさらに均一温度領域が広くなる。すなわち、２段プラ
ズマに比してプラズマフレームの均一温度範囲が全体的
に拡がり、とくに軸方向に長くなる。
置の動作について説明する。まずコアガス、クーリング
ガス供給管１３、１４から石英管（プラズマトーチ）１
０にＡｒ，Ｈ2 などのガスを供給しながら第１、第２、
第３コイル、１７、１８、１９に高周波電流を付加する
と、図１の鎖線で示すように第１、第２、第３プラズ
マ、１、２、３が発生し、第３段管３２の下部側から噴
出する。このとき、第１プラズマの中心部は１０，００
０Ｋもの超高温になり中心と外周の温度差が大きい。本
発明の装置では、この第１プラズマ、第２プラズマ、第
３プラズマが繋がり、第１プラズマが第２プラズマ、第
３プラズマ位置で順次拡大されるので、第３プラズマで
はさらに均一温度領域が広くなる。すなわち、２段プラ
ズマに比してプラズマフレームの均一温度範囲が全体的
に拡がり、とくに軸方向に長くなる。
【００３０】［実施例］上記構成の本発明の高周波熱プ
ラズマ装置と図５に示す従来の１段トーチの高周波熱プ
ラズマ装置とを用いて、大粒径（平均粒径２ｍｍ）のＳ
ｉＯ2 の溶融球状化を行った。その結果を図７及び図８
に示す。図７は本発明の３段トーチの装置で球状化した
粉末の外観写真、図８は従来の１段トーチの装置で球状
化した粉末の外観写真である。
ラズマ装置と図５に示す従来の１段トーチの高周波熱プ
ラズマ装置とを用いて、大粒径（平均粒径２ｍｍ）のＳ
ｉＯ2 の溶融球状化を行った。その結果を図７及び図８
に示す。図７は本発明の３段トーチの装置で球状化した
粉末の外観写真、図８は従来の１段トーチの装置で球状
化した粉末の外観写真である。
【００３１】図８に見られるように従来装置で溶融球状
化した結果は、粉末への入熱量不足のため原料粉体が十
分溶融せず球状化率が不十分である。これに対して本発
明の装置で溶融球状化した結果は、図７に見られるよう
に球状化率が向上した粉体が得られた。
化した結果は、粉末への入熱量不足のため原料粉体が十
分溶融せず球状化率が不十分である。これに対して本発
明の装置で溶融球状化した結果は、図７に見られるよう
に球状化率が向上した粉体が得られた。
【００３２】以上述べたように、本発明実施形態の高周
波熱プラズマ装置は、 ３段以上のプラズマにより加熱するので、プラズマ
フレームを拡大して均一温度領域の広いプラズマフレー
ムを得ることができる。 第１プラズマ、第２プラズマ及び第３プラズマのフ
レームが繋がって、プラズマフレームの十分な拡大効果
が得られる。 かつ、プラズマフレームの軸方向の長さを増し、プ
ラズマの熱容量を有効利用することができる。 これ
により、高融点物質の熱処理や大径の溶融球状化が可能
である。
波熱プラズマ装置は、 ３段以上のプラズマにより加熱するので、プラズマ
フレームを拡大して均一温度領域の広いプラズマフレー
ムを得ることができる。 第１プラズマ、第２プラズマ及び第３プラズマのフ
レームが繋がって、プラズマフレームの十分な拡大効果
が得られる。 かつ、プラズマフレームの軸方向の長さを増し、プ
ラズマの熱容量を有効利用することができる。 これ
により、高融点物質の熱処理や大径の溶融球状化が可能
である。
【００３３】上記本実施形態のおいては、３段トーチに
ついて説明したが、４段以上の多段トーチとすることも
できる。４段以上の多段トーチにおいても、電源等の構
成は本実施形態と同様である。
ついて説明したが、４段以上の多段トーチとすることも
できる。４段以上の多段トーチにおいても、電源等の構
成は本実施形態と同様である。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の高周波熱
プラズマ装置によれば、従来方法に比して少ない設備容
量で、かつ均一温度領域の広いプラズマフレームを得る
ことができ、また、プラズマフレームの軸方向の長さを
増すことにより熱容量を有効利用できるので、３段又は
４段プラズマにより従来困難であった高融点物質の大径
の溶融球状化が可能である。
プラズマ装置によれば、従来方法に比して少ない設備容
量で、かつ均一温度領域の広いプラズマフレームを得る
ことができ、また、プラズマフレームの軸方向の長さを
増すことにより熱容量を有効利用できるので、３段又は
４段プラズマにより従来困難であった高融点物質の大径
の溶融球状化が可能である。
【図１】 本発明実施形態の高周波熱プラズマ装置の断
面図
面図
【図２】 本発明の３電源コイル接続の実施形態の図
【図３】 本発明の２電源コイル接続の実施形態の図
【図４】 本発明の他の２電源コイル接続の実施形態の
図
図
【図５】 従来の１段プラズマ装置の１例の図
【図６】 従来の２段プラズマのコイル接続の１例を示
す図
す図
【図７】 本発明実施形態の３段トーチ高周波熱プラズ
マ装置により球状化した粉末の外観写真
マ装置により球状化した粉末の外観写真
【図８】 従来の１段トーチ高周波熱プラズマ装置によ
り球状化した粉末の外観写真
り球状化した粉末の外観写真
１ 第１プラズマフレーム、２ 第２プラズマフレー
ム、３ 第３プラズマフレーム、１０ 石英管（プラズ
マトーチ）、１１ 第１トーチ、１２ 第１段管、１３
コアガス供給管、１４ クーリングガス供給管、１５
水冷ジャケット、１６ トーチヘッド、１７ 第１コ
イル、１８ 第２コイル、１９ 第３コイル、２０ タ
イバー、２１ 第２トーチ、２２ 第２段管、３１ 第
３トーチ、３２ 第３段管、４１ 原料供給管
ム、３ 第３プラズマフレーム、１０ 石英管（プラズ
マトーチ）、１１ 第１トーチ、１２ 第１段管、１３
コアガス供給管、１４ クーリングガス供給管、１５
水冷ジャケット、１６ トーチヘッド、１７ 第１コ
イル、１８ 第２コイル、１９ 第３コイル、２０ タ
イバー、２１ 第２トーチ、２２ 第２段管、３１ 第
３トーチ、３２ 第３段管、４１ 原料供給管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 横田 誠二
神奈川県平塚市田村5893番地 高周波熱錬
株式会社内
(72)発明者 川嵜 一博
神奈川県平塚市田村5893番地 高周波熱錬
株式会社内
Ｆターム(参考） 4K018 BB03 BC06
Claims (4)
- 【請求項１】 被処理物質を加熱処理する高周波熱プラ
ズマ装置において、第１段、第２段、第３段、第４段の
３段又は４段の多段のプラズマを発生する第１、第２、
第３、第４の３段又は４段の多段のトーチを有すること
を特徴とする高周波熱プラズマ装置。 - 【請求項２】 前記多段のトーチの複数の誘導加熱コイ
ルのうち、少なくとも２個のコイルが直列若しくは並列
に接続されて１電源により電力が付加されることを特徴
とする請求項１に記載の高周波熱プラズマ装置。 - 【請求項３】 前記多段のトーチの複数の誘導加熱コイ
ルのすべてが直列若しくは並列に接続されて１電源によ
り電力が付加されることを特徴とする請求項１に記載の
高周波熱プラズマ装置。 - 【請求項４】 前記多段の装置の各フレームが繋がって
いることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載
の高周波熱プラズマ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001363616A JP2003168594A (ja) | 2001-11-29 | 2001-11-29 | 高周波熱プラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001363616A JP2003168594A (ja) | 2001-11-29 | 2001-11-29 | 高周波熱プラズマ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003168594A true JP2003168594A (ja) | 2003-06-13 |
Family
ID=19173927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001363616A Pending JP2003168594A (ja) | 2001-11-29 | 2001-11-29 | 高周波熱プラズマ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003168594A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008544454A (ja) * | 2005-06-17 | 2008-12-04 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | 増強装置及びその使用方法 |
| US8263897B2 (en) | 2002-12-12 | 2012-09-11 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Induction device |
| US8289512B2 (en) | 2005-06-17 | 2012-10-16 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| US8622735B2 (en) * | 2005-06-17 | 2014-01-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Boost devices and methods of using them |
| US8786394B2 (en) | 2010-05-05 | 2014-07-22 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Oxidation resistant induction devices |
| US8829386B2 (en) | 2010-05-05 | 2014-09-09 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Inductive devices and low flow plasmas using them |
| US9259798B2 (en) | 2012-07-13 | 2016-02-16 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
| US20190061005A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-02-28 | General Electric Company | High Quality Spherical Powders for Additive Manufacturing Processes Along With Methods of Their Formation |
-
2001
- 2001-11-29 JP JP2001363616A patent/JP2003168594A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8742283B2 (en) | 2002-12-12 | 2014-06-03 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Induction device |
| US8263897B2 (en) | 2002-12-12 | 2012-09-11 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Induction device |
| US9360430B2 (en) | 2002-12-12 | 2016-06-07 | Perkinelmer Health Services, Inc. | Induction device |
| US8622735B2 (en) * | 2005-06-17 | 2014-01-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Boost devices and methods of using them |
| JP2008544454A (ja) * | 2005-06-17 | 2008-12-04 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | 増強装置及びその使用方法 |
| US8896830B2 (en) | 2005-06-17 | 2014-11-25 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| US8289512B2 (en) | 2005-06-17 | 2012-10-16 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| US9847217B2 (en) | 2005-06-17 | 2017-12-19 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Devices and systems including a boost device |
| US8786394B2 (en) | 2010-05-05 | 2014-07-22 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Oxidation resistant induction devices |
| US8829386B2 (en) | 2010-05-05 | 2014-09-09 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Inductive devices and low flow plasmas using them |
| US10096457B2 (en) | 2010-05-05 | 2018-10-09 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Oxidation resistant induction devices |
| US9259798B2 (en) | 2012-07-13 | 2016-02-16 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
| US9686849B2 (en) | 2012-07-13 | 2017-06-20 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
| US20190061005A1 (en) * | 2017-08-30 | 2019-02-28 | General Electric Company | High Quality Spherical Powders for Additive Manufacturing Processes Along With Methods of Their Formation |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050411 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050517 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050927 |