JPS5957927A - プラズマト−チを使用した光フアイバの線引き - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、光フアイバ製造方法および装置の改良に関
するものであシ、特に光学プレフォームから線引きされ
る改良された光ファイバを得ることのできる製造方法お
よび装置に関するものである。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

光学プレフォームから光ファイバを線引きする現在の技
術においてはプレフォームの一部を線引き温度に加熱す
る必要がある。ガラスフィラメントがプレフォームの加
熱された部分からＣＯ２レーザ、抵抗或は誘導加熱炉お
よび０２／Ｈ２トーチのような通常の加熱源を使用して
光ファイバを形成するように線引きされる。所望の光伝
送特性および機械的特性はプレフォームから線引きされ
る光ファイバの直径を注意深く調整することによって与
えられる。その全長に亘って一様な光伝送特性を有する
光ファイバを得るためには光ファイバの直径はファイバ
の長さに沿って一定に保持されることが不Ｅ］欠である
。

ファイバの線引き温度および張力、線引き速度および線
引きされたファイバの保護のような付加的なファクタは
全て線引きされたファイバの光学的特性に彰脅を与える
。

ファイバの線引き張力は最終的なガラスファイバの光伝
送特性に著しい影響を与える。線引き温度は線引きされ
たファイバの光学的および機械的特性の両者に影響する
から、最良の線引き温度が所望の特性を有する理想的な
ファイバを得るために使用されなければならない。線引
凍 き温度は線引き温度、プレフォームおよびファイバの直
径、およびプレフォームの供給速度などのようなその他
のファイバ線引きパラメータと関係する。それ故、主と
して線引き温度に依存するファイバの線引き張力は注意
深く制御されなければならない。それ故、例えば５０グ
ラムに近い銀引き張力が非常に低損失の光ファイバの線
引きに使用される。

他方、例えば５ｇ以下の低い線引き張力は長い高張力フ
ァイバの線引き中維持される。低い線引き張力は晶・１
い線引き温度を利用して得ることができる。しかしなが
ら高い線引き温度にするとシリカの蒸発度が高くなる。

最良の線引き張力に関する心引き洗１度は線引き条件に
依存する。

光ファイバの線引きにおいてはファイバの引き出される
部分のプレフォーム中への熱フラツクスが線引＠過程中
のみならずプレフォームのそれぞれの断面における境界
の１点１点でできるだけ一定であることが重装である。

それはグレアオームの粘度したがってファイバ中へのグ
レアオームの材料の流れる割合がそれに依存するからで
ある。プレフォーム中への熱フラツクス、したがってプ
レフォーム材料の温度および粘度が特定の断面の周辺方
向で変化すれば線引きされたファイバの断面は円形でな
い不規則な形とな９、付随的にファイバの光伝送特性を
劣化させる。塵埃粒子カウンタを使用してしばしば検査
されるクリーンルーム製函を使用することによって清浄
な雰囲気が維持される。ファイバの強度を低下させるフ
ァイバ表面の不純物汚染臨の１つは加熱源自身であシ、
加熱源は一般に広く使用されている抵抗或は誘導加熱炉
中のカーボンおよびジルコニアのような加熱素子からの
異物粒子を発生する。代表的な経済的な’０１浄な熱源
は削水素焔トーチであシ、それにおいてはフィルターで
ろ過された酸素および水素ガスが混合され点火されて酸
水累焔を形成する。

トーチの形状は比較的大きな外径のプレフォームを使用
するファイバの線引き中、ネックダウン部分の形成され
る均一な熱フラツクスを供給するために＃多食の形にさ
れる。

酸水素焔トーチを使用する通常の格造の線引き装置では
焔からプレフォームへの熱フラツクスは周囲の空気の流
れのような周囲環境の影〜〃と焔の形状の両者によって
不規則である。この欠点を改善するだめにプレフォーム
の軸を囲んで分布して１把１６″され、紐引きのために
招料を流動性にするように加熱する部分の方向に向いて
いる初数の酸水素焔トーチを使用することが提案されて
いる。しかし、この場合でもプレフォームへの熱フ・ラ
ックスは川辺の位ｆｉ、、Ｉ、によって変化する。それ
数組）引き軸の周囲の相対的な角度変位はしばしばプレ
フォームとトーチ間、或はトーチ相伍間で伝達され、そ
れ故フ０レフオームの周縁の特定点においてプレフォー
ムへ伝達すれる熱の知は時間的に平均化される。しかし
ながら、そのような相対的な角度変位を必要とすること
は線引き装置の＊ｆ４造を複雑にし、線引きされたファ
イバの品ηに影響する別の問題を生じさせる。

〔発明の概安〕

したがって、この発明の一般的な目的はプレフォームか
ら光ファイバを線引きするために使用する通常の加熱源
の欠点を避けることである。

さらに説明すれば、この発明の目的は従来の上述の型式
の加熱源の欠点を有しない加熱源を開発することである
。

この発明の別の目的は、加熱源および均一な寸法の光フ
ァイバが引き出されるプレフォームとの間の線引き＠１
１の周囲の相対的角度変位を必要としないように加熱源
を杼メ成することである。

これらの目的および以下の説明より明らかとなるその他
の目的を達成するために、この発す］の４１徴とするプ
レフォームから光ファイバを面ｊ引きするだめに使用す
る加熱装置＆は、光ファイバの線引き動作中に光ファイ
バが引き出されるプレフォームの部分を受入れている力
ｎ熱領域中にアルゴンまたはアルゴンと酸素の混合ガス
のようなプラズマ形成ガスの雰囲気を維持する手段と、
加熱領域中にある雰１７Ｊ」気中にプレフォームの光フ
ァイバが引き出される部分を囲むリング状プラズマを誘
起させる手段とを共（＃ｉ＋　している。

このイ茜成による特別の効−３！ｄ１、リング状のプラ
ズマは）０ラズマの周縁にＤ；す、かつ最初のウォーミ
ングアッグ期間以後の時間に亘って非常に一様な熱出力
を有する清浄な熱源を構成していることである。さらに
、プラズマは所望の加熱領域のみに限蕾することができ
て、加熱されてはならないプレフォームの部分や加熱装
置″の部分および特に光ファイバをプラズマの加熱効果
から保縛することができる。プラズマを使用することの
付加的な効果としては、複雑な処理が必要で環境的な負
相となる副生成物を全く生じないことが掌けられる。プ
ラズマのリング状或はドーナツ状の形状は線引きされた
光ファイバ祠料が溶融しないように作用する。

この発明の好ましい構成は、雰囲気を維持する手段が加
熱領域を通って流れるプラズマ形成ガスの環状流を形成
する手段を備えることによって得られる。このようにす
ることによって、加熱領域におけるプラズマ形成ガスの
供給は連続的に補充される。この構造ではこの環状流を
形成する手段が共通の中心軸を有し一方が他方を囲んで
その間に環状の流体通路を画定する少なくとも２個の管
状部材を具備するプラズマトーチを備えておシ、その流
体通路の上流端は加熱領域から遠い側にあシ、下流端は
加熱領域に向って開放されてそれを通ってプラズマ形成
ガスが流され、他方の（内側の）管状部材はその内部を
通って線引きされる光ファイバの通路と実質上同軸の内
部通路を画定しておシ、さらにラ プラズマ形成ガスを流体通路の上流端に導入する１個以
上の入力ポートが設けられている。

この発明の装置の別の実施態様においては、プラズマを
周囲の影響から渡藪する手段が設けられ、そのためプラ
ズマ中に不安定性が導入されることがない。遮蔽手段と
して別の管状部拐が設りられ、それは前記一方の管状部
拐を同軸的に囲んでおり、かつ流体通路の下流端を越え
て下流方向に延在する延長部を有し、それが少なくとも
加熱領域の周囲を囲んでいる構造にすると効果的である
。

プラズマトーチは前記別の賀状部月の少なくとも延長部
をその外側から冷却する手段を備えるとよい。そのよう
な冷却手段は前記別の管状部材の少なくとも延長部の周
囲を囲む外側の冷却室を画定する手段と、冷却室を通っ
て冷却用流体を流通させる手段とを具備しているとよい
。

冷却用流体の流通手段として冷却室に冷却液を導入し、
冷却室からそれを排出する手段を設けるとよい。

この発明の別の実施態様によれば遮蔽手段はプラズマを
同軸的に囲む遮蔽ガスの環状流を通過させる手段を備え
ている。遮蔽ガスはアルゴン、酸素、窒素、およびそれ
らの混合ガスからなる群から選択するとよい。環状流を
通過させる手段は前述の別の管状部材（延長部はあって
もなくてもよい）を備えることが好ましい。もし延長部
がある場合にはこの延長部は加熱領域を通過する遮蔽ガ
スの流れを画定し、それによって冷却される。延長部は
この別の管状部材の残部よシ大きな直径を持つことが一
般に好ましい。

プラズマが確実に所望のリング状またはドーナツ状の形
状を持つために、さらに冷却ガス、特に窒素ガスの流れ
を加熱領域とグレアオームとの間に冷却ガスがグレアオ
ームを同軸的に囲むように冷却ガス流を導く手段を設け
るとよい。

そのような冷却ガス流を導く手段は線引きされている光
ファイバを囲む通路を通って加熱領域の中心部に冷却が
スを導く手段を備えているとよい。線引きされた光ファ
イバが冷却ガスによって過度に冷却される可能性を避け
るために、冷却ガスを導く手段は、内部通路中に設けら
れ、光ファイバのための内側通路と冷却ガスのだめの外
側の環状通路とにこの内部通路を分けるさらに別の管状
部材を備え、この外側の環状通路中にその縦方向に加熱
領域の中心部に向って流すように冷却ガスを導入する手
段を設けるとよい。

この発明はまた光ファイバの線引き中にプレフォームの
光ファイバの引き出される部分を加熱する方法に関する
ものであシ、その方法は、光ファイバの線引き栄光ファ
イバが引き出されるプレフォームの部分を凹む加熱領域
中にプラズマ形成ガスの雰囲気を維持し、加熱領域にあ
る雰囲気中にプレフォームの前記部分を囲んでリング状
のプラズマを誘起させることを特徴としている。プラズ
マ形成ガスの雰囲気を維持するだめに加熱領域を通って
流れるプラズマ形成ガスの環状流を形成することが効果
的である。

この発明の方法の実施態様としてはプラズマを同軸的に
囲む遮蔽ガスの環状流を通過させ、遮蔽ガスの流れの外
側を限定し、加熱領域とプレフォームの前記部分との間
に後者を同軸的に囲んで流れて通過する冷却ガス流を導
くようにすることができる。

〔発明の実施例〕

まず第１図を参照すると、グレアオーム２ノは適当な支
持体２０に懸垂されておシ、支持体２０はプレフォーム
２１から光ファイバ２２を線引きするのに適当した位置
にプレフォーム２ノを保持している。適切な線引き位置
ではコイル３３を流れる高鞠波電流によシ誘起されるプ
ラズマ３ノの近くにプレフォームのチー・９−を有する
部分２３が位置していることが要求される。例えば２３
　ＭＨｚ　（メガヘルツ）の周波数で適切なリング状プ
ラズマ３ノが生成される。

光ファイバ２２はプレフォームから線引き装置によって
線引きされ、その装置は通常のものでよいのでここでは
図示しない。アルゴン或はアルゴンと酸素の混合ガスの
ようなプラズマ形成（維持）ガスが入力ポート４１を通
って２個の同軸の流体通路４９．５０の内側の通路５０
中に導入され、それらの通路４９．５０は外側管４５、
中間管４６内側管４７の間に形成されている。ファイバ
２２は内側％’４ｖの内（１１１１通路５）を通過する
。

プラズマ３ノに関連する高温は外側管４５の上部のネッ
ク部分すなわち延長部５２に対する何等かの形式の冷却
を心太とする。しだがってこの発明の好ましい実施態様
である図示の実、流側では遮蔽ガスが入力ポートにップ
ル）４２を通って中間管４６と外側管４５との間の環状
の流体通路４９に導入される。遮蔽ガスおよびプラズマ
形成ガスは同軸の流体通路４９およびｌｙＯを通って上
方に送られてリング状プラズマ３ノの領域に入る。もし
も所望ならばファイバ２２の光学特性に殆ど影響を及は
さない窒素のような冷却ガスが中央の通路５ノを通って
プラズマ３ノの中心領域に導入され、プラズマ３ノをす
でに線引きされたファイバ２２から分離し、後者が溶融
しないようにする。

場合によって追加的な冷却が所望されることもある。し
たがって、図示のように延長部分５２を囲んで短い大き
な直径の管４８を設けて冷却室５３を形成してもよい。

冷却室５３は上方が開放していても閉じていてもよい。

水のような冷却用流体が入口４４から冷却室５３に導れ
はプラズマトーチ装置のノズル或は延長部分５２が溶融
することを阻止する。

成る動作条件ではガスの流れの位置を反対にすることも
可能である。すなわち、プラズマ形成がス体は流体通路
４９に導入され、遮蔽ガスはプレフォーム２ノ或はその
部分２３をプラズマ３ノによる過剰な熱から保護するた
めに通路５０に導入されることもできる。もちろん、こ
のような場合には延長部分５２の冷却は遮蔽ガス以外の
別の方法、例えば上述の水冷によって行なわれなければ
ならない。

しかしながら、この発明において外側管４５および、ま
たはその延長部分（またはネック部分）５２の冷却をプ
レフォーム２ノおよび、またはその部分２３の冷却と同
時に通路５ノを通って一番内側のガス流を導入しないで
遮蔽ガスによって冷却することも可能である。この目的
を達成するのに適したプラズマトーチは第２図に示され
てお９１図によって第１図と同−累子には同じ参照符号
が使用されている。

第２図に示すようにプラズマトーチはこΩ実施例では管
部材４５，４６．４７の外に管部材５４を備え、それは
部分的に管部材４７の内部に位置し、それと同軸でそれ
との間に別の流体通路５５を形成している。アルゴン或
は窒素のような冷却ガスは入力ポートにノズル）５６を
通って流体通路５５に導入される。この冷却ガスは流体
通路５５を出た後プレフォーム２ノの線引き部分２３を
通過して流れてそれを冷却し、それがプラズマ３ノによ
って過剰に加熱されないように保護する。ファイバ２２
は追加した管部材５４によって流体通路５５から分離さ
れている通路５ノを通って線引きされる。このようにし
て新しい線引されたばかシのファイバ２２はプラズマ３
ノを含む加熱領域を離れてから冷却ガス流によって過度
に冷却されないように保護される。

第２図はまた外側管部材４５の延長部分５２が管部材４
５の残部の直径よシ大きな直径の円筒状部分５６を備え
ていることが示されている。

その部分５６は実質上円錐状の転移領域５７で管部材４
５の残部の部分と連結されている。転移領域５２はプラ
ズマ３ノを含む加熱領域の下流に設けられ、その下流方
向には直径の拡大された円筒状部分５６が連結されてい
る。このようにしてトーチの流通断面積は加熱領域の下
流で増大してこの領域を通るガスの流速の減少を生じさ
せ、それによってこの領域を通るガスの滞留時間を増加
させ、したがってガスの単位体積当シの延長部分５２か
らの熱の転移量を増加させている。

所望のプラズマのフレームの形状を得るために高周波発
生器の入力電力とガスの流速を最適Ｃ局 にすることによって過電流・々ターンが制御されなけれ
ばならない。これらのノやラメータはリング状プラズマ
が得られるように注意深く調整されなければならない。

リング状プラズマを得るために適当な・皆うメータの１
例は例えば次のようなものである。

プラズマ形成ガスとしてアルゴンだけが使用されるとき
、高周波発生器はその最大出力２０ｋＷ　（キロワット
）の約ｌＯ乃至ｌｌ係に等しい出力である。グリッド電
流は約１１０　ｍＡ　（ミリアンにア）、陽極電圧は約
５．８　ｋＶ　（キロゲルト）、陽極電流は約０．４　
Ａ　（アンペア）であシ、周波数は２３．６　ＭＨｚで
あった。高周波源の電力出力はアルゴンと酸素が５０対
５０の混合率のプラズマ形成ガスを使用したときには約
１２乃至１３優に増加された。

第２図に示した構造のプラズマトーチにおける管部材４
５，４６．４７および５４の寸法の１例を示せば次のと
おシである。一番外側の管部材４５はその主体部分の外
径２８Ｂ、壁厚１．０瓢、延長部分５２は外径３５ｍで
あシ、次の内側（中間）管部材４６は外径２５ｍ、壁厚
１．０制であシ、その内側の管部材４７は外径１２咽、
壁厚１．　Ｏｍｍであシ、−省内側の管部材５４は外径
が７ｍｍ、壁厚が１．０鰭である。同様の寸法は第１図
のプラズマトーチでも同様に使用できる。プラズマトー
チ中でのプラズマ形成ガスのアルゴン或はアルゴンと酸
素との混合ガスの流速は、２０　ｐ、ｓ、１．の圧力で
０．５乃至１．Ｏｅ（リットル）７分のアルゴンおよび
、まだは２５　ｐ、ｓ、１．の圧力で０．５乃至１．　
ＯＡ　７分の酸素、全体で約１．０−ｅ／分の流速であ
る。流体通路４９の冷却ガスは２Ｑ　ｐ、ｓ、ｉ、の圧
力で１２．０乃至１７．ＯＡ／分のアルゴンおよび、ま
だは２５ｐ、ｓ、ｉ、の圧力で５．０乃至１０．ＯＡ／
分の酸素、全体で約１７１／分の流速である。流体通路
５５の冷却ガスは２０　ｐ、ｓ、ｉ、の圧力で約２乃至
３２／分のアルゴンまたは窒素である。

入力ボート４１，４２．および、または５６は外径約４
ｍ、壁厚的１ｍであった。各通路４９．５０および、ま
たは、５５から加熱領域への各種ガスの均一に分布した
流れを得るために入力ポート４１，４２．５６は第３図
に示すように各流体通路４９，５０．５５に対して略略
接線方向に設けられる。このようにして各ガスは周縁方
向の運動成分のみ或はその成分が主体の状態で各通路４
９．５０．５５に入り、それ故ガスは各通路の断面全体
に亘って均−一分布し、一方それらのガスの加熱領域の
方向への運動は各通路の上流端と加熱領域との間の圧力
差によって支配される。一方運動の周縁方向成分は各通
路の下流端にそれぞれのガスが到着する前に殆と抑圧さ
れ或は消失する。したがってプラズマ３ノは擾乱されな
い環境で形成される。

入力ポート４１，４２．５６は第３図では各通路５０，
４９．５５中へ入るガスに渦の発生源を与えるように位
置した状態で示されているが、入力ポート４１，４２．
５６の１つ、特に第１のものの方向を変化させ、反対方
向の渦がそこに生じるようにすることもできる。

リング状プラズマはドーナツ形のリングの中心部に低温
の領域を有しておシ、それ故プレフォーム２ノおよび特
に新しい線引きされたファイバ２２が過度に加熱される
ことはない。

以上この発明の原理を特定の装置に関連して説明したが
、この説明は単なる例示に過ぎないものであり、特許請
求の範囲に記載された発明の技術的範囲を制限するもの
ではないことを明瞭に理解すべきである。

【図面の簡単な説明】

ｉ１図ｉｊ：こｏ発明の１実施例のプラズマトーチの縦
断面図であシ、第２図は別の実施例の縦断面図であシ、
第３図は第２図の線ＩＩＩ−Ｉｔに沿った横断面図であ
る。 ２０・・・支持体、２１・・・ブレフオーム、２２・・
・光ファイバ、３ノ・・・プラズマ、３３・・・ｉｆｌ
［コイル、４１，４２．５６・・・入力ポート、４５゜
４６．４７．５４・・・管部材、４９，５０．５）。 ５５・・・通路。 出願人代理人　　弁理士　鈴　江　武　彦■、事件の表
示 特願昭５８−１１１９９９号 ２、発明の名称 プラズマトーチを使用した光ファイバの線引き３、補正
をする者 事件との関係　特許出願人 インターナショナル・スタンダード・ エレクトリック・コーポレイション ４、代理人 ５、補正命令の日付 昭和５８年９月２７日 凶凹Ｖ牙畳（ビ１谷に震災なし）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　光ファイバ線引き動作中に光ファイ・寸がる
   手段と、 前記加熱領域中にある雰囲気中にプレフォームの前記部
   分の周囲を囲むリング状のプラズマを誘起する手段とを
   具備することを特徴とするプレフォームから光ファイノ
   々を線引きするだめの加熱装置。 （２）前記維持する手段は前記加熱領域を通って流れる
   プラズマ形成ガスの環状流を形成する手段を備えている
   特許請求の範囲第１項記載の装置。 （３）　　Ｔｈ１ｌ記環状流を形成する手段は共通の中
   心軸を有し一方が他方を同軸的に囲んでその間に鉋状の
   ０１罰１体通路を画定する少なくとも２個の管状部層を
   有するプラズマトーチを共倫し、前Ｂ已環状の流体通路
   の上流端は前記加熱領域から遠い側にあり、下流端は加
   熱領域に開口してそれを通ってプラズマ形成ガスが流さ
   れ、前記管状部層の他方のものはそれと銘々同軸にそれ
   を通って線引きされる光ファイバの内部通路をｕｌｉｉ
   定しておシ、前記流体通路の上流部分にプラズマ形成ガ
   スを導入する１個以上の入力ボートが設けられている特
   許請求の範囲第２項記載の装置。 （４）プラズマを周囲の影響から鵡蔽する手段が設けら
   れている！［！を許粕求の範囲第３項記載の装置。 （５）前記遮蔽する手段は前記一方の有状部拐を同軸的
   に囲んで設けられた管状部材を備え、その管状部材は少
   なくとも前記力（ｊ熱伸域の周囲を囲むように前記流体
   通路の下流端を越えて下流方向に延在する延長部を備え
   ている住為オ゛１−請求の＠）門弟４項記載の装置。 （６）前記延長部を有する管状部材の少なくとも延長部
   を外部から冷却する手段を（Ｉｉｉｉえている特許請求
   の範囲第５項記載の装置。 （７）前記冷却手段が前記管状部材の延長部を囲み冷却
   室を画定する手段と、この冷却室に冷却流体を流通させ
   る手段とを備えている特許請求の範囲第６項記載の装置
   。 （８）前記冷却流体を流通させる手段は前記冷却室に冷
   却流体を導入し、冷却室からそれを取り出す手段を備え
   ている特許請求の範囲第７項記載の装置。 （９）前記遮蔽する手段はプラズマの周囲に同軸状に遮
   （＋Ｕガスの環状流を通過させる手段を備えている特許
   請求の範囲第４項記載の装置。 （ＩＩＪ　　前記遮蔽ガスがアルゴン、酸素、窒素およ
   びそれらの混合ガスの群から選ばれたガスである特許請
   求の範囲第９項記載の袋筒。 （ｌυ　前記遮蔽ガスの環状流を通過させる手段は前記
   一方の管状部材を同軸的に囲んでそれとの間に遮蔽ガス
   を流す流体通路を画定する別の管状部側を備え、この管
   状部制による流体通路の上流端に１１Ｓ蔽ガスを導入す
   るための１以上の入力ポートが設けられている特許請求
   の範囲第９項記載の装置１ｔ０ ＜１２　　前記遮蔽する手段の前記別の管状部材が延長
   部を侃え、この延長部は下流方向に前記流体通路の下流
   端を越えて延在して加熱領域を囲み、加熱領域を通過し
   冷却する遮蔽ガスの流れを画定している特許請求の範囲
   第１１項記載の装置。 （１濁　　前記延長部は前記別の管状部材の残部よシ直
   径が拡大されている特許請求の範囲第１２項記載の装置
   。 ０を　少なくとも前記別の管状部材の延長部を外部から
   冷却するだめの追加の冷却手段を備えている特許請求の
   範囲第１２項記載のｐｔｔ。 （Ｉ５１　　前記追加の冷却手段は前記別の管状部材の
   少なくとも前記延長部を囲みその外側に冷却室を画定す
   る手段とこの冷却室を通って冷却用流体を流す手段とを
   具備している特許請求の範囲第１４項記載の装置。 （１６）　　前記冷却用流体を流す手段は前記冷却室に
   冷却用流体を導入し、冷却室からそれを排出する手段を
   備えている特許請求の範囲第１５項記載の装置。 （１７）前記加熱領域とプレフォームとの間に後者を同
   軸的に囲む冷却ガス流を導入する手段を具備している特
   許請求の範囲第９項記載の装置。 （１槌　　前記冷却ガス流を導入する手段は線引きされ
   た光ファイバを囲む内部通路を通って加熱領域の中心に
   前記冷却ガス流を導く手段を備えている特許請求の範囲
   第１７項記載の装置。 （１！Ｉ　　前記冷却ガス流を導入する手段は前記内部
   通路に設けられ、この内部通路を光ファイバのだめの内
   部通路と冷却ガスのだめの同軸環状通路に分けるさらに
   別の管状部制を具備し、前記冷却ガス流を導く手段は前
   記同軸環状通路を通って加熱領域の中心に冷却ガスを流
   すために環状通路に冷却ガスを導入する手段を具備して
   いる特許請求の範囲第１８項記載の装装置。 （２（珍　　前記冷却ガスが窒素である特許請求の範囲
   第１項記載の装置。 Ｑｌ）前記プラズマ形成ガスがアルゴンである特許請求
   の範囲第１項記載の装置。 （イ）前記プラズマ形成ガスがアルゴンと酸素との混合
   ガスである特許請求の範囲第１項記載の装置。 （至）　光ファイバの線引き動作中に光ファイバが引き
   出されるプレフォームの部分を囲む加熱領域中にプラズ
   マ形成ガスの雰囲気を維持し、加熱領域中にある雰囲気
   中にプレフォームの前記部分を囲んでリング状のプラズ
   マを誘起させることを％徴とするプレフォームの光ファ
   イバを線引きする部分の加熱方法。 （ハ）加熱領域を通って流れるプラズマガスを特徴とす
   る特許請求の範囲第２３項記載の方法。 （イ）プラズマを同軸的に囲んで遮蔽ガスの環状流を通
   過させる特許請求の範囲第２３項記載の方法。 （ハ）遮蔽ガスの流れの外側を画定する％咋請求の範囲
   第２５項記載の方法。 （ロ）加熱領域とプレフォームの光ファイバを引き出す
   部分との間に後者を通過して流れる冷却ガス流を特徴と
   する特許請求の範囲第２３項記載の方法。