JP2013508144A5 - - Google Patents

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本願で引用した全ての参照文献及び刊行物は、本開示と完全には矛盾することのない程度まで、その全てが引用によって本開示に明白に組み込まれる。本明細書において特定の実施形態が例示及び説明されてきたが、多様な代替及び/又は同等の実施が、本開示の範囲から逸脱することなく、図示され説明された特定の実施形態と置き換えられ得ることは、当業者には理解されるであろう。本出願は、本明細書で説明された特定の実施形態のいかなる翻案又は変形をも包含すべく意図されている。したがって、本開示が「特許請求の範囲」及びその同等物によってのみ限定されることを、意図するものである。
以下に、本願発明に関連する発明の実施形態について列挙する。
[実施形態1]
傾斜ナノボイド含有コーティングの製造方法であって、
溶媒中に重合性物質を含む第1の溶液を基材上にコーティングすることと、
前記コーティングの第1の領域に近接した第1の環境、及び前記コーティングの隣接領域に近接した異なる第2の環境を提供することと、
前記重合性物質を少なくとも部分的に重合して、第2の溶液で充填されている複数のナノボイド及び前記第2の溶液と共連続性である不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、を含み、
前記コーティングの前記第1の領域に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記コーティングの前記隣接領域に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも小さく、
前記第2の溶液から前記溶媒の大部分を除去することと、を含む、方法。
[実施形態2]
前記第1の環境が重合禁止剤を含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態3]
前記重合禁止剤が、酸素、ヒドロキノン、フェノチアジン、若しくはピペリジン、又はこれらの組み合わせ若しくは誘導体を含む、前記実施形態2に記載の方法。
[実施形態4]
前記第1の領域に近接した酸素濃度が、前記第2の領域に近接した酸素濃度よりも高い、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態5]
前記第1の領域の重合開始剤濃度が、前記隣接領域の重合開始剤濃度よりも低い、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態6]
前記第1の溶液中に化学線吸収物質を更に含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態7]
前記第1の溶液をコーティングすることが多層コーティングを含み、前記第1の溶液が異なる組成物を有する複数の層を含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態8]
前記複数の層の少なくとも2つが、異なる濃度の光開始剤を含む、前記実施形態7に記載の方法。
[実施形態9]
前記コーティングされた第1の溶液に与えられる場を更に含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態10]
前記場が、磁場、電界、若しくは温度場、又はこれらの組み合わせを含む、前記実施形態9に記載の方法。
[実施形態11]
前記重合性物質が架橋性物質を含み、少なくとも部分的に重合することが、前記架橋性物質を架橋することを含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態12]
前記溶媒が、少なくとも2種類の有機溶媒のブレンドを含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態13]
前記溶媒の大部分を除去することが、熱オーブンの中で乾燥すること、赤外光源若しくはその他の放射光源で乾燥すること、真空乾燥、ギャップ乾燥、又はこれらの組み合わせを含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態14]
前記第1の溶液の重量パーセント固形分が約10%を超える、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態15]
前記第1の溶液の重量パーセント固形分が、約10%〜90%、約10%〜60%、又は約30%〜50%である、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態16]
前記第1の溶液がナノ粒子を更に含み、前記ナノ粒子の少なくとも一部が、前記重合工程の間に前記不溶性ポリマーマトリックスに結合する、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態17]
前記ナノ粒子が表面修飾ナノ粒子を含む、前記実施形態16に記載の方法。
[実施形態18]
前記表面修飾ナノ粒子が、反応性ナノ粒子、非反応性ナノ粒子、又はこれらの組み合わせを含む、前記実施形態16に記載の方法。
[実施形態19]
前記反応性ナノ粒子の大部分が、前記不溶性ポリマーマトリックスと化学結合を形成する、前記実施形態18に記載の方法。
[実施形態20]
前記非反応性ナノ粒子の大部分が、前記不溶性ポリマーマトリックスと物理的結合を形成する、前記実施形態18に記載の方法。
[実施形態21]
前記重合性物質と前記ナノ粒子の重量比が、約30:70〜約90:10の範囲である、前記実施形態16に記載の方法。
[実施形態22]
前記重合性物質を少なくとも部分的に重合することが、前記第1の溶液を化学線で照射することを含む、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態23]
前記第1の溶液が光開始剤を更に含む、前記実施形態22に記載の方法。
[実施形態24]
前記化学線が紫外線(UV)を含む、前記実施形態22に記載の方法。
[実施形態25]
前記紫外線が、少なくとも1つの発光ダイオード(LED)によって生成される、前記実施形態22に記載の方法。
[実施形態26]
前記少なくとも1つのLEDが、365、385、395又は405ナノメートルのピーク波長を含む、前記実施形態25に記載の方法。
[実施形態27]
前記第1の領域が、前記コーティングの第1の表面に近接しており、前記隣接領域が、前記コーティングの反対面に近接している、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態28]
前記基材がロールの上に提供され、前記コーティング工程、前記少なくとも部分的な重合工程、及び前記除去工程が連続的に行われる、前記実施形態1に記載の方法。
[実施形態29]
傾斜低屈折率コーティングの製造方法であって、
基材の表面上に光開始剤をコーティングすることと、
紫外線(UV)硬化性物質と、
溶媒と、
複数のナノ粒と、を含む、分散液を前記光開始剤の上にコーティングすることと、
前記紫外線硬化性物質を少なくとも部分的に重合するために前記分散液を紫外線で照射して、前記複数のナノ粒子が結合し、前記重合性物質が枯渇している前記分散液と前記ナノ粒子とで充填されている複数のナノボイドを含む、不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、を含み、
前記基材の前記表面に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記不溶性ポリマーマトリックスの反対面に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも大きく、
前記重合性物質を少なくとも部分的に重合した後、前記溶媒の大部分を前記分散液から除去することと、を含む、方法。
[実施形態30]
前記紫外線硬化性物質が架橋性物質を含む、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態31]
前記ナノ粒子が、ポリマーマトリックスとの化学結合を形成する反応性ナノ粒子を含む、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態32]
前記溶媒が、少なくとも2種類の有機溶媒のブレンドを含む、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態33]
前記溶媒の大部分を除去することが、熱オーブンの中で乾燥すること、赤外光源若しくはその他の放射光源で乾燥すること、真空乾燥、ギャップ乾燥、又はこれらの組み合わせを含む、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態34]
前記分散液の重量パーセント固形分が、重合工程の間、約10%〜90%、約10%〜60%、又は約30%〜40%である、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態35]
前記紫外線が、少なくとも1個の発光ダイオードによって生成される、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態36]
前記溶媒の除去後に、前記分散液を重合することを更に含む、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態37]
前記基材の前記表面に近接する前記低屈折率コーティングの屈折率が、約1.4未満である、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態38]
前記分散液を照射することが、少なくとも100ppm(part per million)の酸素雰囲気を前記分散液に隣接して提供することを更に含む、前記実施形態29に記載の方法。
[実施形態39]
傾斜低屈折率コーティングの製造方法であって、
紫外線(UV)硬化性物質と、
光開始剤と、
溶媒と、
複数のナノ粒子と、を含む分散液を、基材の表面にコーティングすることと、
少なくとも100ppm(part per million)の酸素雰囲気を前記分散液に隣接して提供することと、
前記紫外線硬化性物質を少なくとも部分的に重合するために前記分散液を紫外線で照射して、前記複数のナノ粒子が結合し、前記重合性物質が枯渇している前記分散液と前記ナノ粒子とで充填されている複数のナノボイドを含む、不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、を含み、
前記基材の前記表面に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記不溶性ポリマーマトリックスの反対面に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも大きく、
前記重合性物質を少なくとも部分的に重合した後、前記溶媒の大部分を前記分散液から除去することと、を含む、方法。
[実施形態40]
前記酸素雰囲気が500ppmを超える酸素を含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態41]
前記酸素雰囲気が1000ppmを超える酸素を含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態42]
記酸素雰囲気が2000ppmを超える酸素を含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態43]
前記酸素雰囲気が3000ppmを超える酸素を含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態44]
前記紫外線硬化性物質が架橋性物質を含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態45]
前記ナノ粒子が、ポリマーマトリックスとの化学結合を形成する反応性ナノ粒子を含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態46]
前記溶媒が、少なくとも2種類の有機溶媒のブレンドを含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態47]
前記溶媒の大部分を除去することが、熱オーブンの中で乾燥すること、赤外光源若しくはその他の放射光源で乾燥すること、真空乾燥、ギャップ乾燥、又はこれらの組み合わせを含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態48]
前記分散液の重量パーセント固形分が、重合工程の間、約10%〜90%、約10%〜60%、又は約30%〜50%である、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態49]
前記光開始剤が、少なくとも2種類の異なる光開始剤のブレンドを含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態50]
前記紫外線が、少なくとも1つの発光ダイオードによって生成される、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態51]
前記溶媒の除去後に、前記分散液を重合することを更に含む、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態52]
前記基材の前記表面に近接する前記低屈折率コーティングの屈折率が、約1.4未満である、前記実施形態39に記載の方法。
[実施形態53]
傾斜ナノボイド含有コーティングの製造方法であって、
溶媒中に重合性物質を含む第1の溶液を基材上にコーティングすることと、
前記重合性物質を少なくとも部分的に重合して、第2の溶液で充填されている複数のナノボイド及び前記第2の溶液と共連続性である不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、
前記第2の溶液から前記溶媒の大部分を除去して、自由表面を有するナノボイド含有コーティングを形成することと、
第3の溶液を前記自由表面にコーティングして、前記ナノボイド含有コーティングを少なくとも部分的に充填することと、
前記第3の溶液を凝固させることと、を含み、
前記コーティングの前記自由表面に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記コーティングの反対面に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも小さい、方法。
[実施形態54]
前記第3の溶液が第2の溶媒を含み、凝固させることが、前記第2の溶媒を除去することを含む、前記実施形態53に記載の方法。
[実施形態55]
前記第3の溶液が硬化性物質を含み、凝固させることが、前記硬化性物質を硬化することを含む、前記実施形態53に記載の方法。
[実施形態56]
前記硬化性物質が紫外線硬化性物質を含み、凝固させることが、紫外線で重合することを含む、前記実施形態55に記載の方法。
[実施形態57]
傾斜ナノボイド含有コーティングの製造方法であって、
溶媒中に重合性物質を含む第1の溶液を基材上にコーティングすることと、
前記重合性物質を少なくとも部分的に重合して、第2の溶液で充填されている複数のナノボイド及び前記第2の溶液と共連続性である不溶性ポリマーマトリックスを含む第1の層を形成することと、
第3の溶液を前記第1の層にコーティングして、第2の層を形成することと、
前記第3の溶液を凝固させることと、
前記第2の及び第3の溶液から前記溶媒の大部分を除去して、傾斜ナノボイド含有コーティングを形成することと、を含み、
前記第1の層内の前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記第2の層内の前記複数のナノボイドの第2の体積分率と異なる、方法。
[実施形態58]
前記第3の溶液が第3の溶媒を含み、凝固させることが、前記第3の溶媒を除去することを含む、前記実施形態57に記載の方法。
[実施形態59]
前記第3の溶液が硬化性物質を含み、凝固させることが、前記硬化性物質を硬化することを含む、前記実施形態57に記載の方法。
[実施形態60]
前記硬化性物質が紫外線硬化性物質を含み、凝固させることが、紫外線で重合することを含む、前記実施形態57に記載の方法。

Claims (3)

  1. 傾斜ナノボイド含有コーティングの製造方法であって、
    溶媒中に重合性物質を含む第1の溶液を基材上にコーティングすることと、
    前記コーティングの第1の領域に近接した第1の環境、及び前記コーティングの隣接領域に近接した異なる第2の環境を提供することと、
    前記重合性物質を少なくとも部分的に重合して、第2の溶液で充填されている複数のナノボイド及び前記第2の溶液と共連続性である不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、を含み、
    前記コーティングの前記第1の領域に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記コーティングの前記隣接領域に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも小さく、
    前記第2の溶液から前記溶媒の大部分を除去することと、を含む、方法。
  2. 傾斜低屈折率コーティングの製造方法であって、
    紫外線(UV)硬化性物質と、
    光開始剤と、
    溶媒と、
    複数のナノ粒子と、を含む分散液を、基材の表面にコーティングすることと、
    少なくとも100ppm(part per million)の酸素雰囲気を前記分散液に隣接して提供することと、
    前記紫外線硬化性物質を少なくとも部分的に重合するために前記分散液を紫外線で照射して、前記複数のナノ粒子が結合し、前記重合性物質が枯渇している前記分散液と前記ナノ粒子とで充填されている複数のナノボイドを含む、不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、を含み、
    前記基材の前記表面に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記不溶性ポリマーマトリックスの反対面に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも大きく、
    前記重合性物質を少なくとも部分的に重合した後、前記溶媒の大部分を前記分散液から除去することと、を含む、方法。
  3. 傾斜ナノボイド含有コーティングの製造方法であって、
    溶媒中に重合性物質を含む第1の溶液を基材上にコーティングすることと、
    前記重合性物質を少なくとも部分的に重合して、第2の溶液で充填されている複数のナノボイド及び前記第2の溶液と共連続性である不溶性ポリマーマトリックスを形成することと、
    前記第2の溶液から前記溶媒の大部分を除去して、自由表面を有するナノボイド含有コーティングを形成することと、
    第3の溶液を前記自由表面にコーティングして、前記ナノボイド含有コーティングを少なくとも部分的に充填することと、
    前記第3の溶液を凝固させることと、を含み、
    前記コーティングの前記自由表面に近接する前記複数のナノボイドの第1の体積分率が、前記コーティングの反対面に近接する前記複数のナノボイドの第2の体積分率よりも小さい、方法。
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010005655A2 (en) 2008-07-10 2010-01-14 3M Innovative Properties Company Viscoelastic lightguide
WO2010017087A1 (en) 2008-08-08 2010-02-11 3M Innovative Properties Company Lightguide having a viscoelastic layer for managing light
US9291752B2 (en) 2013-08-19 2016-03-22 3M Innovative Properties Company Retroreflecting optical construction
BRPI1006713A2 (pt) 2009-04-15 2019-06-18 3M Innovative Properties Co artigos retrorrefletivos
EP2419266B1 (en) 2009-04-15 2017-03-08 3M Innovative Properties Company Retroreflective sheeting including a low index coating
KR101832509B1 (ko) 2009-10-24 2018-02-26 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 고 비축 반사율을 갖는 침지형 반사 편광기
US9279918B2 (en) 2009-10-24 2016-03-08 3M Innovative Properties Company Gradient low index article and method
KR101789839B1 (ko) 2009-10-24 2017-10-25 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 선택된 입사 평면에서 각방향 구속을 갖는 침지형 반사 편광기
EP2491445B1 (en) 2009-10-24 2018-01-03 3M Innovative Properties Company Light source and display system incorporating same
KR101728189B1 (ko) 2009-10-24 2017-04-18 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 공극형 디퓨저
EP2491444B1 (en) 2009-10-24 2018-11-21 3M Innovative Properties Company Immersed asymmetric reflector with reduced color
EP3258167A3 (en) 2009-12-08 2018-04-18 3M Innovative Properties Co. Optical constructions incorporating a light guide and low refractive index films
KR20180081848A (ko) 2010-04-14 2018-07-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 패턴화된 경사 중합체 필름 및 방법
WO2011129832A1 (en) 2010-04-15 2011-10-20 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles including optically active areas and optically inactive areas
KR101954457B1 (ko) 2010-04-15 2019-03-05 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 광학적 활성 영역 및 광학적 불활성 영역을 포함하는 재귀반사성 물품
US9618663B2 (en) 2010-04-15 2017-04-11 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles including optically active areas and optically inactive areas
US9465145B2 (en) 2010-10-20 2016-10-11 3M Innovative Properties Company Low refractive index diffuser element having interconnected voids
US9841534B2 (en) 2010-12-16 2017-12-12 3M Innovative Properties Company Methods for preparing optically clear adhesives and coatings
EP2678736B1 (en) 2011-02-25 2015-01-21 3M Innovative Properties Company Variable index light extraction layer for use in a front-lit reflective display device
US9310527B2 (en) * 2011-03-09 2016-04-12 3M Innovative Properties Company Antireflective film comprising large particle size fumed silica
DE102013218989A1 (de) * 2013-09-20 2015-03-26 Tesa Se Trennbeschichtung mit definierter Oberflächenstruktur
CN107530733B (zh) * 2014-06-17 2021-01-05 维帝安特光学有限公司 经校正光色散的消色差梯度折射率光学元件
MX2017001147A (es) 2014-07-25 2017-07-13 Avery Dennison Corp Pelicula traslucida y a color dos-en-uno.
CN104827688A (zh) * 2015-05-03 2015-08-12 佛山市崇源机械有限公司 一种pc板卷材表面硬化处理的工艺及设备
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
TW201902682A (zh) * 2017-05-05 2019-01-16 美商3M新設資產公司 含有聚合膜之顯示裝置
CN112135645B (zh) 2018-06-27 2022-04-12 金伯利-克拉克环球有限公司 纳米多孔超吸收颗粒
US11768145B2 (en) 2019-07-26 2023-09-26 3M Innovative Properties Company Porous fluid sensor
DE102020122857B4 (de) 2020-09-01 2022-12-08 Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. (Engl.Leibniz Institute of Photonic Technology) Verfahren zur Herstellung einer ultradünnen freistehenden 2D-Membran mit Poren sowie ihre anwendungsbezogene Modifikation und Verwendung der über dieses Verfahren hergestellten 2D-Membranen

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2801185A (en) 1952-05-16 1957-07-30 Du Pont Silica hydrosol powder
US4379201A (en) 1981-03-30 1983-04-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Multiacrylate cross-linking agents in pressure-sensitive photoadhesives
US4522958A (en) 1983-09-06 1985-06-11 Ppg Industries, Inc. High-solids coating composition for improved rheology control containing chemically modified inorganic microparticles
US4737559A (en) 1986-05-19 1988-04-12 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Pressure-sensitive adhesive crosslinked by copolymerizable aromatic ketone monomers
DE3837569A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Espe Stiftung Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen
JP3446840B2 (ja) * 1993-12-06 2003-09-16 大日本インキ化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化塗膜の製造方法
US5694701A (en) 1996-09-04 1997-12-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated substrate drying system
JP4144052B2 (ja) * 1997-10-03 2008-09-03 日油株式会社 反射防止フィルムの製造方法
US6790228B2 (en) * 1999-12-23 2004-09-14 Advanced Cardiovascular Systems, Inc. Coating for implantable devices and a method of forming the same
US7032324B2 (en) 2000-09-24 2006-04-25 3M Innovative Properties Company Coating process and apparatus
JP2003191628A (ja) * 2001-12-27 2003-07-09 Omron Corp 記録用紙及びその製造方法
US20040109950A1 (en) * 2002-09-13 2004-06-10 Shipley Company, L.L.C. Dielectric materials
US7053131B2 (en) * 2002-12-03 2006-05-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Absorbent articles comprising supercritical fluid treated HIPE, I-HIPE foams and other foams
JP4293888B2 (ja) 2003-03-31 2009-07-08 日東電工株式会社 広帯域コレステリック液晶フィルムの製造方法、円偏光板、直線偏光素子、照明装置および液晶表示装置
ES2321390T3 (es) * 2003-05-20 2009-06-05 Dsm Ip Assets B.V. Proceso de revestimiento de superficie nano-estructurada, revestimientos nano-estructurados y articulos que comprenden el revestimiento.
TWI288827B (en) * 2004-08-31 2007-10-21 Ind Tech Res Inst Three-dimensional nano-porous film and fabrication method thereof
US20080070998A1 (en) * 2004-09-30 2008-03-20 Oji Paper Co., Ltd. Foam Production Method
JP4883383B2 (ja) * 2005-06-02 2012-02-22 旭硝子株式会社 中空状SiO2を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材
ATE427156T1 (de) * 2005-08-05 2009-04-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Poríse membran und aufzeichnungsmedium sowie herstellungsverfahren dafur
JP2007157521A (ja) 2005-12-06 2007-06-21 Fujitsu Ltd 燃料電池
DE102005059303A1 (de) * 2005-12-09 2007-06-21 Basf Ag Nanoporösen Polymerschaumstoffe aus Polykondensations-Reaktivharzen
EP2047302A1 (de) 2006-07-28 2009-04-15 ILFORD Imaging Switzerland GmbH Flexible materialien fuer optische anwendungen
US7678838B2 (en) 2006-08-04 2010-03-16 University Of Memphis Research Foundation Nanothin polymer films with selective pores and method of use thereof
US20090018646A1 (en) * 2007-07-10 2009-01-15 Zhao Jonathon Z Coating Employing an Anti-Thrombotic Conjugate
US8377852B2 (en) * 2007-10-26 2013-02-19 Dow Corning Corporation Method of preparing a substrate with a composition including an organoborane initiator
JP2009175226A (ja) * 2008-01-22 2009-08-06 Fujifilm Corp 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置
CN102015122A (zh) * 2008-03-26 2011-04-13 3M创新有限公司 坡流涂布两种或更多种流体的方法
US20110059321A1 (en) 2008-06-23 2011-03-10 General Electric Company Method of repairing a thermal barrier coating and repaired coating formed thereby
WO2010120468A1 (en) 2009-04-15 2010-10-21 3M Innovative Properties Company Process and apparatus for a nanovoided article
CN102448621B (zh) 2009-04-15 2014-10-29 3M创新有限公司 可减少涂层缺陷的涂布方法和设备
CN102460125B (zh) 2009-04-15 2015-11-25 3M创新有限公司 防止光学耦合的光学膜
CN102449508B (zh) 2009-04-15 2014-12-17 3M创新有限公司 光学膜
EP2419265A4 (en) 2009-04-15 2012-12-05 3M Innovative Properties Co REFLECTIVE OPTICAL CONSTRUCTION
TWI605276B (zh) 2009-04-15 2017-11-11 3M新設資產公司 光學結構及包含該光學結構之顯示系統
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EP2491445B1 (en) 2009-10-24 2018-01-03 3M Innovative Properties Company Light source and display system incorporating same
US9279918B2 (en) 2009-10-24 2016-03-08 3M Innovative Properties Company Gradient low index article and method
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