JP2013503967A5

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Publication number: JP2013503967A5
Application number: JP2012527326A
Authority: JP
Filing date: 2010-09-02
Publication date: 2013-09-26
Anticipated expiration: 2030-09-02

Claims

電解プロセス用の電極の製造法であって、化学又は物理蒸着技術によって金属基材上に貴金属又はその酸化物の緻密層を連続的に蒸着することを含み、前記方法は、
− 前記金属基材を予備形成品の状態で物理蒸着装置のコンディショニングチャンバーに装填し；
− 前記コンディショニングチャンバーを第一の圧力レベルに減圧し；
− 前記予備形成品に対して、蒸着チャンバーへの装填、前記第一の圧力レベルより低い第二の圧力レベルでの前記貴金属の緻密層の物理蒸着、取出しチャンバー又は大気中への逐次排出というサイクルを逐次自動実行する
ステップを含む方法。
前記第一の圧力レベルが１０^−３〜１Ｐａの範囲であり、前記第二の圧力レベルが１０^−６〜１０^−３Ｐａの範囲である、請求項１に記載の方法。
酸化雰囲気中での熱処理という次なるステップを含む、請求項１又は２に記載の方法。
前記物理蒸着のステップが、ガス状反応物による前記貴金属の同時酸化を含む、請求項１又は２に記載の方法。
前記物理蒸着装置がＩＢＡＤ装置であり、前記貴金属の緻密層の前記物理蒸着が、２００〜５００ｅＶのアルゴンイオン照射による基材クリーニングステップ後に、プラズマ相から抽出された１０００〜２０００ｅＶのエネルギーを有するイオンの照射によって実施される、請求項２〜４のいずれか１項に記載の方法。
電解プロセス用の電極の製造法であって、化学又は物理蒸着技術によって金属基材上に貴金属又はその酸化物の緻密層を連続的に蒸着することを含み、前記基材は、コイル状のメッシュ又はコイル状の発泡シートであり、ここで前記基材は、１０ ^−３〜１Ｐａの第一の真空度に減圧された、そして１０ ^−６〜１０ ^−３Ｐａの高真空に減圧できる蒸着部を備えたロール・ツー・ロール又はロール・ツー・シートタイプのマグネトロンプラズマスパッタリング装置又はＤＣプラズマスパッタリング装置中で実施される前記貴金属の緻密層の物理蒸着によって処理される方法。
酸化剤雰囲気中での熱処理という次なるステップを含む、請求項６に記載の方法。
前記物理蒸着が、ガス状反応物による前記貴金属の同時酸化を含む、請求項６に記載の方法。
前記金属基材が、ニッケル、スチール又はチタン製である、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
前記貴金属又はその酸化物が、白金、ルテニウム、イリジウム及びそれらの酸化物からなる群から選ばれる、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。