JP2013248733A - 研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の基板装置は、基板Wを保持して回転させる基板保持機構1と、研磨具10を基板Wの外周部に押圧して該外周部を研磨する研磨機構2と、基板Wの外周部を流体で支持する外周部支持機構3と、を備える。研磨機構2と外周部支持機構3とは、基板Wに関して略対称に配置され、基板Wの外周部は、外周部支持機構3から噴射される流体により、該基板Wの下面側から支持されるように構成される。
【選択図】図1
Description
本発明の好ましい態様は、前記研磨機構は、前記基板保持機構に保持された基板の上面側に配置されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記流体は、純水であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨具は研磨テープであり、前記研磨装置は、前記研磨機構に研磨テープを供給する研磨テープ供給機構をさらに備えることを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る研磨装置を示す概略正面図である。図1に示すように、この研磨装置は、ウエハなどの基板Wを水平に保持して回転させる基板保持機構1と、この基板保持機構1によって保持された基板Wの外周部を研磨する研磨機構2と、基板保持機構1によって保持された基板Wの外周部を支持する外周部支持機構3とを備えている。なお、本明細書では、基板の外周部とは、基板の最端部から内側に向かった平坦部をいう。
基板Wは、図示しない搬送ロボットにより研磨装置の研磨室に搬送され、基板保持機構1の基板ステージ11上に載置される。基板保持機構1は、基板Wを真空吸着などにより保持し、水平面内で基板Wを回転させる。研磨テープ供給機構15を動作させると、研磨テープ10はテープ送り機構16から研磨機構2を経由してテープ巻取り機構17に巻き取られる。研磨テープ10は、その長手方向に進行しながら、研磨機構2によって基板Wの上面側の外周部に押圧される。同時に、外周部支持機構3のノズル37から液体が基板Wの下面側の外周部に向けて噴射される。
2 研磨機構
3 外周部支持機構
10 研磨テープ(研磨具)
11 基板ステージ
12 基板回転機構
15 研磨テープ供給機構
16 テープ送り機構
17 テープ巻取り機構
20 加圧パッド
21 スプリング
22 ロッド
26 アーム
27 ベルト
28A,28B プーリ
29 モータ
30 プレート
31 スライド機構
33 リニアアクチュエータ
34 スライド機構
35 減圧弁
36 液体供給源
37 ノズル
40 外周部支持機構
41 基板支持体
43 液体供給源
45 シリンダ
46A 第1ポート
46B 第2ポート
48A 第1電空レギュレータ
48B 第2電空レギュレータ
50 気体供給源
52 加圧パッド
Claims (6)
- 基板を保持して回転させる基板保持機構と、
研磨具を基板の外周部に押圧して該外周部を研磨する研磨機構と、
前記基板の外周部を流体で支持する外周部支持機構と、を備え、
前記研磨機構と前記外周部支持機構とは、前記基板に関して略対称に配置され、
前記基板の外周部は、前記外周部支持機構から噴射される流体により、該基板の下面側から支持されることを特徴とする研磨装置。 - 前記基板の外周部は、該基板の最端部から内側に向かった平坦部であることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記研磨機構は、前記基板保持機構に保持された基板の上面側に配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨装置。
- 前記流体は、圧力調整されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の研磨装置。
- 前記流体は、純水であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の研磨装置。
- 前記研磨具は研磨テープであり、
前記研磨装置は、前記研磨機構に研磨テープを供給する研磨テープ供給機構をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の研磨装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013156521A JP5827976B2 (ja) | 2008-03-06 | 2013-07-29 | 研磨装置 |
JP2015025116A JP6018656B2 (ja) | 2008-03-06 | 2015-02-12 | 研磨装置および研磨方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008055946A JP5393039B2 (ja) | 2008-03-06 | 2008-03-06 | 研磨装置 |
JP2013156521A JP5827976B2 (ja) | 2008-03-06 | 2013-07-29 | 研磨装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008055946A Division JP5393039B2 (ja) | 2008-03-06 | 2008-03-06 | 研磨装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015025116A Division JP6018656B2 (ja) | 2008-03-06 | 2015-02-12 | 研磨装置および研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013248733A true JP2013248733A (ja) | 2013-12-12 |
JP5827976B2 JP5827976B2 (ja) | 2015-12-02 |
Family
ID=41054106
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008055946A Active JP5393039B2 (ja) | 2008-03-06 | 2008-03-06 | 研磨装置 |
JP2013156521A Active JP5827976B2 (ja) | 2008-03-06 | 2013-07-29 | 研磨装置 |
JP2015025116A Active JP6018656B2 (ja) | 2008-03-06 | 2015-02-12 | 研磨装置および研磨方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008055946A Active JP5393039B2 (ja) | 2008-03-06 | 2008-03-06 | 研磨装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015025116A Active JP6018656B2 (ja) | 2008-03-06 | 2015-02-12 | 研磨装置および研磨方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9138854B2 (ja) |
JP (3) | JP5393039B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2011177842A (ja) | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Ebara Corp | 研磨装置及び研磨方法 |
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- 2015-02-12 JP JP2015025116A patent/JP6018656B2/ja active Active
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- 2017-04-12 US US15/485,446 patent/US10137552B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
US10137552B2 (en) | 2018-11-27 |
JP5827976B2 (ja) | 2015-12-02 |
US20150352682A1 (en) | 2015-12-10 |
JP5393039B2 (ja) | 2014-01-22 |
US9138854B2 (en) | 2015-09-22 |
JP2015119197A (ja) | 2015-06-25 |
US20090227189A1 (en) | 2009-09-10 |
JP6018656B2 (ja) | 2016-11-02 |
US9649739B2 (en) | 2017-05-16 |
JP2009208214A (ja) | 2009-09-17 |
US20170216989A1 (en) | 2017-08-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140430 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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