JP2000006003A - 板状材への加圧方法及び加圧装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】加圧分布を均一にし、板状材の特定のピッチ長
のうねりに対して定盤を選択的に追従させる。 【解決手段】板状材の特定のピッチ長のうねりに倣うこ
とができるように、前記ピッチ長に応じて定盤（研磨定
盤１０）の剛性を適正化するとともに、加圧手段（空気
バネ１２）により定盤を板状材に向けて多点加圧又は面
加圧する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は板状材への加圧方法
及び加圧装置に係り、特に、ガラス、金属、シリコンウ
ェーハ、フォトマスク、セラミック等の板状材の研磨並
びに物体表面同士の貼り付け技術に応用することができ
る板状材への加圧方法及び加圧装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的な研磨装置は、図１５に示す如
く、研磨テーブル１上にテーブルパッド２を介して被加
工物（例えば、ガラス基板）３が保持され、その上方に
研磨パッド４を有した研磨定盤５が設けられている。研
磨定盤５は被加工物３の傾斜に追従できるように回転シ
ャフト６に任意の方向に揺動自在に支持されており、回
転シャフト６は支持点を介して研磨定盤５に図中下方へ
の押し付け力と回転運動力とを付与するようになってい
る。

【０００３】そして、図示せぬ研磨液供給手段から研磨
液が供給されるとともに、研磨定盤５が被加工物３に押
し付けられた状態で被加工物３に対して相対運動し、被
加工物３が研磨される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の研磨装置では、研磨定盤５は回転シャフト６の支持
点を介して押圧されるため、研磨定盤６が大型化すると
研磨圧力が加圧点付近に集中して加圧分布が不均一とな
り、被加工物３の面を均一に研磨できないという欠点が
ある。また、加圧分布を均一にすべく、研磨定盤の剛性
を極端に高めると、研磨パッドがツルーイング定盤のう
ねり形状を転写してしまい、研磨中の面圧分布を均一化
できないという欠点がある。

【０００５】他方、均一面圧を得る方法として、図１６
に示すように流体７を密封したバッグ８のような弾性体
を介して被加工物３に圧力を付与することが考えられ
る。かかる構成は接触面全面に均一面圧を与え、被加工
物３の表面を均一な研磨代で研磨できるが、大小あらゆ
るピッチのうねり（凹凸）に対して弾性体が追従するこ
とになり、本来除去したい細かな凹凸の形状が研磨後も
そのまま残ってしまうという問題がある。

【０００６】本発明はこのような事情に鑑みて成された
もので、加圧分布を均一にし、さらに、様々なピッチの
表面うねりをもつ板状材に対して、所望のピッチ長のう
ねりに対して選択的に追従させることができる加圧方法
及び加圧装置を提供することを目的とする。また、かか
る方法を用いて、被加工面を略全面均一に除去し、さら
に、目標とするうねりを選択的に除去することができる
研磨装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に請求項１記載の発明は、板状材に対向して配置した定
盤の背面に圧力を加えて板状材と定盤とを対向させる板
状材への加圧方法であって、板状材に加圧接触させたと
きに、板状材の特定のピッチ長の表面うねりに倣うこと
ができるように、前記ピッチ長に応じて定盤の剛性を適
正化し、定盤を板状材に向けて多点加圧または面加圧す
ることによって、定盤を前記特定のピッチ長のうねりに
沿うように変形させつつ板状材と定盤とを対向させるこ
とを特徴としている。

【０００８】本発明によれば、圧力を付与すると、定盤
はその剛性に応じて板状材の特定のうねりに沿って変形
し、板状材に対して略均一面圧により接触する。また、
この方法発明を具現化する装置を提供すべく、請求項２
記載の発明は、板状材に対向して配置された定盤と、該
定盤の背面に配置され、定盤を支持する支持体と、定盤
と支持体の間に配置され、定盤を多点加圧又は面加圧可
能な加圧手段と、を備えた板状材への加圧装置であっ
て、定盤は、前記加圧手段により板状材の特定のピッチ
長の表面うねりに倣うことができるように、前記ピッチ
長に応じて剛性が適正化されていることを特徴としてい
る。

【０００９】また、板状材への加圧に加えて、板状材と
定盤とを摺動させる場合は、請求項３に記載のごとく、
定盤と支持体との間に、定盤の支持体に対する平面方向
の動きを拘束する拘束手段を備えることが好ましい。こ
のようにして、定盤と板状材との摺動を確実に行うこと
ができる。また、前記方法発明を具現化する装置を提供
すべく、請求項４記載の発明は、板状材に対向して配置
された定盤と、定盤の背面に配置され、該定盤を支持す
る第１支持体と、定盤と第１支持体の間に配置され、定
盤を面加圧可能な面加圧手段と、第１支持体の背面に配
置され、該第１支持体を支持する第２支持体と、第１支
持体と第２支持体の間に配置され、第１支持体を多点加
圧可能な加圧手段と、を備えた板状材への加圧装置であ
って、定盤は、前記面加圧手段により板状材の特定のピ
ッチ長の表面うねりに倣うことができるように、前記ピ
ッチ長に応じて剛性が適正化されていることを特徴とし
ている。

【００１０】請求項７記載の発明は、上述した板状材へ
の加圧装置を研磨装置に応用したものであり、前記定盤
に相当する研磨定盤に研磨部材が設けられ、被加工物た
る前記板状材と前記研磨部材とを相対的に摺動させて板
状材の表面を研磨する研磨装置に適用したことを特徴と
している。かかる研磨装置によれば、いろいろなピッチ
の表面うねりをもつ被加工物に対して、全面略均一に且
つ目標とするうねりを選択的に除去することができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る板状材への加圧方法及び加圧装置の好ましい実施の形
態について詳説する。図１は、本発明の実施の形態に係
る研磨装置の原理を示す概念図である。研磨定盤１０の
背面（図１において上面）には複数の空気バネ（加圧手
段に相当）１２、１２、１２が一定の間隔Ｌで配列さ
れ、研磨定盤１０はこれら空気バネ１２、…を介して支
持プレート（支持体に相当）１４と連結される。各空気
バネ１２は支持プレート１４に固設されている。

【００１２】ここで、空気バネ（加圧手段）１２は、研
磨定盤１０を多点加圧可能なだけでなく、支持プレート
（支持体）１４の平面方向の動きを研磨定盤１０に伝達
することができる。支持プレート１４は、図示せぬ加圧
シリンダーと連結された回転シャフトの下端部に固着さ
れており、加圧シリンダーからの圧力は各空気バネ１
２、…を介して複数点でＦｚ1 、Ｆｚ2 、Ｆｚ3 …とし
て研磨定盤１０に伝達されるとともに、研磨定盤１０は
回転シャフトを中心に水平面内で偏心回転可能となって
いる。

【００１３】こうして、研磨定盤１０には、回転シャフ
トを介してテーブル方向（図中下方）への押し付け力と
回転運動力とが付与される。尚、研磨定盤１０を同一平
面内で任意に移動させるように回転シャフトを移動可能
に構成してもよい。かかる構成によって、加圧シリンダ
ーの圧力は加圧点に相当する各空気バネ１２に均等に分
配され、これら複数の加圧点からの押し付け力の重ね合
わせによって研磨定盤１０の下面に均一な圧力が加わる
ようになっている。

【００１４】このようなマルチシリンダーポリシング
（ＭＣＰ）機構において、各空気バネ１２の配列間隔
（加圧点ピッチ）Ｌと、研磨定盤１０の剛性とを最適化
することによって、均一面加圧を実現し、目標とするピ
ッチ長のうねり（凹凸）を選択的に均一除去することが
可能となる。次に、研磨定盤の剛性の最適化について説
明する。

【００１５】以下、被加工物としてガラス基板を研磨す
る場合を例に説明する。図２に示したように、被加工物
たるガラス基板（板状材に相当）１６の表面には２０〜
３０ｍｍのピッチで高さ約０．２μｍのうねり（マイク
ロコルゲーション）１８が存在しており、研磨によって
このマイクロコルゲーション１８の凹凸を除去すること
が望まれている。尚、図中符号２０は研磨テーブル、符
号２２はテーブルパッドである。

【００１６】一方、図３に示したように研磨定盤１０に
固着された研磨パッド（研磨部材）２４をドレッシング
するためのドレス定盤２６の表面には、約２００ｍｍの
ピッチで高さ約１０〜２０μｍ程度のうねりが存在して
いる。従って、研磨パッド２４を平滑にドレッシングす
るには、このドレス定盤２６のうねりに追従して研磨定
盤１０がたわんで、研磨パッド２４の下面とドレス定盤
２６の上面とが密着した状態で接触する必要がある。

【００１７】かかる条件を考慮して研磨定盤１０の剛性
を定める。例えば、研磨定盤１０をアルミ合金で形成
し、研磨定盤１０が適正な剛性となるようにその最適な
板厚が選択される。尚、研磨定盤１０の材質はアルミ合
金に限らず、適度な剛性を持つ他の材料でもよい。図４
及び図５には、アルミ合金の板厚の違いによるピッチ長
さと研磨定盤の最大たわみ量の関係を示すグラフの一例
が示されている。尚、各グラフは、定盤サイズが幅３２
０ｍｍ、面圧が１８０gf／cm²の条件下で得られたもの
である。

【００１８】先ず、研磨定盤１０がドレス定盤２６の凹
凸に倣うという条件から、図４のグラフを参照して、２
００ｍｍピッチで１０μｍ（０．０１ｍｍ）の凹凸に倣
うためには板厚が１９ｍｍ以下であるという制限が求ま
る。また、２００ｍｍピッチで２０μｍの凹凸に倣うに
は板厚が１５ｍｍ以下であるという制限が求まる。一
方、ガラス基板１６のマイクロコルゲーション１８を除
去するという条件から、マイクロコルゲーション１８の
高さに相当する０．２μｍの凹凸をその１０分の１の高
さ（０．０２μｍ）程度に除去するものと想定し、図５
のグラフを参照して、３０ｍｍのピッチで０．０２μｍ
以上たわまないためには板厚が１２ｍｍ以上であるとい
う制限が求まる。以上の考察から、上記想定した条件の
下では研磨定盤１０の板厚を１２ｍｍ〜１５ｍｍ程度と
することが望ましい。

【００１９】次に、上記の如く構成された研磨装置の作
用について説明する。板厚の選択によって剛性が適正化
された研磨定盤１０に研磨パッド２４を固着し、この研
磨パッド２４を図６（ａ）に示したようにドレス定盤２
６に押し付けてドレッシングする。このとき、研磨定盤
１０は空気バネ１２…を介して伝達される分布荷重によ
ってドレス定盤２６の表面の凹凸に追従して変形し、研
磨パッド２４の表面とドレス定盤２６の表面とが均一面
圧で接触する。かかる面接触によって、研磨パッド２４
は平滑にドレッシングされる。図６（ｂ）にはドレッシ
ング終了後の研磨定盤１０及び研磨パッド２４の様子が
示されている。

【００２０】ドレッシングによって平滑面となった研磨
パッド２４を図６（ｃ）に示すように被加工物たるガラ
ス基板１６に押し当てると、研磨定盤１０は空気バネ１
２…を介して伝達される分布荷重によってガラス基板１
６の大きなうねりに倣って変形するが、マイクロコルゲ
ーション１８程度の小さなうねりに対しては追従しな
い。従って、ガラス基板１６の大きなうねりに対しては
均一加圧が可能であり、目標とするマイクロコルゲーシ
ョン１８を選択的に除去することができる。

【００２１】上記実施の形態では、研磨定盤１０の板厚
ｔによってその剛性を適正化する場合を例に説明した
が、研磨定盤１０の剛性の適正化方法はこれに限られな
い。例えば、図７に示すように、研磨定盤１０を高剛性
材料で形成し、その背面側に加圧方向と平行な方向に切
り込まれた切り込み溝３８を設けて剛性を調整すること
も可能である。同図では、切り込み溝３８を一定の間隔
（１００〜２００ｍｍ）で形成した例が示されている
が、切り込み溝３８の深さ、幅、間隔、数によって研磨
定盤１０の剛性が定まる。

【００２２】図７中に示した矢印は、加圧点と加圧方向
を示しており、図では省略されているが、各加圧点に図
１で示したものと同様に空気バネ１２を介して押し付け
力が付与される。かかる構成の研磨定盤１０を用いて被
加工物たるガラス基板１６を研磨する場合にも、図８に
示したように被加工物たるガラス基板１６の大きなうね
りに倣って研磨定盤１０は変形するが、マイクロコルゲ
ーション１８程度の小さなうねりに対しては追従しな
い。従って、ガラス基板１６の大きなうねりの面に対し
ては均一加圧が可能であり、目標とするマイクロコルゲ
ーション１８を均一な研磨代で除去することができる。

【００２３】図１乃至図８で説明したＭＣＰ機構は研磨
ヘッドを大型化しても研磨圧分布を均一にすることがで
きるという利点を有し、特に大型のガラス基板を研磨す
るため研磨装置への適用が可能である。図９には、図１
で説明したＭＣＰの原理を採用した大型の研磨ヘッドの
一例が示されている。この研磨ヘッド４０は、研磨下定
盤４２と、支持体に相当する研磨上定盤４４と、両定盤
の間に配置される加圧手段に相当する空気バネ４６、４
６…と、積層ゴム４８を用いた拘束手段に相当する複数
の回り止め機構５０、５０…とから構成される。そし
て、研磨上定盤４４の上面中央部に図示せぬ回転シャフ
トの軸が固定される。各空気バネ４６は、所定の間隔を
隔てて合計１１個設けられ、研磨下定盤４２はこれら空
気バネ４６、４６…を介して多点加圧される。

【００２４】回り止め機構５０は、回転シャフトの軸の
周囲に前後左右合計４か所の対称位置に設けられてい
る。即ち、研磨下定盤４２の背面（図９において上面）
には、矩形状の枠部５２が４か所形成されており、研磨
上定盤４４の下面側にはこれら枠部５２に対応する位置
に取付部５４が突設されている。各取付部５４がそれぞ
れ対応する枠部５２に挿入されるとともに、各取付部５
４には２つの円柱状の積層ゴム４８の一端が固定され、
該積層ゴム４８の他端は枠部５２の壁面に固定される。
この場合、取付部５４を挟んで配置される２つの積層ゴ
ム４８、４８は同軸上に配置される。積層ゴム４８は軸
線方向の力に対しては変形し難く、軸線と直交する方向
の力に対しては変形し易いという性質を有しており、研
磨上定盤４４に連結された回転シャフトの回転力は、各
積層ゴム４８の軸線方向に作用して取付部５４を介して
研磨下定盤４２に伝達される。

【００２５】かかる構成の研磨ヘッド４０によれば、図
１０に示したように回転シャフト（不図示）から研磨上
定盤４４に付与された荷重は空気バネ４６、４６…を介
して研磨下定盤４２に伝達され、研磨テーブル２０上に
配置されたガラス基板（被加工物）１６を略均一面圧で
研磨することができる。次に、本発明の他の実施の形態
について説明する。

【００２６】図１１は、本発明の第２の実施の形態に係
る研磨装置の原理を示す概念図である。この研磨装置
は、図１で説明した空気バネ１２から成る加圧手段に代
えて、単一の弾性体６０を用いて面加圧している点で図
１に示した形態と異なる。即ち、高い剛性を有する研磨
上定盤（支持体に相当）６２の下面には、多孔質ゴムパ
ッド等、ポアソン比が低い柔軟材料から成る単一の弾性
体６０が接着されている。この弾性体６０が研磨下定盤
６４の変形に柔軟に追従して、研磨下定盤６４の背面に
対して、一様な面加圧を与えるようになっている。

【００２７】尚、研磨下定盤６４が研磨対象たるガラス
基板１６のマイクロコルゲーション１８には追従せず、
それよりも大きなうねりに対して倣うように、研磨下定
盤６４の剛性を適正な値に設定する点は図１で説明した
実施の形態と同様である。このように、高剛性の研磨上
定盤６２と適正剛性を持つ研磨下定盤６４との間に柔軟
な弾性体６０を介在させた層構造を有する研磨ヘッドの
作用は、以下の通りである。

【００２８】研磨上定盤６２に連結された回転シャフト
（不図示）から研磨上定盤６２に対して押圧力及び回転
力が付与されると、その押圧力は弾性体６０を介して研
磨下定盤６４に伝達される。このとき、研磨下定盤６４
はガラス基板１６表面の大きなうねりに倣って変形す
る。また、弾性体６０も研磨下定盤６４の変形に応じて
柔軟に変形し、研磨下定盤６４の背面に均一面圧を付与
する。これにより、研磨圧分布が均一となり、ガラス基
板１６のマイクロコルゲーション１８のみを選択的に且
つ、均一な研磨代で研磨除去することができる。

【００２９】なお、上記の実施の形態では、研磨上定盤
６２と研磨下定盤６４は弾性体６０を介して接着により
一体化するようにしているが、次のように吸着により一
体化するようにしてもよい。図１３に示すように、研磨
上定盤６２の下面には横２本のエア溝６６Ａ、６６Ｂ及
び縦４本のエア溝６８Ａ、６８Ｂ、６８Ｃ、６８Ｄが形
成されており、これらのエア溝６６Ａ、６６Ｂ、６８Ａ
〜６８Ｄは互いにクロスして格子状に形成されている。
また、エア溝６８Ｄには図１２に示すエア貫通孔７０が
連通され、このエア貫通孔７０は、研磨上定盤６２の上
部開口部に接続された配管７２を介して図示しない真空
ポンプに連結される。

【００３０】弾性体６０は研磨上定盤６２の下面に貼着
されており、該弾性体６０には図１３に示すように、前
記エア溝６６Ａ、６６Ｂ、６８Ａ〜６８Ｄに対応してス
リット７６Ａ、７６Ｂ、７８Ａ〜７８Ｄが形成されてい
る。また、前記研磨上定盤６２の下面には図１２に示す
ように、弾性体６０を囲むようにループ状の溝８０が形
成されており、この溝８０にＯリング８２が装着されて
いる。

【００３１】前記のごとく構成された研磨定盤におい
て、研磨下定盤６４を研磨上定盤６２に吸着させる方法
について説明すると、まず、研磨下定盤６４の上面に研
磨上定盤６２のＯリング８２を押し当てる。この時、前
記Ｏリング８２は、研磨上定盤６２の下面の外縁に沿っ
て装着されているので、研磨下定盤６２の上面の外縁が
前記Ｏリング８２に密着されることになる。この状態で
前記真空ポンプを駆動すると、研磨上定盤６２と研磨下
定盤６４とＯリング８２とで囲まれる空間の空気が、エ
ア溝６６Ａ、６６Ｂ、６８Ａ〜６８Ｄを介して貫通孔７
０に吸引され、そして、配管７２を介して真空ポンプに
吸引される。この時、エア溝６６Ａ、６６Ｂ、６８Ａ〜
６８Ｄによる吸引作用によって、Ｏリング８２で囲まれ
る弾性体６０の全面が研磨下定盤６４の上面を均一に吸
引し、これにより、研磨下定盤６４の上面が弾性体６０
に均一に真空吸着される。そしてこの結果、研磨下定盤
６４が研磨上定盤６２に安定して吸着保持される。

【００３２】図１４は、本発明の第３の実施の形態に係
る研磨装置の原理を示す概念図である。同図に示すよう
に、この研磨装置は研磨上定盤の上面を多点加圧してい
る点で上述した第２の実施の形態の研磨装置と異なって
いる。すなわち、研磨上定盤（第１支持体に相当）６２
の背面には複数の空気バネ（多点加圧手段に相当）８
４、８４、…が一定の間隔で配列され、研磨上定盤６２
はこれら空気バネ８４、８４、…を介して支持プレート
（第２支持体に相当）８６と連結されている。

【００３３】ここで、空気バネ８４は、研磨上定盤６２
を多点加圧可能なだけでなく、支持プレート８６の平面
方向の動きを研磨上定盤６２に伝達することができる。
支持プレート８６は、図示しない加圧シリンダーと連結
された回転シャフトの下端部に固着されており、加圧シ
リンダーからの圧力は各空気バネ８４、８４、…を介し
て複数点で研磨上定盤６２に伝達される。

【００３４】以上の構成によって、加圧シリンダーの圧
力は各空気バネ８４、８４、…によって、研磨上定盤６
２の上面に均一に分配される。そして、研磨上定盤６２
の上面に均一に分配された圧力は、弾性体６０（面加圧
手段に相当）を介して研磨下定盤６４の下面に均一に伝
達される。なお、研磨下定盤６４は、ガラス基板１６の
マイクロコルゲーション１８には追従しないが、それよ
りも大きなうねりに対して倣うように剛性が適正化され
ている点は上述した第２の実施の形態と同様である。

【００３５】このように、研磨上定盤６２を空気バネ８
４、８４、…によって多点加圧した構造を有する研磨ヘ
ッドの作用は、以下の通りである。回転シャフト（不図
示）から支持プレート８６に対して押圧力及び回転力が
付与されると、その押圧力は空気バネ８４、８４、…を
介して研磨上定盤６２に伝達される。このとき、研磨上
定盤６２には回転シャフトから与えられた圧力が均一に
分布される。

【００３６】研磨上定盤６２に伝達された押圧力は、弾
性体６０を介して研磨下定盤６４に伝達される。このと
き、研磨下定盤６４はガラス基板表面の大きなうねりに
倣って変形する。また、弾性体６０も研磨下定盤６４の
変形に応じて柔軟に変形し、研磨下定盤６４の背面に均
一面圧を付与する。これにより研磨圧分布が均一とな
り、ガラス基板のマイクロコルゲーションのみを選択的
に、かつ均一な研磨代で研磨除去することができる。

【００３７】このように第３の実施の形態の研磨装置で
は、空気バネ８４、８４、…の配置によらず選択的に除
去したいうねりに対して最適な剛性の研磨定盤を構成で
きるため、図１で説明した多点加圧のみの研磨装置より
も、より均一かつ効率的に研磨加工ができる。また、研
磨ヘッドが大型化する場合、本実施の形態のように多点
加圧と面加圧とを組み合わせることにより、弾性体によ
る面加圧のみからなる第２の実施の形態の構成に比べ研
磨定盤を軽量化することができる。このため全体のシス
テムを単純化することができる。

【００３８】上述した各実施の形態では、ガラス基板１
６を被加工物とする場合を例に説明したが、被加工物は
ガラスに限らず、金属、シリコンウェーハ、フォトマス
ク、セラミック等の他の材料でもよい。また、研磨装置
だけでなく、ラップ装置や研削装置にも適用できる。ま
た、上記各実施の形態では、本発明を研磨技術に適用し
た場合を例に説明したが、本発明は、材料同士の貼り付
けなど、一般に２つの物体の表面同士を面接触させる面
合わせ技術として広く応用することができる。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る板状材
への加圧方法及び加圧装置によれば、板状材の特定のピ
ッチ長の表面うねりに対して定盤が倣うように定盤の剛
性を最適化するとともに、この定盤の背面に加圧手段を
介して適正な分布荷重を付与するようにしたので、様々
なピッチの表面うねりをもつ板状材に対して選択的に面
接触させることができる。

【００４０】かかる方法を研磨技術に適用すれば、様々
なピッチの表面うねりをもつ被加工物に対し、目標とす
るうねりを選択的に均一に除去することができ、研磨時
間の短縮化を図ることができる。また、本発明を用いれ
ば、研磨圧分布が一定となる大型の研磨ヘッドを実現す
ることができ、大型の板状材を研磨する大板研磨装置の
実現が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を用いたマルチシリンダーポリシングの
原理を示す概念図

【図２】被加工物たるガラス基板の側断面図

【図３】本発明の実施の形態に係る研磨装置の要部側面
図

【図４】図３に示した研磨定盤が倣う曲面のピッチ長と
最大たわみ量の関係を示すグラフ

【図５】図３に示した研磨定盤が倣う曲面のピッチ長と
最大たわみ量の関係を示すグラフ

【図６】本発明の実施の形態に係る研磨装置の作用を説
明するために用いた側面図

【図７】研磨定盤の他の形態例を示す側面図

【図８】図７に示した研磨定盤を用いた研磨装置の作用
を説明するために用いた側面図

【図９】マルチシリンダーポリシングの原理を採用した
研磨ヘッドの構造例を示す斜視図

【図１０】図９に示した研磨ヘッドを用いた研磨装置の
要部側面図

【図１１】本発明の第２の実施の形態に係る研磨装置の
原理を示す概念図

【図１２】研磨定盤の他の形態例を示す側面図

【図１３】図１２に示した研磨上定盤の底面図

【図１４】本発明の第３の実施の形態に係る研磨装置の
原理を示す概念図

【図１５】従来の研磨装置の要部構成を示す側面図

【図１６】流体バッグを用いて均一面圧を付与する研磨
装置の概念図

【符号の説明】

１０、７８…研磨定盤 １２、４６、８４…空気バネ（加圧手段、多点加圧手
段） １４、８６…支持プレート（支持体、第２支持体） １６、７４…ガラス基板（板状材） １８…マイクロコルゲーション ２０…研磨テーブル ２２…テーブルパッド ２４…研磨パッド（研磨部材） ３８…切り込み溝 ４２、６４…研磨下定盤 ４４、６２…研磨上定盤（支持体、第１支持体） ４８…拘束手段 ６０…弾性体（加圧手段、面加圧手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 直剛 神奈川県横浜市鶴見区末広町１丁目１番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 3C058 AA07 AA09 AA12 BA05 BA07 BB04 CA01 CA05 CA06 CB01 DA17

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 板状材に対向して配置した定盤の背面に
   圧力を加えて板状材と定盤とを対向させる板状材への加
   圧方法であって、 板状材に加圧接触させたときに、板状材の特定のピッチ
   長の表面うねりに倣うことができるように、前記ピッチ
   長に応じて定盤の剛性を適正化し、 定盤を板状材に向けて多点加圧または面加圧することに
   よって、定盤を前記特定のピッチ長のうねりに沿うよう
   に変形させつつ板状材と定盤とを対向させることを特徴
   とする板状材への加圧方法。
2. 【請求項２】 板状材に対向して配置された定盤と、 該定盤の背面に配置され、定盤を支持する支持体と、 定盤と支持体の間に配置され、定盤を多点加圧又は面加
   圧可能な加圧手段と、 を備えた板状材への加圧装置であって、 定盤は、前記加圧手段により板状材の特定のピッチ長の
   表面うねりに倣うことができるように、前記ピッチ長に
   応じて剛性が適正化されていることを特徴とする板状材
   への加圧装置。
3. 【請求項３】 定盤の支持体に対する平面方向の動きを
   拘束する拘束手段を備えることを特徴とする請求項２記
   載の板状材への加圧装置。
4. 【請求項４】 板状材に対向して配置された定盤と、 定盤の背面に配置され、該定盤を支持する第１支持体
   と、 定盤と第１支持体の間に配置され、定盤を面加圧可能な
   面加圧手段と、 第１支持体の背面に配置され、該第１支持体を支持する
   第２支持体と、 第１支持体と第２支持体の間に配置され、第１支持体を
   多点加圧可能な加圧手段と、 を備えた板状材への加圧装置であって、 定盤は、前記面加圧手段により板状材の特定のピッチ長
   の表面うねりに倣うことができるように、前記ピッチ長
   に応じて剛性が適正化されていることを特徴とする板状
   材への加圧装置。
5. 【請求項５】 前記加圧手段として空気バネを用いるこ
   とを特徴とする請求項２、３又は４記載の板状材への加
   圧装置。
6. 【請求項６】 前記面加圧手段は、前記定盤と前記第１
   支持体との間に介在させたシート状の弾性体であること
   を特徴とする請求項４又は５記載の板状材への加圧装
   置。
7. 【請求項７】 定盤に研磨部材が設けられ、被加工物た
   る前記板状材と前記研磨部材とを相対的に摺動させて板
   状材の表面を研磨する研磨装置に適用されることを特徴
   とする請求項２、３、４、５又は６記載の板状材への加
   圧装置。