JP2013229598A5 - - Google Patents
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Claims (20)
- 第1導電型半導体層と、
前記第1導電型半導体層の上に配置される活性層と、
前記活性層の上に配置される第2導電型半導体層と、
前記活性層と前記第2導電型半導体層との間に配置される第3半導体層と、
前記第2導電型半導体層の上に配置される光抽出構造と、を含み、
前記第3半導体層の上面はGa−face面を有し、
前記第3半導体層のドーパントは、前記第2導電型半導体層のドーパントと同一極性を有し、
前記第2導電型半導体層の上面はN−face面を有することを特徴とする、発光素子。 - 前記第3半導体層は、前記活性層に接することを特徴とする、請求項1に記載の発光素子。
- 前記活性層と前記第3半導体層との間に配置される第4導電型半導体層をさらに含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の発光素子。
- 前記第4導電型半導体層のドーパントは、前記第1導電型半導体層のドーパントと反対の極性を有し、前記第2導電型半導体層のドーパントと同一の極性を有することを特徴とする、請求項3に記載の発光素子。
- 前記第3半導体層のドーパントの濃度は、前記第4導電型半導体層のドーパントの濃度より小さいことを特徴とする、請求項3または4に記載の発光素子。
- 前記第4導電型半導体層は、500nm乃至2μmの厚さであることを特徴とする、請求項3乃至5のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第1導電型半導体層の下に配置される第1電極層と、
前記第1電極層の下に配置される絶縁層と、
前記絶縁層の下に配置され、前記第4導電型半導体層に電気的に連結される第2電極層と、
を含むことを特徴とする、請求項3乃至6のうち、いずれか1項に記載の発光素子。 - 前記第2電極層は、前記第1導電型半導体層及び前記活性層を貫通して前記第4導電型半導体層に接することを特徴とする、請求項7に記載の発光素子。
- 前記第2電極層は、前記第3半導体層に接することを特徴とする、請求項7または8に記載の発光素子。
- 前記第2電極層は、
前記絶縁層の下に配置される水平電極と、
前記水平電極から垂直方向に突出した少なくとも1つ以上の垂直電極と、を含み、
前記垂直電極は前記第4導電型半導体層に接することを特徴とする、請求項7乃至9のうち、いずれか1項に記載の発光素子。 - 前記第2電極層の下に配置された支持基板をさらに含むことを特徴とする、請求項7乃至10のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第3半導体層は20nm乃至1μmの厚さであることを特徴とする、請求項1乃至11のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記光抽出構造の上に配置される電極と、
前記第1導電型半導体層の下に配置される電極層と、
前記第1導電型半導体層と前記電極層との間の周り領域に配置される保護層と、
をさらに含むことを特徴とする、請求項1乃至6のうち、いずれか1項に記載の発光素子。 - 前記第3半導体層の上面は、前記第2導電型半導体層の下面に直接接することを特徴とする、請求項1乃至13のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 前記第2導電型半導体層の下面はGa−face面を有することを特徴とする、請求項14に記載の発光素子。
- 支持基板と、
前記支持基板の上に配置される電極層と、
前記電極層の上に配置される第1導電型半導体層と、
前記第1導電型半導体層の上に配置される活性層と、
前記活性層の上に配置される第3半導体層と、
前記第3半導体層に接する前記第2導電型半導体層と、
前記第2導電型半導体層の上に配置される光抽出構造と、
前記電極層と前記第1導電型半導体層との間の周り領域に配置される保護層と、を含み、
前記第3半導体層のドーパントは前記第2導電型半導体層のドーパントと同一極性を有し、
前記第3半導体層の上面はGa−face面を有し、
前記第2導電型半導体層の上面はN−face面を有することを特徴とする、発光素子。 - 前記活性層と前記第3導電型半導体層との間に配置される第4導電型半導体層をさらに含み、
前記第4導電型半導体層のドーパントは、前記第1導電型半導体層のドーパントと反対の極性を有し、前記第2導電型半導体層のドーパントと同一の極性を有することを特徴とする、請求項16に記載の発光素子。 - 前記第3半導体層は前記活性層に接することを特徴とする、請求項16または17に記載の発光素子。
- 前記第3半導体層のドーパントの濃度は、前記第4導電型半導体層のドーパントの濃度より小さいことを特徴とする、請求項16乃至18のうち、いずれか1項に記載の発光素子。
- 胴体と、
前記胴体の上に配置され、請求項1乃至19のうち、いずれか1項に記載の発光素子と、
前記発光素子を囲むモールディング部材と、を含むことを特徴とする、発光素子パッケージ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20120043643A KR20130120615A (ko) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 발광 소자 및 발광 소자 패키지 |
KR10-2012-0043643 | 2012-04-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013229598A JP2013229598A (ja) | 2013-11-07 |
JP2013229598A5 true JP2013229598A5 (ja) | 2016-06-02 |
Family
ID=48182824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013081970A Pending JP2013229598A (ja) | 2012-04-26 | 2013-04-10 | 発光素子及び発光素子パッケージ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9099610B2 (ja) |
EP (1) | EP2657992A3 (ja) |
JP (1) | JP2013229598A (ja) |
KR (1) | KR20130120615A (ja) |
CN (1) | CN103378240B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7324395B2 (ja) | 2018-09-27 | 2023-08-10 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子及びその製造方法 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9112114B2 (en) * | 2013-01-30 | 2015-08-18 | Lg Innotek Co., Ltd. | Light emitting device with metal electrode layer having protrusion portions |
CN103972362A (zh) * | 2013-01-30 | 2014-08-06 | Lg伊诺特有限公司 | 发光器件 |
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US10797188B2 (en) * | 2014-05-24 | 2020-10-06 | Hiphoton Co., Ltd | Optical semiconductor structure for emitting light through aperture |
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JP6468459B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-02-13 | ウシオ電機株式会社 | 半導体発光素子 |
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KR102432015B1 (ko) | 2015-11-09 | 2022-08-12 | 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 | 자외선 발광소자 및 발광소자 패키지 |
JP6668863B2 (ja) * | 2016-03-22 | 2020-03-18 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子 |
US10734547B2 (en) * | 2016-06-24 | 2020-08-04 | Lg Innotek Co., Ltd. | Semiconductor device and semiconductor device package comprising same |
CN114730739B (zh) * | 2019-12-05 | 2023-06-06 | 苏州晶湛半导体有限公司 | 半导体结构及其制作方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007329382A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | GaN系発光ダイオード素子 |
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-
2012
- 2012-04-26 KR KR20120043643A patent/KR20130120615A/ko not_active Application Discontinuation
-
2013
- 2013-03-15 US US13/839,680 patent/US9099610B2/en active Active
- 2013-04-10 JP JP2013081970A patent/JP2013229598A/ja active Pending
- 2013-04-24 CN CN201310145342.8A patent/CN103378240B/zh active Active
- 2013-04-25 EP EP20130165372 patent/EP2657992A3/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7324395B2 (ja) | 2018-09-27 | 2023-08-10 | 日亜化学工業株式会社 | 発光素子及びその製造方法 |
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