JP2013223928A - 加飾フイルム構造体及び加飾成形部材 - Google Patents

Abstract

【課題】外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体及び加飾成形部材を提供することによって、光沢が強すぎず鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を容易に実現する。
【解決手段】加飾フイルム構造体１０Ａは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層１と、表面層１の裏面側に形成された金属光沢層３と、この金属光沢層３のうちその表面側に形成された複数の微細ドットからなる光吸収層２とを含む。そして、前記金属光沢層３は、光の干渉を誘起する光干渉材を含む。
【選択図】図１

Description

本発明は、自動車内装部品等に使用され得る加飾フイルム構造体及び加飾成形部材の技術分野に属する。

例えばドアハンドル等の自動車内装部品に高級感を演出するための金属調意匠が要求されることがある。そのため、光沢に優れるクロムめっきや、いぶし銀調のサテンめっき等が知られている。しかし、クロムめっきは鏡面性が高すぎて自動車室内の雰囲気に調和しない場合がある。一方、サテンめっきは落ち着いた質感であるが工程が複雑である。

そこで、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を容易に実現する技術が求められている。そのための１つの方策として、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が提案される。そのような加飾フイルム構造体は、例えば転写フイルムのベース材に各層を印刷や塗装等することによって容易に得ることができる。あるいは、加飾フイルム構造体の表面層となるクリアフイルムに各層を印刷や塗装等することによっても容易に得ることができる。そして、得られた加飾フイルム構造体を基材表面に転写や接着等することによって容易に基材を金属研磨面調に加飾することができる。もしくは、基材表面に直接加飾フイルム構造体の各層を印刷や塗装等してもよい。

特許文献１には、高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層及び／又は純金属薄膜層からなる光吸収層を備える光学薄膜層を基材上に設けることによって、反射明度及び反射彩度が十分に大きい金属光沢を有する光吸収層を備える光学薄膜積層体を得ることが開示されている。しかし、この技術は、反射明度が大きい金属光沢を基材に付加する技術であって、光沢が抑制された金属研磨面調意匠を基材に付加するものではない。

特開２００９−８３１８３号公報（要約、図１〜図５）

本発明の目的は、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体及び加飾成形部材を提供し、もって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を容易に実現することである。

上記課題を解決するための本発明の一の局面にかかる加飾フイルム構造体は、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、前記表面層の裏面側に形成された金属光沢層と、前記金属光沢層のうちその表面側、又は前記表面層のうちその表面側に形成された複数の微細ドットからなる光吸収層と、を含み、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものである。

この構成によれば、表面層側から加飾フイルム構造体に入射した光は、表面層の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層の裏面側又は表面層の表面側の光吸収層のドッドによって一部が吸光され、表面層の裏面側の金属光沢層によって一部が正反射（鏡面反射）する。また、光吸収層のドットの周縁部によっても光の一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が得られる。特に、金属光沢層に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって微妙な色調変化が生じ、これによって、より実際の金属研磨面に近い金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が得られる。

また、本発明の他の一の局面にかかる加飾フイルム構造体は、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、前記表面層の裏面側に形成された光吸収層と、前記光吸収層のうちその表面側、又は前記表面層のうちその表面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層と、を含み、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものである。

この構成によれば、表面層側から加飾フイルム構造体に入射した光は、表面層の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層の裏面側の光吸収層によって一部が吸光され、表面層の裏面側又は表面層の表面側の金属光沢層のドットによって一部が正反射（鏡面反射）する。また、金属光沢層のドットの周縁部によっても光の一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が得られる。特に、金属光沢層に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって微妙な色調変化が生じ、これによって、より実際の金属研磨面に近い金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が得られる。

また、本発明の他の一の局面にかかる加飾フイルム構造体は、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、複数の微細孔を具備し、前記表面層の表面側及び／又は裏面側に形成された金属光沢層と、を含み、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものである。

この構成によれば、表面層側から加飾フイルム構造体に入射した光は、表面層の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層の表面側及び／又は裏面側の金属光沢層の微細孔内に生じる金属光沢層の影によって一部が吸光され、表面層の表面側及び／又は裏面側の金属光沢層（微細孔以外の部分）によって一部が正反射（鏡面反射）する。また、金属光沢層の微細孔の周縁部によっても光の一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が得られる。特に、金属光沢層に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって微妙な色調変化が生じ、これによって、より実際の金属研磨面に近い金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体が得られる。

上記の加飾フイルム構造体において、前記金属光沢層は、当該金属光沢層に含まれる光干渉材の平均粒径が０を超え７０μｍ以下で、当該金属光沢層の成分１００重量部に対する前記光干渉材の含有量が３０重量部以下であるのが好ましい。

光干渉材の粒径および含有量が上記のような範囲にあることで、金属光沢層における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、より実際の金属研磨面に近い微妙な色調の変化が達成される。

上記加飾フイルム構造体において、前記微細ドットからなる光吸収層を含むものについては、前記表面層の表面側の表面粗さがＲａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上であり、前記光吸収層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜８０であり、平面視での前記微細ドットの面積が１０^−３〜１０^５μｍ^２であり、平面視での単位面積当たりの前記微細ドットの面積率が１〜８０％であり、前記金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が１００００以上であるのが好ましい。

ここで、ＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定される光吸収層のＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）は、ＪＩＳ−Ｚ−８７２９に従い、ＪＩＳ−Ｚ−８７２２に規定される幾何条件ａ（試料面の法線方向に対する照明光軸角度：−４５±２°、受光反射光軸角度：０±２°）で測定したものである。また、ＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における金属光沢層の刺激値（Ｙ４５°）は、試料面の法線方向に対する照明光軸角度を−４５±２°とし、受光反射光軸角度を４５±２°として、ＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における反射による物体色の三刺激値の定義に従ってＹ値を計算したものである。

このように、表面層の表面側の表面粗さとして、Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。また、無彩色層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。また、平面視でのドットの面積を１０^−３μｍ^２以上とすることにより、ドットが小さくなりすぎず、光吸収層による吸光が確実に行われる。また、平面視でのドットの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を一定としたときに、ドットの数が増えるから、ドットの周縁長が長くなり、ドットの周縁部による拡散反射が確実に行われ、さらに、ドットが大きくなりすぎず、加飾フイルム構造体の見栄えの低下が抑制される。また、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を１％以上とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。また、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を８０％以下とすることにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体の過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。また、金属光沢層の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより確実に得られる。

上記加飾フイルム構造体において、前記微細ドットからなる金属光沢層を含むものについては、前記表面層の表面側の表面粗さがＲａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上であり、前記光吸収層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜８０で、平面視での前記微細ドットの面積が１０^−３〜１０^５μｍ^２であり、平面視での単位面積当たりの前記微細ドットの面積率が２０〜９９％であり、金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が１００００以上であるのが好ましい。

このように、表面層の表面側の表面粗さとして、Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。また、金属光沢層の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。また、無彩色層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。また、平面視でのドットの面積を１０^−３μｍ^２以上とすることにより、ドットが小さくなりすぎず、ドットによる正反射が確実に行われる。また、平面視でのドットの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を一定としたときに、ドットの数が増えるから、ドットの周縁長が長くなり、ドットの周縁部による拡散反射が確実に行われ、さらに、ドットが大きくなりすぎず、加飾フイルム構造体の見栄えの低下が抑制される。平面視での単位面積当たりのドットの面積率を２０％以上、つまり平面視での単位面積当たりの光吸収層の面積率を８０％以下とすることにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体の過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。また、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を９９％以下、つまり平面視での単位面積当たりの光吸収層の面積率を１％以上とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。

上記加飾フイルム構造体において、前記複数の微細孔を備える金属光沢層を含むものでは、前記表面層の表面側の表面粗さがＲａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上であり、平面視での前記微細孔の面積が１０^−３〜１０^５μｍ^２であり、平面視での単位面積当たりの前記微細孔の面積率が１〜８０％であり、金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が１００００以上であるのが好ましい。

このように、表面層の表面側の表面粗さとして、Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。また、金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。平面視での微細孔の面積を１０^−３μｍ^２以上とすることにより、微細孔が小さくなりすぎず、微細孔内に生じる金属光沢層の影による吸光が確実に達成される。平面視での微細孔の面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、微細孔が大きくなりすぎず、金属光沢層（微細孔以外の部分）による正反射が確実に行われる。また、平面視での単位面積当たりの微細孔の面積率を一定としたときに、微細孔の数が増えるから、微細孔の周縁長が長くなり、微細孔の周縁部による拡散反射が確実に行われる。平面視での単位面積当たりの微細孔の面積率を１％以上、つまり金属光沢層の影が生じる可能性のある部分の平面視での単位面積当たりの面積率を１％以上とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。平面視での単位面積当たりの微細孔の面積率を８０％以下、つまり金属光沢層の影が生じる可能性のある部分の平面視での単位面積当たりの面積率を８０％以下とすることにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体の過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。

上記の各加飾フイルム構造体においては、前記表面層の表面側の表面粗さが、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上であるのがより好ましい。

この構成によれば、金属研磨面調意匠を実現するためにより十分な拡散反射がより一層確実に得られる。

上記の各加飾フイルム構造体においては、前記光吸収層を備えるものについては、当該光吸収層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜５０であるのがより好ましい。

この構成によれば、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するための吸光がより一層確実に達成される。

上記の加飾フイルム構造体において、微細ドッドならなる光吸収層を備えるものについては、さらに光吸収層のドットの面積率が１〜６０％であることが好ましい。

この構成によれば、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体の過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

上記の加飾フイルム構造体において、前記微細孔を備える金属光沢層を含むものでは、当該金属光沢層の微細孔の面積率が１〜６０％であるのが好ましい。

この構成によれば、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体の過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

上記の加飾フイルム構造体においては、前記金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が２００００以上であるのが好ましい。

この構成によれば、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより一層確実に得られる。

上記の加飾フイルム構造体において、微細ドッドならなる金属光沢層を備えるものについては、さらに、前記金属光沢層の前記微細ドットの面積率が４０〜９９％であるのが好ましい。

この構成によれば、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体の過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

一方、本発明の一局面にかかる加飾成形部材は、上記のような加飾フイルム構造体が基材の表面側に形成されてなるものである。

この構成によれば、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材が得られる。

前記加飾成形部材においては、基材は樹脂成形部材であることが好ましい。

この構成によれば、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材の形状の自由度を高くすることができる。

また、本発明の他の一局面にかかる加飾成形部材は、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、表面層のうちその表面側及び／又は表面層の裏面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層とを含むフイルム構造体が、吸光機能を有する基材の表面側に設けられるものであって、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものである。

この構成によれば、表面層側から加飾成形部材に入射した光は、表面層の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、基材の表面によって一部が吸光され、表面層の表面側及び／又は裏面側の金属光沢層のドットによって一部が正反射（鏡面反射）する。また、金属光沢層のドットの周縁部によっても光の一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材が得られる。特に、金属光沢層に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって微妙な色調変化が生じ、これによって、より実際の金属研磨面に近い金属研磨面調意匠を呈する加飾成型部材得られる。

また、本発明の他の一局面にかかる加飾成形部材は、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、複数の微細孔を具備し、当該微細孔が前記表面層により埋められるようにして当該表面層の表面側及び／又は裏面側に形成された金属光沢層とを含むフイルム構造体が、吸光機能を有する基材の表面側に設けられるものであって、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものである。

この構成によれば、表面層側から加飾成形部材に入射した光は、表面層の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、基材の表面によって一部が吸光され、表面層の表面側及び／又は裏面側の金属光沢層（微細孔以外の部分）によって一部が正反射（鏡面反射）する。また、金属光沢層の微細孔の周縁部によっても光の一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材が得られる。この場合も、金属光沢層に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって微妙な色調変化が生じ、これによって、より実際の金属研磨面に近い金属研磨面調意匠を呈する加飾成型部材得られる。

また、本発明の他の一局面にかかる加飾成形部材は、表面に複数の微細凹部を有する基材と、基材の表面形状に沿って基材の表面側に形成された金属光沢層と、金属光沢層の表面側に形成された透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、を備え、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものである。

この構成によれば、表面層側から加飾成形部材に入射した光は、表面層の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、金属光沢層の微細凹部（この金属光沢層の微細凹部は、金属光沢層が基材の表面形状に沿って形成されることにより、基材表面の微細凹部の形状が金属光沢層の表面に現れたものである。）内に生じる金属光沢層の影によって一部が吸光され、金属光沢層によって一部が正反射（鏡面反射）する。また、金属光沢層の微細凹部の周縁部によっても光の一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材が得られる。この場合も、金属光沢層に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって微妙な色調変化が生じ、これによって、より実際の金属研磨面に近い金属研磨面調意匠を呈する加飾成型部材得られる。

これらの加飾成形部材において、前記金属光沢層は、当該金属光沢層に含まれる光干渉材の平均粒径が７０μｍ以下で、当該金属光沢層の成分１００重量部に対する前記光干渉材の含有量が３０重量部以下であるのが好ましい。

金属光沢層における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、より実際の金属研磨面に近い微妙な色調の変化が達成される。

以上説明したように、本発明によれば、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体及び加飾成形部材が提供されるから、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を容易に実現することができる。

本発明の一実施形態に係る加飾フイルム構造体及び加飾成形部材の層構成を示す縦断面図であって、（Ａ）は光吸収層が表面層の裏面側に形成されたもの、（Ｂ）は光吸収層が表面層の表面側に形成されたものである。 本発明の他の一実施形態に係る加飾フイルム構造体及び加飾成形部材の層構成を示す縦断面図であって、（Ａ）は金属光沢層が表面層の裏面側に形成されたもの、（Ｂ）は金属光沢層が表面層の表面側に形成されたものである。 本発明の他の一実施形態に係る加飾成形部材の層構成を示す縦断面図であって、（Ａ）は複数の微細ドットからなる金属光沢層が表面層の表面側に形成されたもの、（Ｂ）は複数の微細ドットからなる金属光沢層が表面層の裏面側に形成されたもの、（Ｃ）は複数の微細ドットからなる金属光沢層が表面層の裏面側に形成され、かつ充填層が形成されたものである。 本発明の他の一実施形態に係る加飾フイルム構造体及び加飾成形部材の層構成を示す縦断面図であって、（Ａ）は複数の微細孔を有する金属光沢層が表面層の表面側に形成されたもの、（Ｂ）は複数の微細孔を有する金属光沢層が表面層の裏面側に形成されたもの、（Ｃ）は複数の微細孔を有する金属光沢層が表面層の裏面側に形成され、かつ充填層が形成されたものである。 本発明の変形例に係る加飾フイルム構造体及び加飾成形部材の層構成を示す縦断面図であって、（Ａ）は第２の金属光沢層が形成されたもの、（Ｂ）は第２の金属光沢層及び第３の金属光沢層が形成されたものである。 本発明の変形例に係る加飾成形部材の層構成を示す縦断面図であって、（Ａ）は複数の微細孔を有する金属光沢層が表面層の表面側に形成されたもの、（Ｂ）は複数の微細孔を有する金属光沢層が表面層の裏面側に形成されたもの、（Ｃ）は複数の微細孔を有する金属光沢層が表面層の裏面側に形成され、かつ充填層が形成されたものである。 本発明の他の一実施形態に係る加飾成形部材の層構成を示す縦断面図である。 加飾フイルム（光干渉材の含有率０％）における波長毎の反射率を測定した結果を示すグラフである。 加飾フイルム（光干渉材の含有率２％）における波長毎の反射率を測定した結果を示すグラフである。 加飾フイルム（光干渉材の含有率３０％）における波長毎の反射率を測定した結果を示すグラフである。

本発明者等は、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を、複数の層を積層した構成の加飾フイルム構造体によって実現することにより、従来のサテンめっきのような複雑な工程を要することなく当該金属研磨面調意匠を簡単に得ることを目標として検討を重ねた。その結果、金属研磨面調意匠の実現のためには、加飾フイルム構造体に入射した光の拡散反射と、吸光と、正反射（鏡面反射）とが重要な要素であることに着目した。そして、拡散反射は、加飾フイルム構造体の表面層の表面粗さによって再現が可能、吸光は、明度が相対的に低い光吸収層によって再現が可能、正反射は、刺激値が相対的に高い金属光沢層によって再現が可能であることを見出し、適切な配列で各層を形成した上で、それらの面積等により光吸収層や金属光沢層への光の入射量をバランスさせることで、光の拡散反射と吸光と正反射とが相俟った、従来のサテンめっきのような金属研磨面調意匠の外観を得ることが可能であることを見出した。

ここで、実際の金属研磨面には、見る角度により僅かではあるが色調が変化するという特性があり、例えば従来のサテンめっきでは、その表面に入射する光が当該表面に形成されているクレータ状の微小凹部で回折を伴いながら分光拡散反射されることで上記色調変化が再現されている。しかし、複数の層を積層することにより構成される加飾フイルム構造体では、このように、見る角度により微妙に色調を変化させることは容易ではなく、例えば金属光沢層の表面に微小凹凸を設けるなどするだけでは、金属光沢層の表面が荒れることで却って全体が塗装面のようになってしまう。

そこで、本発明者は、このような知見と創意工夫とに基づき、種々試験を繰り返すことにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感を有し、しかも見る角度により色調が微妙に変化する、従来のサテンめっきのような金属研磨面調意匠を提供できる加飾フイルム構造体１０Ａを完成させた。

すなわち、本実施形態に係る加飾フイルム構造体１０Ａは、図１（Ａ）に示すように、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層１と、表面層１の裏面側に形成された複数の微細ドットからなる光吸収層２と、光吸収層２のドット間を埋めるように表面層１の裏面側に形成された金属光沢層３とを備えている。そして、金属光沢層３には、微細な粒子からなる光干渉材が含まれている。ここで、表面層１は拡散反射機能を有し、光吸収層２は吸光機能及び拡散反射機能を有し、金属光沢層３は正反射機能を有する。

この加飾フイルム構造体１０Ａでは、光吸収層２のドット間の間隙に金属光沢層３の一部が配置されることにより、ドット間の間隙から金属光沢層３が観察される。そのため、この加飾フイルム構造体１０Ａを、拡散反射機能を有する表面層１側から見たときには、吸光機能を有する光吸収層２が、正反射機能を有する金属光沢層３の中に細かく点在している。

このような構成によれば、表面層１側から加飾フイルム構造体１０Ａに入射した光は、表面層１の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層１の裏面側の光吸収層２のドットによって一部が吸光され、またドットの周縁部によって一部が拡散反射し、表面層１の裏面側の金属光沢層３によって一部が正反射（鏡面反射）する。このような光の拡散反射、吸光、正反射が相俟って、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体１０Ａが得られる。

なお、図１（Ａ）は、光吸収層２のドットの裏面側にも金属光沢層３が存在し、光吸収層２のドット間の間隙に金属光沢層３の一部が配置された構成であったが、これに限らず、光吸収層２のドットの裏面側には金属光沢層３が存在せず、光吸収層２のドット間の間隙に金属光沢層３の全部が配置された構成でもよい。

また、図１（Ｂ）に示すように、本実施形態に係る別の加飾フイルム構造体１０Ａは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層１と、表面層１の表面側に形成された複数の微細ドットからなる光吸収層２と、表面層１の裏面側に形成された金属光沢層３とを備えている。ここで、表面層１は拡散反射機能を有し、光吸収層２は吸光機能及び拡散反射機能を有し、金属光沢層３は正反射機能を有する。

この加飾フイルム構造体１０Ａでは、光吸収層２の下に金属光沢層３が配置されることにより、ドット間の間隙から金属光沢層３が観察される。そのため、この加飾フイルム構造体１０Ａを、拡散反射機能を有する表面層１側から見たときには、吸光機能を有する光吸収層２が、正反射機能を有する金属光沢層３の中に細かく点在している。

このような構成によれば、表面層１側から加飾フイルム構造体１０Ａに入射した光は、表面層１の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層１の表面側の光吸収層２のドットによって一部が吸光され、またドットの周縁部によって一部が拡散反射し、表面層１の裏面側の金属光沢層３によって一部が正反射（鏡面反射）する。このような光の拡散反射、吸光、正反射が相俟って、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体１０Ａが得られる。

なお、本実施形態において、上記拡散反射機能とは、外部から入射角４５度で入射された可視光（波長：４２０〜６７０ｎｍ、広がり角：実質零度）を反射するとき、反射光強度の２０％以上を正反射角±３度以内の方向以外の方向に反射する機能をいう。あるいは、外部から入射角９０度で入射された可視光（波長：３８０〜７８０ｎｍ、広がり角：実質零度）を透過するとき、透過光強度の５％以上を正透過方向角±３度以内の方向以外の方向に変角する機能をいう。また、吸光機能とは、外部から入射角９０度で入射された可視光（波長：４２０〜６７０ｎｍ、広がり角：実質零度）の強度の２０％以上を吸収又は透過する機能をいう。好ましくは、入射された可視光を反射するとき、波長ごと（４２０〜６７０ｎｍ）の反射率の差が±１０％以内である。また、正反射機能とは、外部から入射角４５度で入射された可視光（波長：４２０〜６７０ｎｍ、広がり角：実質零度）を反射するとき、反射光強度の９０％以上を正反射角±３度以内の方向に反射する機能をいう。なお、これら拡散反射機能、吸光機能および正反射機能についての定義は、後述する他の実施形態についても同じである。

本実施形態では、表面層１の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）、光吸収層２の明度（Ｌ^＊）、光吸収層２のドットの面積、光吸収層２のドットの面積率、金属光沢層３に含まれる光干渉材の粒径及び含有量、金属光沢層３の刺激値（Ｙ４５°）を調整することによって、加飾フイルム構造体１０Ａの金属研磨面調意匠における光の拡散反射の程度、光の正反射の程度、光の吸収の程度をそれぞれ独立して所望の値に調整することができる。

本実施形態では、表面層１の表面側の表面粗さは、Ｒａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上である。Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分は拡散反射が確実に得られる。

表面層１の表面側の表面粗さは、より好ましくは、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射がより一層確実に得られる。

本実施形態においては、光吸収層２のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）は０〜８０である。光吸収層２の明度（Ｌ^＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面意匠を実現するために十分な吸光が達成される。

光吸収層２の明度（Ｌ^＊）は、より好ましくは、０〜５０である。これにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分は吸光がより一層確実に達成される。

本実施形態においては、平面視でのドットの面積は１０^−３〜１０^５μｍ^２である。ドットの面積を１０^−３μｍ^２以上とすることにより、ドットが小さくなりすぎず、ドットによる吸光が確実に行われる。ドットの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を一定としたときに、ドットの数が増えるから、ドットの周縁長が長くなり、ドットの周縁部による拡散反射が確実に行われる。また、ドットが大きくなりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ａの見栄えの低下が抑制される。

本実施形態においては、平面視での単位面積当たりのドットの面積率は１〜８０％である。ドットの面積率を１％以上とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。ドットの面積率を８０％以下とすることにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ａの過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。

光吸収層２のドットの面積率は、より好ましくは、１〜６０％である。これにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ａの過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

本実施形態においては、金属光沢層３のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）は１００００以上である。金属光沢層３の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。

金属光沢層３の刺激値（Ｙ４５°）は、より好ましくは、２００００以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより一層確実に得られる。

また、上記のように金属光沢層３に光干渉材が含まれていることで、見る角度により色調が微妙に変化する、従来のサテンめっきのような金属光沢が得られる。ここで、金属光沢層３に含まれる前記光干渉材は、光の干渉現象を誘起させることが可能な微粒子、例えばマイカ（雲母）である。つまり、金属光沢層３の入射光の一部がマイカに入射すると、マイカ表面で反射する光とマイカ内に入ってその裏面で反射する光とが生じ、これによりいわゆる光の干渉現象が生じる。そして、マイカを経由するこれら光の光路長差が見る角度により変化することで、強調される光の波長が変化し、その結果、色調が見る角度により微妙に変化する従来のサテンめっきのような金属光沢が得られる。

なお、光干渉材の平均粒径は０を超え７０μｍ以下であり、金属光沢層３における光干渉材の含有量は、金属光沢層３の成分１００重量部に対して３０重量部以下である。光干渉材の粒径および含有量が上記のような範囲にあることで、金属光沢層３における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、より実際の金属研磨面や従来のサテンめっきに近い微妙な色調の変化が達成される。

なお、図８〜図１０は、光干渉材の含有率が異なる加飾フイルム構造体１０Ａについて、それぞれ入射される可視光の特定波長（４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍ）の正反射の反射率を、変角分光光度計を用いて測定した結果を示している。図８〜図１０は、光干渉材の含有量が０％、２％（２重量部）、３０％（３０重量部）の結果をそれぞれ示しており、各結果は、各波長の各受光角の反射率を５５０ｎｍの反射率で正規化したものである。これらの図に示すように、金属光沢層３が光干渉材を含有しない場合（図８）には、受光角度が比較的大きい領域で僅かに反射率の変化が見られるが、それ以外の受光角度では殆ど反射率の変化は見られない。これに対して金属光沢層３が光干渉材を含有する場合（図９、図１０）には、反射率が受光角度によって顕著に変化しており、これらの測定結果からも、金属光沢層３に光干渉材が含まれていることで、見る角度によって加飾フイルム構造体１０Ａ色調が微妙に変化し、この色調の変化が、光干渉材の含有量の影響を受けることが考察できる。

上記の加飾フイルム構造体１０Ａは、例えば転写フイルムのベース材（図示せず）に各層１〜３を印刷や塗装等することによって容易に得ることができる。あるいは、加飾フイルム構造体１０Ａの表面層１となるクリアフイルムに各層２、３を印刷や塗装等することによっても容易に得ることができる。そして、得られた加飾フイルム構造体１０Ａを基材５の表面に転写や接着等することによって容易に基材５を金属研磨面調に加飾することができる。もしくは、基材５の表面に直接加飾フイルム構造体１０Ａの各層１〜３を印刷や塗装等してもよい。

このようにして、加飾フイルム構造体１０Ａが基材５の表面側に形成されてなる加飾成形部材２０Ａが得られる。この加飾成形部材２０Ａは、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものとなる。

基材５は樹脂成形部材であることが好ましい。光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材２０Ａの形状の自由度を高くすることができるからである。

なお、図１において、符号４は、金属光沢層３を表面層１に押え付けるための裏打ち層及び／又は加飾フイルム構造体１０Ａを基材５に接着するための接着層である。さらに、金属光沢層３が裏打ち層（接着層）４によって侵食されあるいは腐食するのを防ぐための保護層（図示せず）を金属光沢層３と裏打ち層（接着層）４との間に設けてもよい。

次に、本発明の他の実施形態について説明する。

図２（Ａ）に示すように、加飾フイルム構造体１０Ｂは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層１１と、表面層１１の裏面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層１２と、金属光沢層１２のドット間を埋めるように表面層１１の裏面側に形成された光吸収層１３とを備えている。そして、金属光沢層１２には、微細な粒子からなる光干渉材が含まれている。

ここで、表面層１１は拡散反射機能を有し、金属光沢層１２は正反射機能及び拡散反射機能を有し、光吸収層１３は吸光機能を有する。

この加飾フイルム構造体１０Ｂでは、金属光沢層１２のドット間の間隙に光吸収層１３の一部が配置されることにより、ドット間の間隙から光吸収層１３が観察される。そのため、この加飾フイルム構造体１０Ｂを、拡散反射機能を有する表面層１１側から見たときには、正反射機能を有する金属光沢層１２が、吸光機能を有する光吸収層１３の中に細かく点在している。

このような構成によれば、表面層１１側から加飾フイルム構造体１０Ｂに入射した光は、表面層１１の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層１１の裏面側の光吸収層１３によって一部が吸光され、表面層１１の裏面側の金属光沢層１２のドットによって一部が正反射（鏡面反射）し、またドットの周縁部によって一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射が相俟って、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体１０Ｂが得られる。

なお、図２（Ａ）は、金属光沢層１２のドットの裏面側にも光吸収層１３が存在し、金属光沢層１２のドット間の間隙に光吸収層１３の一部が配置された構成であったが、これに限らず、金属光沢層１２のドットの裏面側には光吸収層１３が存在せず、金属光沢層１２のドット間の間隙に光吸収層１３の全部が配置された構成でもよい。

また、図２（Ｂ）に示すように、本実施形態に係る別の加飾フイルム構造体１０Ｂは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層１１と、表面層１１の表面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層１２と、表面層１１の裏面側に形成された光吸収層１３とを備えている。ここで、表面層１１は拡散反射機能を有し、金属光沢層１２は正反射機能及び拡散反射機能を有し、光吸収層１３は吸光機能有する。

この加飾フイルム構造体１０Ｂでは、金属光沢層１２の下に光吸収層１３を配置することにより、ドット間の間隙から光吸収層１３が観察される。そのため、この加飾フイルム構造体１０Ｂを、拡散反射機能を有する表面層１１側から見たときには、正反射機能を有する金属光沢層１２が、吸光機能を有する光吸収層１３の中に細かく点在している。

このような構成によれば、表面層１１側から加飾フイルム構造体１０Ｂに入射した光は、表面層１１の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層１１の裏面側の光吸収層１３によって一部が吸光され、表面層１１の表面側の金属光沢層１２のドットによって一部が正反射（鏡面反射）し、またドットの周縁部によって一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射が相俟って、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体１０Ｂが得られる。

本実施形態では、表面層１１の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）、光吸収層１３の明度（Ｌ^＊）、金属光沢層１２の刺激値（Ｙ４５°）、金属光沢層１２のドットの面積、金属光沢層１２のドットの面積率、金属光沢層１２に含まれる光干渉材の粒径及び含有量を調整することによって、加飾フイルム構造体１０Ｂの金属研磨面調意匠における光の拡散反射の程度、光の正反射の程度、光の吸収の程度をそれぞれ独立して所望の値に調整することができる。

本実施形態では、表面層１１の表面側の表面粗さは、Ｒａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上である。Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。

表面層１１の表面側の表面粗さは、より好ましくは、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射がより一層確実に得られる。

本実施形態においては、金属光沢層１２のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）は１００００以上である。金属光沢層１２の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。

金属光沢層１２の刺激値（Ｙ４５°）は、より好ましくは、２００００以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより一層確実に得られる。

また、上記のように金属光沢層１２に光干渉材が含まれていることで、見る角度により色調が微妙に変化する、従来のサテンめっきのような金属光沢が得られる。ここで、金属光沢層１２に含まれる前記光干渉材は、図１の金属光沢層３に含まれる光拡散材と同様、例えばマイカ（雲母）である。そして、光干渉材の平均粒径は０を超え７０μｍ以下であり、金属光沢層１２における光干渉材の含有量は、金属光沢層１２の成分１００重量部に対して３０重量部以下である。光干渉材の粒径および含有量が上記のような範囲にあることで、金属光沢層１２における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、より実際の金属研磨面や従来のサテンめっきに近い微妙な色調の変化が達成される。

本実施形態においては、平面視でのドットの面積は１０^−３〜１０^５μｍ^２である。ドットの面積を１０^―３μｍ^２以上とすることにより、ドットが小さくなりすぎず、ドットによる正反射が確実に行われる。ドットの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を一定としたときに、ドットの数が増えるから、ドットの周縁長が長くなり、ドットの周縁部による拡散反射が確実に行われる。また、ドットが大きくなりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ｂの見栄えの低下が抑制される。

本実施形態においては、平面視での単位面積当たりのドットの面積率は２０〜９９％である。ドットの面積率を２０％以上とすることにより、平面視での単位面積当たりの光吸収層１３の面積率が８０％以下となり、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ｂの過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。ドットの面積率を９９％以下とすることにより、平面視での単位面積当たりの光吸収層１３の面積率が１％以上となり、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。

金属光沢層１２のドットの面積率は、より好ましくは、４０〜９９％である。これにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ｂの過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

本実施形態においては、光吸収層１３のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）は０〜８０である。光吸収層２の明度（Ｌ^＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面意匠を実現するために十分な吸光が達成される。

光吸収層１３の明度（Ｌ^＊）は、より好ましくは、０〜５０である。これにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光がより一層確実に達成される。

上記の加飾フイルム構造体１０Ｂは、例えば転写フイルムのベース材（図示せず）に各層１１〜１３を印刷や塗装等することによって容易に得ることができる。あるいは、加飾フイルム構造体１０Ｂの表面層１１となるクリアフイルムに各層１２、１３を印刷や塗装等することによっても容易に得ることができる。そして、得られた加飾フイルム構造体１０Ｂを基材１５の表面に転写や接着等することによって容易に基材１５を金属研磨面調に加飾することができる。もしくは、基材１５の表面に直接加飾フイルム構造体１０Ｂの各層１１〜１３を印刷や塗装等してもよい。

このようにして、加飾フイルム構造体１０Ｂが基材１５の表面側に形成されてなる加飾成形部材２０Ｂが得られる。この加飾成形部材２０Ｂは、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものとなる。

基材１５は樹脂成形部材であることが好ましい。光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材２０Ｂの形状の自由度を高くすることができるからである。

なお、図２において、符号１４は、光吸収層１３を表面層１１に押え付けるための裏打ち層及び／又は加飾フイルム構造体１０Ｂを基材１５に接着するための接着層である。さらに、光吸収層１３が裏打ち層（接着層）１４によって侵食されあるいは腐食するのを防ぐための保護層（図示せず）を光吸収層１３と裏打ち層（接着層）１４との間に設けてもよい。

次に、本発明のさらに他の実施形態について説明する。

図３（Ａ）に示すように、加飾成形部材２０Ｃは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層２１と、表面層２１の表面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層２２とを備えるフイルム構造体１０Ｃが、吸光機能を有する基材２４の表面側に形成されたものである。

また、図３（Ｂ）に示すように、本実施形態に係る別の加飾成形部材２０Ｃは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層２１と、表面層２１の裏面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層２２とを備えるフイルム構造体１０Ｃが、吸光機能を有する基材２４の表面側に形成されたものである。

また、図３（Ｃ）に示すように、本実施形態に係るさらに別の加飾成形部材２０Ｃは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層２１と、表面層２１の裏面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層２２と、金属光沢層２２のドット間を埋めるように表面層２１の裏面側に形成された透明又は半透明の充填層２５とを備えるフイルム構造体１０Ｃが、吸光機能を有する基材２４の表面側に形成されたものである。

これら図３（Ａ）〜図３（Ｃ）に示す各加飾フイルム構造体１０Ｃにおいて、金属光沢層２２には、微細な粒子からなる光干渉材が含まれている。

ここで、表面層２１は拡散反射機能を有し、金属光沢層２２は正反射機能及び拡散反射機能を有し、基材２４表面は吸光機能を有する。

これらの加飾成形部材２０Ｃでは、金属光沢層２２を複数の微細ドットからなる構成としたことにより、ドット間の間隙から基材２４表面が観察される。そのため、この加飾成形部材２０Ｃを、拡散反射機能を有する表面層２１側から見たときには、正反射機能を有する金属光沢層２２が吸光機能を有する基材２４表面の中に細かく点在している。

このような構成によれば、表面層２１側から加飾成形部材２０Ｃに入射した光は、表面層２１の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、基材２４の表面によって一部が吸光され、表面層２１の表面側又は裏面側の金属光沢層２２のドットによって一部が正反射（鏡面反射）し、またドットの周縁部によって一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射が相俟って、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材２０Ｃが得られる。

なお、図３（Ｃ）は、金属光沢層２２のドットの裏面側にも充填層２５が存在し、金属光沢層２２のドット間の間隙に充填層２５の一部が配置された構成であったが、これに限らず、金属光沢層２２のドットの裏面側には充填層２５が存在せず、金属光沢層２２のドット間の間隙に充填層２５の全部が配置された構成でもよい。

本実施形態においては、表面層２１の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）、金属光沢層２２の刺激値（Ｙ４５°）、金属光沢層２２のドットの面積、金属光沢層２２のドットの面積率、金属光沢層２２に含まれる光干渉材の粒径及び含有量、基材２４表面の明度（Ｌ^＊）を調整することによって、加飾成形部材２０Ｃの金属研磨面調意匠における光の拡散反射の程度、光の正反射の程度、光の吸収の程度をそれぞれ独立して所望の値に調整することができる。

本実施形態では、表面層２１の表面側の表面粗さは、Ｒａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上である。Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。

表面層２１の表面側の表面粗さは、より好ましくは、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射がより一層確実に得られる。

本実施形態では、金属光沢層２２のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）は１００００以上である。金属光沢層２２の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。

金属光沢層２２の刺激値（Ｙ４５°）は、より好ましくは、２００００以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより一層確実に得られる。

また、上記のように金属光沢層２２に光干渉材が含まれていることで、見る角度により色調が微妙に変化する、従来のサテンめっきのような金属光沢が得られる。ここで、金属光沢層２２に含まれる前記光干渉材は、図１の金属光沢層３に含まれる光拡散材と同様、例えばマイカ（雲母）である。そして、光干渉材の平均粒径は０を超え７０μｍ以下であり、金属光沢層２２における光干渉材の含有量は、金属光沢層２２の成分１００重量部に対して３０重量部以下である。光干渉材の粒径および含有量が上記のような範囲にあることで、金属光沢層２２における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、実際の金属研磨面や従来のサテンめっきにより近い微妙な色調の変化が達成される。

本実施形態では、平面視でのドットの面積は１０^−３〜１０^５μｍ^２である。ドットの面積を１０^−３μｍ^２以上とすることにより、ドットが小さくなりすぎず、ドットによる正反射が確実に行われる。ドットの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、平面視での単位面積当たりのドットの面積率を一定としたときに、ドットの数が増えるから、ドットの周縁長が長くなり、ドットの周縁部による拡散反射が確実に行われる。また、ドットが大きくなりすぎず、フイルム構造体１０Ｃの見栄えの低下が抑制される。

本実施形態では、平面視での単位面積当たりのドットの面積率は２０〜９９％である。ドットの面積率を２０％以上とすることにより、平面視での単位面積当たりの基材２４表面の面積率が８０％以下となり、吸光が過剰になりすぎず、加飾成形部材２０Ｃの過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。ドットの面積率を９９％以下とすることにより、平面視での単位面積当たりの基材２４表面の面積率が１％以上となり、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。

金属光沢層２２のドットの面積率は、より好ましくは、４０〜９９％である。これにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾成形部材２０Ｃの過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

本実施形態では、基材２４表面のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）は０〜８０である。基材２４の明度（Ｌ^＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面意匠を実現するために十分な吸光が達成される。

基材２４表面の明度（Ｌ^＊）は、より好ましくは、０〜５０である。これにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光がより一層確実に達成される。

次に、本発明のさらに他の実施形態について説明する。

図４（Ａ）に示すように、本実施形態に係る加飾フイルム構造体１０Ｄは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層３１と、表面層３１の表面側に形成された、複数の微細孔３２ａを有する金属光沢層３２とを備えている。表面層３１は、金属光沢層３２の微細孔３２ａを埋めるように形成されている。

また、図４（Ｂ）に示すように、本実施形態に係る別の加飾フイルム構造体１０Ｄは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層３１と、表面層３１の裏面側に形成された、複数の微細孔３２ａを有する金属光沢層３２とを備えている。表面層３１は、金属光沢層３２の微細孔３２ａを埋めるように形成されている。

また、図４（Ｃ）に示すように、本実施形態に係るさらに別の加飾フイルム構造体１０Ｄは、透明又は半透明の樹脂層からなる表面層３１と、表面層３１の裏面側に形成された、複数の微細孔３２ａを有する金属光沢層３２と、金属光沢層３２の微細孔３２ａを埋めるように表面層３１の裏面側に形成された透明又は半透明の充填層３５とを備えている。

これらの図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示す各加飾フイルム構造体１０Ｄにおいて、金属光沢層３２には、微細な粒子からなる光干渉材が含まれている。

ここで、表面層３１は拡散反射機能を有し、金属光沢層３２は正反射機能及び拡散反射機能を有し、金属光沢層３２の微細孔内に生じる金属光沢層３２の影Ｓは吸光機能を有する。

このような構成により、表面層３１側から加飾フイルム構造体１０Ｄに入射した光は、表面層３１の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、表面層３１の表面側又は裏面側の金属光沢層３２の微細孔３２ａ内に生じる金属光沢層３２の影Ｓによって一部が吸光され、表面層３１の表面側又は裏面側の金属光沢層３２（微細孔３２ａ以外の部分）によって一部が正反射（鏡面反射）し、また微細孔３２ａの周縁部によって一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射が相俟って、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾フイルム構造体１０Ｄが得られる。

なお、図４（Ｃ）は、金属光沢層３２の裏面側にも充填層３５が存在し、金属光沢層３２の微細孔３２ａに充填層３５の一部が配置された構成であったが、これに限らず、金属光沢層３２の裏面側には充填層３５が存在せず、金属光沢層３２の微細孔３２ａに充填層３５の全部が配置された構成でもよい。

本実施形態においては、表面層３１の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）、金属光沢層３２の刺激値（Ｙ４５°）、金属光沢層３２の微細孔３２ａの面積、金属光沢層３２の微細孔３２ａの面積率、金属光沢層３２に含まれる光干渉材の粒径及び含有量、金属光沢層３２の微細孔３２ａ内に生じる影Ｓの明度（Ｌ＊）を調整することによって、加飾フイルム構造体１０Ｄの金属研磨面調意匠における光の拡散反射の程度、光の正反射の程度、光の吸収の程度をそれぞれ独立して所望の値に調整することができる。

本実施形態においては、表面層３１の表面側の表面粗さは、Ｒａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上である。Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。

表面層３１の表面側の表面粗さは、より好ましくは、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射がより一層確実に得られる。

本実施形態においては、金属光沢層３２のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）は１００００以上である。金属光沢層３２の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。

金属光沢層３２の刺激値（Ｙ４５°）は、より好ましくは、２００００以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより一層確実に得られる。

また、上記のように金属光沢層３２に光干渉材が含まれていることで、見る角度により色調が微妙に変化する、従来のサテンめっきのような金属光沢が得られる。ここで、金属光沢層３２に含まれる前記光干渉材は、図１の金属光沢層３に含まれる光拡散材と同様、例えばマイカ（雲母）である。そして、光干渉材の平均粒径は０を超え７０μｍ以下であり、金属光沢層３２における光干渉材の含有量は、金属光沢層３２の成分１００重量部に対して３０重量部以下である。光干渉材の粒径および含有量が上記のような範囲にあることで、金属光沢層３２における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、実際の金属研磨面や従来のサテンめっきにより近い微妙な色調の変化が達成される。

本実施形態においては、平面視での微細孔３２ａの面積は１０^−３〜１０^５μｍ^２である。微細孔３２ａの面積を１０^―３μｍ^２以上とすることにより、微細孔３２ａが小さくなりすぎず、微細孔３２ａ内に生じる金属光沢層３２の影Ｓによる吸光が確実に達成される。微細孔３２ａの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、微細孔３２ａが大きくなりすぎず、金属光沢層３２（微細孔３２ａ以外の部分）による正反射が確実に行われる。また、平面視での単位面積当たりの微細孔３２ａの面積率を一定としたときに、微細孔３２ａの数が増えるから、微細孔３２ａの周縁長が長くなり、微細孔３２ａの周縁部による拡散反射が確実に行われる。

本実施形態においては、平面視での単位面積当たりの微細孔３２ａの面積率は１〜８０％である。微細孔３２ａの面積率を１％以上とすることにより、金属光沢層３２の影が生じる可能性のある部分の平面視での単位面積当たりの面積率が１％以上となり、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。微細孔３２ａの面積率を８０％以下とすることにより、金属光沢層３２の影が生じる可能性のある部分の平面視での単位面積当たりの面積率が８０％以下となり、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ｄの過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。

金属光沢層３２の微細孔３２ａの面積率は、より好ましくは、１〜６０％である。これにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾フイルム構造体１０Ｄの過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

本実施形態においては、微細孔３２ａ内に生じる金属光沢層３２の影ＳのＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ＊）は０〜８０が好ましい。影Ｓの明度（Ｌ＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成されるからである。

影Ｓの明度（Ｌ＊）は、より好ましくは、０〜５０である。これにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光がより一層確実に達成される。

次に、図４に示した加飾フイルム構造体１０Ｄの変形例について説明する。

図５（Ａ）に示すように、加飾フイルム構造体１０Ｄは、図４（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０Ｄにおいて、さらに第２の金属光沢層３６を追加して形成したものである。第２の金属光沢層３６は、全面ベタの枚葉形状であり、表面層３１の裏面側に形成されている。この図５（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０Ｄは、図４（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０Ｄと同様、光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものであるが、その質感は、図４（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０とは異なるものが得られる。

また、図５（Ｂ）に示すように、加飾フイルム構造体１０Ｄは、図４（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０において、さらに第２の金属光沢層３６及び第３の金属光沢層３７を追加して形成したものである。第２の金属光沢層３６は、全面ベタの枚葉形状であり、表面層３１の裏面側に形成されている。第３の金属光沢層３７は、金属光沢層３２よりも平面視での面積が小さい複数の微細孔３７ａを有し、その微細孔３７ａが金属光沢層３２の微細孔３２ａと重なり合うように、金属光沢層３２と第２の金属光沢層３６との間に形成されている。この図５（Ｂ）に示した加飾フイルム構造体１０Ｄは、図４（Ａ）や図５（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０Ｄと同様、光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものであるが、その質感は、図４（Ａ）や図５（Ａ）に示した加飾フイルム構造体１０Ｄとは異なるものが得られる。

これら図４、図５の実施形態において、金属光沢層３２及び第３の金属光沢層３７は、複数の微細孔３２ａ、３７ａを有するため、微細孔３２ａ、３７ａ以外の部分は、例えばメッシュ状、網目状、あみだくじ状、クモの巣状等の形状を呈している。

図４及び図５に示す加飾フイルム構造体１０Ｄは、例えば転写フイルムのベース材（図示せず）に各層３１、３２、３５〜３７を印刷や塗装等することによって容易に得ることができる。あるいは、加飾フイルム構造体１０Ｄの表面層３１となるクリアフイルムに各層３２、３５〜３７を印刷や塗装等することによっても容易に得ることができる。そして、得られた加飾フイルム構造体１０Ｄを基材３４の表面に転写や接着等することによって容易に基材３４を金属研磨面調に加飾することができる。もしくは、基材３４の表面に直接加飾フイルム構造体１０Ｄの各層３１、３２、３５〜３７を印刷や塗装等してもよい。

このようにして、加飾フイルム構造体１０Ｄが基材３４の表面側に形成されてなる加飾成形部材２０Ｄが得られる。この加飾成形部材２０Ｄは、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものである。

基材３４は樹脂成形部材であることが好ましい。光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材２０Ｄの形状の自由度を高くすることができるからである。

図６（Ａ）〜図６（Ｃ）は、上述した図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示す加飾成形部材２０Ｄの変形例である。これら図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示す加飾成形部材２０Ｄは、何れも基材３４が、ＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜８０とされることにより適度の吸光機能を有しており、この点で図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示す加飾成形部材２０Ｄと構成が相違する。

これら図６（Ａ）〜図６（Ｃ）に示す加飾成形部材２０Ｄは、図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示す加飾成形部材２０Ｄと同様、光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものであるが、その質感は、図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示した加飾成形部材２０Ｄとは異なるものが得られる。

なお、図４〜図６において、符号３３は、充填層３５や第２の金属光沢層３６を表面層３１に押え付けるための裏打ち層及び／又は加飾フイルム構造体１０Ｄを基材３４に接着するための接着層である。さらに、表面層３１や金属光沢層３２、３６や充填層３５が裏打ち層（接着層）３３によって侵食されあるいは腐食するのを防ぐための保護層（図示せず）を各層３１、３２、３５、３６と裏打ち層（接着層）３３との間に設けてもよい。

金属光沢層３２の微細孔３２内に生じる金属光沢層２の影Ｓが金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光機能を有するためには、微細孔３２の面積は、前述したように、平面視で１０^−３μｍ^２以上が好ましいが、１０^２μｍ^２以上がより好ましく、１０^３μｍ^２以上がさらに好ましい。また、微細孔の深さは、１μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上がさらに好ましい。この場合、微細孔の深さは、例えば、図４（Ａ）でいえば表面層３１の厚みに相当し、図４（Ｂ）でいえば金属光沢層３２の厚みに相当し、図４（Ｃ）でいえば充填層５の厚みに相当する。また、図５（Ａ）でいえば表面層３１の厚みに相当し、図５（Ｂ）でいえば表面層３１の厚みに相当する。

次に、本発明のさらに他の実施形態について説明する。

図７に示すように、本実施形態に係る加飾成形部材２０Ｅは、表面に複数の微細凹部４１ａ…４１ａを有する基材４１と、基材４１の表面形状に沿って基材４１の表面側にほぼ一定の厚みで形成された金属光沢層４２と、金属光沢層４２の表面側に形成された透明又は半透明の樹脂層からなる表面層４３とを備えている。金属光沢層４２には、微細な粒子からなる光干渉材が含まれている。

ここで、表面層４３は拡散反射機能を有し、金属光沢層４２は正反射機能及び拡散反射機能を有し、金属光沢層４２の微細凹部４２ａ…４２ａ（この微細凹部４２ａ…４２ａは、金属光沢層４２が基材４１の表面形状に沿って形成されることにより、基材４１表面の微細凹部４１ａ…４１ａの形状が金属光沢層４２の表面に現れたものである。）内に生じる金属光沢層４２の影Ｓは吸光機能を有する。

このような構成により、表面層４３側から加飾成形部材２０Ｅに入射した光は、表面層４３の表面側の表面粗さによって一部が拡散反射し、金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に生じる金属光沢層４２の影Ｓによって一部が吸光され、金属光沢層４２によって一部が正反射（鏡面反射）し、また微細凹部４２ａの周縁部によって一部が拡散反射する。このような光の拡散反射、吸光、正反射があいまって、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠が実現し、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材２０が得られる。

本実施形態においては、表面層４３の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）、金属光沢層４２の刺激値（Ｙ４５°）、金属光沢層４２に含まれる光干渉材の粒径及び含有量、基材４１表面の微細凹部４１ａの面積、基材４１表面の微細凹部４１ａの面積率、金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に生じる影Ｓの明度（Ｌ＊）を調整することによって、加飾成形部材２０Ｅの金属研磨面調意匠における光の拡散反射の程度、光の正反射の程度、光の吸収の程度をそれぞれ独立して所望の値に調整することができる。

本実施形態においては、表面層４３の表面側の表面粗さは、Ｒａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上である。Ｒａ（算術平均粗さ）を２μｍ以下とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。Ｒｍａｘ（最大高さ）を４μｍ以下又はＳｍ（凹凸の平均間隔）を５０μｍ以上とすることによっても、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射が確実に得られる。

表面層４３の表面側の表面粗さは、より好ましくは、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な拡散反射がより一層確実に得られる。

本実施形態においては、金属光沢層４２のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）は１００００以上である。金属光沢層４２の刺激値（Ｙ４５°）を１００００以上とすることにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢が確実に得られる。

金属光沢層４２の刺激値（Ｙ４５°）は、より好ましくは、２００００以上である。これにより、金属研磨面調意匠を実現するために十分な正反射ないし金属光沢がより一層確実に得られる。

また、上記のように金属光沢層４２に光干渉材が含まれていることで、見る角度により色調が微妙に変化する、従来のサテンめっきのような金属光沢が得られる。ここで、金属光沢層４２に含まれる前記光干渉材は、図１の金属光沢層３に含まれる光拡散材と同様、例えばマイカ（雲母）である。そして、光干渉材の平均粒径は０を超え７０μｍ以下であり、金属光沢層４２における光干渉材の含有量は、金属光沢層４２の成分１００重量部に対して３０重量部以下である。光干渉材の粒径および含有量が上記のような範囲にあることで、金属光沢層４２における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害されること、及び色調の変化の度合が強くなり過ぎることが抑制され、より実際の金属研磨面や従来のサテンめっきに近い微妙な色調の変化が達成される。

本実施形態においては、平面視での基材４１表面の微細凹部４１ａの面積は１０^−３〜１０^５μｍ^２である。基材１表面の微細凹部１ａの面積を１０^―３μｍ^２以上とすることにより、微細凹部４１ａが小さくなりすぎず、金属光沢層４２表面の微細凹部４２ａ内に生じる金属光沢層４２の影Ｓによる吸光が確実に達成される。基材４１表面の微細凹部４１ａの面積を１０^５μｍ^２以下とすることにより、平面視での単位面積当たりの基材４１表面の微細凹部４１ａの面積率を一定としたときに、微細凹部４１ａの数が増えるから、微細凹部４１ａの周縁長が長くなり、金属光沢層４２表面の微細凹部４２ａの周縁部による拡散反射が確実に行われる。

本実施形態においては、平面視での単位面積当たりの基材４１表面の微細凹部４１ａの面積率は１〜８０％である。基材４１表面の微細凹部４１ａの面積率を１％以上とすることにより、平面視での単位面積当たりの金属光沢層４２の微細凹部４２ａの面積率が十分大きくなり、金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に生じる金属光沢層４２の影Ｓが十分大きくなるから、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成される。基材４１表面の微細凹部４１ａの面積率を８０％以下とすることにより、平面視での単位面積当たりの金属光沢層４２の微細凹部４２ａの面積率が過度に大きくならず、金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に生じる金属光沢層４２の影Ｓが過度に大きくならないから、吸光が過剰になりすぎず、加飾成形部材２０Ｅの過度の明度及び／又は刺激値の低下が抑制される。

基材４１表面の微細凹部４１ａの面積率は、より好ましくは、１〜６０％である。これにより、吸光が過剰になりすぎず、加飾成形部材２０Ｅの過度の明度及び／又は刺激値の低下がより一層抑制される。

本実施形態においては、金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に生じる金属光沢層４２の影ＳのＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ＊）は０〜８０が好ましい。影Ｓの明度（Ｌ＊）を８０以下とすることにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光が確実に達成されるからである。

影Ｓの明度（Ｌ＊）は、より好ましくは、０〜５０である。これにより、光沢が強すぎず、鈍く光る質感の金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光がより一層確実に達成される。

本実施形態においては、加飾成形部材２０Ｅは、およそ次のようにして容易に得ることができる。すなわち、表面に複数の微細凹部４１ａ…４１ａを有する基材４１の表面に、基材４１の表面形状に沿って金属光沢層４２を印刷や塗装等することによって形成する。その後、金属光沢層４２の表面に、透明又は半透明の樹脂を印刷や塗装等することによって表面層４３を形成するのである。

本実施形態においては、基材４１は樹脂成形部材であることが好ましい。光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈する加飾成形部材２０Ｅの形状の自由度を高くすることができるからである。

なお、図７において、金属光沢層４２を基材４１表面に接着するための接着層（図示せず）を金属光沢層４２と基材４１表面との間に設けてもよい。さらに、金属光沢層４２が接着層によって侵食されあるいは腐食するのを防ぐための保護層（図示せず）を金属光沢層４２と接着層との間に設けてもよい。

金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に生じる影Ｓが金属研磨面調意匠を実現するために十分な吸光機能を有するためには、基材１表面の微細凹部４１ａの面積は、前述したように、平面視で１０^―３μｍ^２以上が好ましいが、１０^５μｍ^２以上がより好ましく、１０^３μｍ^２以上がさらに好ましい。また、基材４１表面の微細凹部４１ａの深さ又は金属光沢層４２の微細凹部４２ａの深さは、１μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましく、１０μｍ以上がさらに好ましい。

また、光の入射角が０°又は９０°に近くても金属光沢層４２の微細凹部４２ａ内に影Ｓが生じるという点で、基材４１表面の微細凹部４１ａ又は金属光沢層４２の微細凹部４２ａは、図７に示したように、加飾成形部材２０Ｅの表面の法線に平行な縦壁を周壁として有することが好ましい。さらに、周壁としての縦壁は、金属光沢層４２の微細凹部４２ａの周縁部が微細凹部４２ａに対してオーバーハングするように傾斜していてもよい。

基材４１表面の微細凹部４１ａ又は金属光沢層４２の微細凹部４２ａの平面視での形状は特に限定されない。例としては円形や矩形等が挙げられ、不定形でも構わない。

基材４１表面の微細凹部１ａは、例えばショットブラストやサンドブラストあるいはエッチング等の従来知られた物理的又は化学的な粗面化処理等で形成することができる。

以上説明した図１〜図７の各実施形態の加飾フイルム構造体１０Ａ〜１０Ｄ及び加飾成形部材２０Ａ〜２０Ｅにおいては、表面層１、１１、２１、３１、４３、光吸収層２、１３、金属光沢層３、１２、２２、３２、３６、３７、４２及び充填層２５、３５の厚みは、特に限定されない。状況に応じて、例えば１μｍ〜１ｍｍの範囲内の厚みとすることができる。

表面層１、１１、２１、３１、４３は、透明又は半透明である限り、無色でも有色でもよい。表面層１、１１、２１、３１、４３の色を調整することによって、加飾フイルム構造体１０Ａ〜１０Ｄ及び加飾成形部材２０Ａ〜２０Ｅの金属研磨面調意匠における金属の種類（例えばアルミニウム等）を所望のものに調整することができる。

光吸収層２、１３の材料は、特に限定されない。樹脂や金属が好ましいが、状況に応じて、例えば紙や鉱物あるいはその他の繊維質やその他の無機物等でもよい。

金属光沢層３、１２、２２、３２、４２の材料も、特に限定されない。例えば樹脂や金属が好ましい。金属光沢層３、１２、２２、３２、４２の色を調整することによっても、加飾フイルム構造体１０Ａ〜１０Ｄ及び加飾成形部材２０Ａ〜２０Ｅの金属研磨面調意匠における金属の種類（例えばアルミニウム等）を所望のものに調整することができる。

充填層２５、３５も、透明又は半透明である限り、無色でも有色でもよい。充填層２５、３５の色を調整することによっても、加飾成形部材２０Ｃ、２０Ｄの金属研磨面調意匠における金属の種類（例えばアルミニウム等）を所望のものに調整することができる。

また、本発明の作用効果を損なわない範囲で、フイルム構造体１０Ａ〜１０Ｄの外表面、あるいは、加飾成形部材２０Ａ〜２０Ｅの外表面に、透明又は半透明の、無色又は有色の、保護層を設けてもよい。この保護層は、例えば、表面層１、１１、２１、３１、４３の上に直接設けられる。この保護層は、フイルム構造体１０Ａ〜１０Ｄあるいは加飾成形部材２０Ａ〜２０Ｅの表面保護のために設けられる。また、この保護層は、表面層１、１１、２１、３１、４３の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）を調整するために設けられるものであってもよい。したがって、本発明でいう、表面層１、１１、２１、３１、４３の表面側の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）には、この保護層で調整された表面粗さ（Ｒａ、Ｒｍａｘ、Ｓｍ）が包含される。

以上説明した図１〜図４の各加飾成形部材２０Ａ〜２０Ｅは、光学特性が金属研磨面に近く、外観が金属研磨面調意匠を呈するものであり、従って、例えばドアハンドル等の自動車内装部品、家電部品、パーソナルコンピュータ部品、携帯電話部品、事務用部品、スポーツ用具部品、計測機器部品、雑貨部品等に好適である。

以下、実施例を通して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって何等限定されるものではない。

［加飾フイルム構造体の作製］
（試験番号１、２、４〜８、１０〜１３（試験番号７、８は比較例））
図１（Ａ）に示した構成の加飾フイルム構造体１０を表１に示す仕様により作製した。表面層１として、帝人化成社製のポリカーボネートシート「ＰＣ１１５１」（板厚０．５ｍｍ）を用い、この片面にスクリーン印刷にて光吸収層２（厚み３μｍ）を形成した。光吸収層２の形成には、セイコーアドバンス社製のＵＶインキ「ＨＵＧ」を用いた。次に、光吸収層２の上にスクリーン印刷にて金属光沢層３（厚み２μｍ：光吸収層２の上の厚みとして）を形成した。金属光沢層３の形成には、帝国インキ製造社製のインキ「ＭＩＲ−５１０００ミラーシルバー」を用いた。次に、金属光沢層３の上にスクリーン印刷にて裏打ち層４（厚み１０μｍ）を形成した。裏打ち層４の形成には、帝国インキ製造社製のインキ「ＭＩＢ−６１１白色」を用いた。以上により、表面層１側から観察したときにアルミニウムの研磨面調の外観を呈する加飾フイルム構造体１０が得られた。

なお、試験番号６の金属光沢層３の形成には、光干渉材としてトピー工業製のマイカ「ＰＤＭ−７−８０（平均粒径Ｄ５０＝７０μｍ）」を用い、試験番号７の金属光沢層３の形成には、光干渉材としてクラレ製の「クラライトマイカ３０−Ｃ（平均粒径Ｄ５０＝６８０μｍ）」を用い、これら以外の試験番号の金属光沢層３の形成には、光干渉材としてトピー工業製のマイカ「ＰＤＭ−５Ｂ（平均粒径Ｄ５０＝６μｍ」を用いた。

（試験番号２（比較例））
金属光沢層３の形成に光干渉材を用いなかった他は、試験番号１、２、４〜８、１０〜１３と同様にして加飾フイルム構造体を作成した。

（試験番号９（比較例））
光吸収層２を形成しなかった他は、試験番号１〜８、１０〜１３と同様にして加飾フイルム構造体を作成した。

［加飾フイルム構造体の外観評価］
作製した加飾フイルム構造体１０の外観を光学的に評価した。すなわち、表面層１側から加飾フイルム構造体１０に入射角４５度で可視光（波長：４２０〜６７０ｎｍ、広がり角：実質零度）を照射し、正反射角の刺激値Ｙ、つまり正反射（鏡面反射）の刺激値（Ｙ４５°）と、正反射角−５度の刺激値Ｙ、つまり拡散反射の刺激値（Ｙ４０°）とを村上色彩技術研究所製の変角分光光度計を用いて測定した。また、加飾フイルム構造体１０の外観を目視で評価した。それらの結果を表１、２に示す。

ここで、正反射の刺激値（Ｙ４５°）は、試料面の法線方向に対する照明光軸角度を−４５±２°とし、受光反射光軸角度を４５±２°として、ＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における反射による物体色の三刺激値の定義に従ってＹ値を計算したものである。また、拡散反射の刺激値（Ｙ４０°）は、試料面の法線方向に対する照明光軸角度を−４５±２°とし、受光反射光軸角度を４０±２°として、ＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における反射による物体色の三刺激値の定義に従ってＹ値を計算したものである。

なお、本物のアルミニウムの研磨面及び低艶サテンめっきの正反射の刺激値（Ｙ４５°）及び拡散反射の刺激値（Ｙ４０°）を同様にして測定したところ、アルミニウムの研磨面の正反射の刺激値（Ｙ４５°）は３５０００〜５５０００の範囲（例えば３８３０６）、拡散反射の刺激値（Ｙ４０°）は９００〜１３００の範囲（例えば９２５）であり、サテンめっきの正反射の刺激値（Ｙ４５°）は１００００〜７５０００の範囲（例えば３１９７７）、拡散反射の刺激値（Ｙ４０°）は９００〜２６００の範囲（例えば１７８４）であった。

表１、２から明らかなように、試験番号１〜１３の加飾フイルム構造体１０は、多少のバラツキはあるものの、正反射の刺激値（Ｙ４５°）や拡散反射の刺激値（Ｙ４０°）が、本物のアルミニウムの研磨面や低艶サテンめっきのそれに比較的近い値であった。そして、目視による外観検査においても、試験番号３、７〜９以外のものは、見る角度により色調が微妙に変化するという機能も再現されており、概ね良好（丸印）、若しくは許容できる範囲内のものであった。

試験番号３、７〜９のものは、刺激値（Ｙ４５°及び／又はＹ４０°）が本物のアルミニウムの研磨面や低艶サテンめっきに比べてやや大きく外れており、また、目視による外観検査も許容できる範囲内のものでは無かった。これは、試験番号９のものは、光吸収層２を備えていないため光の拡散反射、吸光及び正反射のバランスが悪く、また、試験番号２のものは、光吸収層２を備えるものの金属光沢層３に光干渉材が含まれていないため見る角度により色調変化が生じるという機能が発揮されていないためと考えられる。試験番号７、８のものは、見る角度による色調の変化は生じているものの、試験番号７では、金属光沢層３に含まれる光干渉材の粒径が大きいために、また、試験番号８では、金属光沢層３における光干渉材の含有量が多いことで、それぞれ金属光沢層３における光の正反射（鏡面反射）が著しく阻害される、又は色調の変化の度合が強くなり過ぎていることが考えられる。

本発明は、自動車内装部品等に使用され得る加飾フイルム構造体及び加飾成形部材の技術分野において、広範な産業上の利用可能性を有する。

１、１１、２１、３１、４３ 表面層
２、１３ 光吸収層
３、１２、２２、３２、３６、３７、４２ 金属光沢層
４、１４、２３、３３、 裏打ち層（接着層）
５、１５、２４、３４、４１ 基材
２５、３５ 充填層
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ 加飾フイルム構造体
２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ、２０Ｄ、２０Ｅ 加飾成形部材

Claims (19)

1. 透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、
   前記表面層の裏面側に形成された金属光沢層と、
   前記金属光沢層のうちその表面側、又は前記表面層のうちその表面側に形成された複数の微細ドットからなる光吸収層と、を含み、
   前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むことを特徴とする加飾フイルム構造体。
2. 透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、
   前記表面層の裏面側に形成された光吸収層と、
   前記光吸収層のうちその表面側、又は前記表面層のうちその表面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層と、を含み、
   前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むことを特徴とする加飾フイルム構造体。
3. 透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、
   複数の微細孔を具備し、前記表面層の表面側及び／又は裏面側に形成された金属光沢層と、を含み、
   前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むことを特徴とする加飾フイルム構造体。
4. 前記金属光沢層は、当該金属光沢層に含まれる光干渉材の平均粒径が０を超え７０μｍ以下で、当該金属光沢層の成分１００重量部に対する前記光干渉材の含有量が３０重量部以下である請求項１乃至３の何れか一項に記載の加飾フイルム構造体。
5. 前記微細ドットからなる光吸収層を含むものであり、
   前記表面層の表面側の表面粗さがＲａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上であり、
   前記光吸収層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜８０であり、平面視での前記微細ドットの面積が１０^−３〜１０^５μｍ^２であり、平面視での単位面積当たりの前記微細ドットの面積率が１〜８０％であり、
   前記金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が１００００以上である請求項４に記載の加飾フイルム構造体。
6. 前記微細ドットからなる金属光沢層を含むものであり、
   前記表面層の表面側の表面粗さがＲａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上であり、
   前記光吸収層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜８０であり、
   平面視での前記微細ドットの面積が１０^−３〜１０^５μｍ^２であり、
   平面視での単位面積当たりの前記微細ドットの面積率が２０〜９９％であり、
   金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が１００００以上である請求項４に記載の加飾フイルム構造体。
7. 前記複数の微細孔を備える金属光沢層を含むものであり、
   前記表面層の表面側の表面粗さがＲａ２μｍ以下、かつＲｍａｘ４μｍ以下又はＳｍ５０μｍ以上であり、
   平面視での前記微細孔の面積が１０^−３〜１０^５μｍ^２であり、
   平面視での単位面積当たりの前記微細孔の面積率が１〜８０％であり、
   金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が１００００以上である請求項４に記載の加飾フイルム構造体。
8. 前記表面層の表面側の表面粗さが、Ｒａ１μｍ以下、かつＲｍａｘ２μｍ以下又はＳｍ１００μｍ以上である請求項５乃至７の何れか一項に記載の加飾フイルム構造体。
9. 前記光吸収層のＪＩＳ−Ｚ−８７２９で規定されるＣＩＥ１９７６明度（Ｌ^＊）が０〜５０である請求項５又は６に記載の加飾フイルム構造体。
10. 前記光吸収層のドットの面積率が１〜６０％である請求項５に記載の加飾フイルム構造体。
11. 前記金属光沢層の微細孔の面積率が１〜６０％である請求項７に記載の加飾フイルム構造体。
12. 前記金属光沢層のＪＩＳ−Ｚ−８７０１で規定されるＸＹＺ表色系における刺激値（Ｙ４５°）が２００００以上である請求項５乃至７の何れか一項に記載の加飾フイルム構造体。
13. 前記金属光沢層の前記微細ドットの面積率が４０〜９９％である請求項６に記載の加飾フイルム構造体。
14. 請求項１乃至１３の何れか一項に記載の加飾フイルム構造体が基材の表面側に形成されてなることを特徴とする加飾成形部材。
15. 前記基材は樹脂成形部材である請求項１４に記載の加飾成形部材。
16. 透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、表面層のうちその表面側及び／又は表面層の裏面側に形成された複数の微細ドットからなる金属光沢層とを含むフイルム構造体が、吸光機能を有する基材の表面側に設けられるものであって、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものであることを特徴とする加飾成形部材。
17. 透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、複数の微細孔を具備し、当該微細孔が前記表面層により埋められるようにして当該表面層の表面側及び／又は裏面側に形成された金属光沢層とを含むフイルム構造体が、吸光機能を有する基材の表面側に設けられるものであって、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものであることを特徴とする加飾成形部材。
18. 表面に複数の微細凹部を有する基材と、基材の表面形状に沿って基材の表面側に形成された金属光沢層と、金属光沢層の表面側に形成された透明又は半透明の樹脂層からなる表面層と、を備え、前記金属光沢層は、光の干渉を誘起する光干渉材を含むものであることを特徴とする加飾成形部材。
19. 前記金属光沢層は、当該金属光沢層に含まれる光干渉材の平均粒径が７０μｍ以下で、当該金属光沢層の成分１００重量部に対する前記光干渉材の含有量が３０重量部以下である請求項１６〜１８の何れか一項に記載の加飾成形部材。

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