JP2013218339A - フォトマスクの検査方法及び検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】描画機のステージ10上に配置された場合のフォトマスクブランク13の表面形状の変形を高さ測定手段12で測定し、描画データ作成手段15により、その表面形状の変形要因の中でフォトマスクが露光装置で使用される際には無くなる変形要因に起因する描画のずれについて、設計描画データを補正して描画データを得ることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
sinΦ=H/Pitch・・・・・・(式1)
で表わされる。尚、上記において、H/Pitchは、フォトマスクブランク表面の高さ方向の勾配と考えることもできる。
Φ=H/Pitch・・・・・・(式1’)
と近似することもできる。以下の説明では、(式1)を用いる。
d=sinΦ×t/2=H×(t/2Pitch)・・・・・(式2)
で求めることができる。
d=Φ×t/2=H×(t/2Pitch)・・・・・(式2’)
と近似することもできる。
d1=(H−H1)×t/2Pitch・・・・・(式3)
で求めることができる。
以下、本発明の実施例について説明する。
厚さ13mmで、大きさ1220mm×1400mmのガラス基板を用意し、その基板に、Crを主成分とする遮光膜を125nmの膜厚で形成してフォトマスクブランクを作製した。
各測定ポイントのおける高さ変動の差分H−H1を求め、その分布を3次元グラフに表した図を図4に示す。
11 描画手段
12 高さ測定手段
13 フォトマスクブランク
14 薄膜
15 描画データ作成手段
Claims (7)
- 透明基板上に薄膜からなる転写パターンを有するフォトマスクを検査するフォトマスクの検査方法であって、
前記フォトマスクを、前記転写パターンを有する面を上側にしてステージに載置する工程と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの上側の面の高さ分布を測定することによってマスク面高さ分布データを得る工程と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの前記転写パターンの形状を測定してパターン測長データを得る工程と、
予め取得した前記フォトマスクの膜面形状データと、前記マスク面高さ分布データとを用いて前記転写パターンのパターン測長データ、又は前記転写パターンの設計描画データを補正する工程と、
を有するフォトマスクの検査方法。 - 透明基板上に薄膜からなる転写パターンを有するフォトマスクを検査するフォトマスクの検査方法であって、
前記フォトマスクを、前記転写パターンを有する面を上側にしてステージに載置する工程と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの上側の面の高さ分布を測定することによってマスク面高さ分布データを得る工程と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの前記転写パターンの形状を測定してパターン測長データを得る工程と、
予め取得した前記フォトマスクの膜面形状データと、前記マスク面高さ分布データとを用いて前記転写パターンのパターン測長データを補正する工程と、
補正後の前記パターン測長データと前記転写パターンの設計描画データとを比較する工程と、
を有するフォトマスクの検査方法。 - 透明基板上に薄膜からなる転写パターンを有するフォトマスクを検査するフォトマスクの検査方法であって、
前記フォトマスクを、前記転写パターンを有する面を上側にしてステージに載置する工程と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの上側の面の高さ分布を測定することによってマスク面高さ分布データを得る工程と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの前記転写パターンの形状を測定してパターン測長データを得る工程と、
予め取得した前記フォトマスクの膜面形状データと、前記マスク面高さ分布データとを用いて前記転写パターンの設計描画データを補正する工程と、
補正後の前記設計描画データと前記パターン測長データとを比較する工程と、
を有するフォトマスクの検査方法。 - 前記フォトマスクの膜面形状データとして、予め取得した、前記フォトマスクブランクの膜面形状データを用いることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか記載のフォトマスクの検査方法。
- 透明基板上に薄膜からなる転写パターンを有するフォトマスクを検査するフォトマスクの検査装置であって、
ステージ上に前記転写パターンを上向きに配置された前記フォトマスクの表面の高さ分布を測定することによってマスク面高さ分布データを得る高さ測定手段と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの転写パターンの形状を測定してパターン測長データを得る測長手段と、
予め取得した前記フォトマスクの膜面形状データと、前記マスク面高さ分布データとを用いて、前記転写パターンのパターン測長データ、又は前記転写パターンの設計描画データを補正する演算手段と、
を有するフォトマスクの検査装置。 - 透明基板上に薄膜からなる転写パターンを有するフォトマスクを検査するフォトマスクの検査装置であって、
ステージ上に前記転写パターンを上向きに配置された前記フォトマスクの表面の高さ分布を測定することによってマスク面高さ分布データを得る高さ測定手段と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの転写パターンの形状を測定してパターン測長データを得る測長手段と、
予め取得した前記フォトマスクの膜面形状データと、前記マスク面高さ分布データとを用いて、前記転写パターンのパターン測長データを補正する演算手段と、
補正後の前記パターン測長データと、前記転写パターンの設計描画データを比較する比較手段と、
を有するフォトマスクの検査装置。 - 透明基板上に薄膜からなる転写パターンを有するフォトマスクを検査するフォトマスクの検査装置であって、
ステージ上に前記転写パターンを上向きに配置された前記フォトマスクの表面の高さ分布を測定することによってマスク面高さ分布データを得る高さ測定手段と、
前記ステージ上の前記フォトマスクの転写パターンの形状を測定してパターン測長データを得る測長手段と、
予め取得した前記フォトマスクの膜面形状データと、前記マスク面高さ分布データとを用いて、前記転写パターンの設計描画データを補正する演算手段と、
前記補正後の設計描画データと、前記パターン測長データとを比較する比較手段と、
を有するフォトマスクの検査装置。
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