JP2017129848A - 基板保持装置、描画装置、フォトマスク検査装置、および、フォトマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の第1の態様は、
表示装置製造用のフォトマスク基板を水平に保持する基板保持装置であって、
低膨張材料からなるステージと、
前記ステージ上に設けられた複数の支持具と、を備え、
前記支持具は、先端に、凸曲面をもつ接触部を備え、前記接触部が、前記フォトマスク基板の下面側主表面に、実質的に点接触又は線接触することで、前記フォトマスク基板を水平に保持することを特徴とする、
基板保持装置である。
(第2の態様)
本発明の第2の態様は、
前記支持具は、先端に、球面をもつ接触部を備え、前記接触部が、前記フォトマスク基板の下面側主表面に、実質的に点接触することを特徴とする、
上記第1の態様に記載の基板保持装置である。
(第3の態様)
本発明の第3の態様は、
前記ステージを、基台上に非接触状態で水平に保持するための、浮上機構を備えることを特徴とする、
上記第1又は第2の態様に記載の基板保持装置である。
(第4の態様)
本発明の第4の態様は、
前記複数の支持具は、互いの距離が150mm以下となるように、前記ステージ上に配列されていることを特徴とする、
上記第1〜第3の態様のいずれかに記載の基板保持装置である。
(第5の態様)
本発明の第5の態様は、
前記複数の支持具は、各々が高さ調整機構をもつことを特徴とする、
上記第1〜第4の態様のいずれかに記載の基板保持装置である。
(第6の態様)
本発明の第6の態様は、
前記高さ調整機構は、気体の圧力を利用するものである、
上記第5の態様に記載の基板保持装置である。
(第7の態様)
本発明の第7の態様は、
前記高さ調整機構は、磁気による反発力を利用するものである、
上記第5の態様に記載の基板保持装置である。
(第8の態様)
本発明の第8の態様は、
前記高さ調整機構は、高さ調整量に応じて、前記接触部の高さ位置を調整する駆動装置を備えることを特徴とする、
上記第5の態様に記載の基板保持装置である。
(第9の態様)
本発明の第9の態様は、
上記第1〜第8の態様のいずれかに記載の基板保持装置を含む、
描画装置である。
(第10の態様)
本発明の第10の態様は、
上記第1〜第8の態様のいずれかに記載の基板保持装置を含む、
フォトマスク検査装置である。
(第11の態様)
本発明の第11の態様は、
透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記フォトマスクブランクを、上記第1〜第7の態様のいずれかに記載の基板保持装置により保持する工程と、
前記保持したフォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行い、前記光学膜をパターニングする工程と、
を含む、
フォトマスクの製造方法である。
(第12の態様)
本発明の第12の態様は、
透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記フォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行い、前記光学膜をパターニングして、転写用パターンをもつフォトマスクとする工程と、
前記転写用パターンを検査する工程と、
を含む、フォトマスクの製造方法であって、
前記検査する工程においては、上記第1〜第7の態様のいずれかに記載の基板保持装置により前記フォトマスクを保持して、座標精度を検査することを含む、
フォトマスクの製造方法である。
(第13の態様)
本発明の第13の態様は、
透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記フォトマスクブランクを、前記主表面を上側にして、基板保持装置により保持する保持工程と、
前記保持したフォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行う描画工程と、を有し、
前記基板保持装置は、前記フォトマスク基板を載置するステージと、前記ステージ上に設けられ、各々高さ調整機構を備えた複数の支持具を有し、
前記保持工程においては、前記主表面の高さ分布を測定して、高さ分布データを得るとともに、前記高さ分布データに基づいて、前記高さ調整機構を駆動させ、前記フォトマスクブランクの主表面形状を調整することを含む、
フォトマスクの製造方法である。
図1は本発明の第1実施形態に係る基板保持装置の構成を説明するための図であって、(a)は保持前のフォトマスク基板の状態を示す側面図、(b)はフォトマスク基板を基板保持装置により保持した状態を示す側面図である。
図1(a)に示すフォトマスク基板1は、一方の主表面である表面2を膜面とし、そこに遮光膜等が成膜されたフォトマスクブランクである。フォトマスク基板1は、平面視四角形(正方形又は長方形)に形成されている。また、ここで例示するフォトマスク基板1は、自重による撓みを受けない状態で平坦度測定を行ったときに、図1(a)に示す形状をもつ。図示したフォトマスク基板1は、表面2の平坦度が高くなるように高精度に研磨された基板であるが、裏面3には若干の凹凸がある。
図1(b)に示す基板保持装置10は、フォトマスク基板を水平に保持するものである。基板保持装置10は、ステージ11を備えている。ステージ11は、低膨張材料によって構成されている。低膨張材料は、温度変化による体積変化が小さい材料である。たとえば、セラミックスなどであって、常温付近での熱膨張係数が極めて低い材料を好適に使用することができる。好ましくは、熱膨張係数が摂氏0〜50度で、0.1×10−6/K以下の材料を、ステージ11の構成材料に用いることができる。なお、本明細書において、数値範囲を規定する「○○〜△△」の表記は、「○○以上△△以下」を意味する。
図3は本発明の第2実施形態に係る基板保持装置の構成を説明するための図であって、(a)は保持前のフォトマスク基板の状態を示す側面図、(b)はフォトマスク基板を基板保持装置により保持した状態を示す側面図である。
図3(a)に示すフォトマスク基板1は、上記第1実施形態と同様に、一方の主表面である表面2を膜面とし、そこに遮光膜等が成膜されたフォトマスクブランクである。ただし、上記第1実施形態で用いたフォトマスク基板1と比べると、平坦度の規格が緩くなっていてもよい。すなわち、ここで例示するフォトマスク基板1は、自重による撓みを受けない状態で平坦度測定を行ったときに、表面2の平坦度は第1実施形態と同様に高いものの、裏面3の凹凸は第1実施形態よりも大きく、基板の厚さが不均一になっている。
図3(b)に示す基板保持装置10では、低膨張材料からなるステージ11上に複数の支持具12が設けられている。この点は上記第1実施形態と同様である。ただし、上記第1実施形態では、各々の支持具12を構成する支持ピンの高さが固定されていたのに対して、本第2実施形態では、各々の支持具12に高さ調整機構20が備えられている。高さ調整機構20は、気体の圧力(たとえば、空気圧など)を利用して、支持具12における接触部14の高さ位置を調整するものである。高さ調整機構20は、接触部14の高さ位置を調整する駆動装置として、たとえば図4に示すように、エアダンパ21と、このエアダンパ21への給気および排気によって上下方向に移動可能なロッド22と、を備えている。ロッド22の先端(上端)には、突子23を介してボール形状の接触部14が取り付けられている。ボール形状の接触部14は、受ける負荷に応じて上下可動に保持されている。
図5は本発明の第3実施形態に係る基板保持装置の構成を説明するための図であって、(a)は保持前のフォトマスク基板の状態を示す側面図、(b)は高さ調整機構を駆動させずにフォトマスク基板を基板保持装置により保持した状態を示す側面図、(c)は高さ調整機構を駆動させてフォトマスク基板を基板保持装置により保持した状態を示す側面図である。
図5(a)に示すフォトマスク基板1は、上記第2実施形態と同様に、一方の主表面である表面2を膜面とし、そこに遮光膜等が成膜されたフォトマスクブランクである。このフォトマスク基板1は、自重による撓みを受けない状態で平坦度測定を行ったときに、表面2の平坦度は第1実施形態と同様に高いものの、裏面3の凹凸は第1実施形態よりも大きく、基板の厚さが不均一になっている。
図5(b),(c)に示す基板保持装置10では、低膨張材料からなるステージ11上に複数の支持具12が設けられ、各々の支持具(支持ピン)12に高さ調整機構20が備えられている。この点は上記第2実施形態と同様である。ただし、本第3実施形態においては、複数の支持具(支持ピン)12の各々が独立に高さ調整可能な高さ調整機構20を備える点で、上記第2実施形態とは異なる。すなわち、複数の支持具12に対応する複数の高さ調整機構20は、それぞれに指定された高さ調整量に応じて(能動的に)、接触部14の位置を上昇させる駆動装置を備えている。具体的には、たとえば、高さ調整機構20の駆動装置を上記図4に示したエアダンパ21とロッド22を用いて構成し、これによって高さ調整機構20が気体の圧力(ここでは空気圧とする)を利用して接触部14の高さを調整するものであれば、エアダンパ21に供給する圧縮空気の圧力を、各々の高さ調整機構20ごとに個別に制御可能な構成とする。これにより、フォトマスク基板1を水平に保持する際には、複数の支持具12における接触部14の高さをそれぞれ独立に調整することが可能となる。また、各々の支持具12ごとに、それぞれ指定された高さ調整量に応じて、接触部14の位置を所望の押し上げ力をもって上昇させることが可能となる。
本発明は、基板保持装置に限らず、他の装置、あるいは方法として実現してもよい。以下に、具体的な適用例を述べる。
本発明は、上記の基板保持装置10を含む、描画装置として実現してもよい。すなわち、描画の際に、フォトマスク基板1を保持する保持装置として上記の基板保持装置10を適用する。その場合、描画装置は、フォトマスク基板1を水平に保持する基板保持装置10と、これに保持されたフォトマスク基板1のフォトレジスト膜を描画する描画手段と、を備えるものとなる。描画手段には、レーザを用いてもよいし、電子ビームを用いてもよい。
また、本発明は、上記の基板保持装置10を含む、フォトマスク検査装置として実現してもよい。すなわち、フォトマスク基板1上に転写用パターンを形成した後、その転写用パターンが所定の基準を充足するか否かを検査するフォトマスク検査装置に、上記の基板保持装置10を適用してもよい。フォトマスク検査装置としては、マスク座標検査装置などを例示することができる。
また、本発明は、上記の基板保持装置10を用いた、フォトマスクの製造方法として実現してもよい。その場合、フォトマスクの製造工程においては、たとえば以下の工程が採用される。
まず、フォトマスクブランクを用意する。具体的には、透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、少なくともひとつの光学膜などを成膜する。光学膜には、(a)露光光を遮光する遮光膜、(b)露光光の一部を透過する半透光膜、(c)露光光の一部を透過するとともに、光の位相をシフトする位相シフト膜、(d)露光光の反射を防止する反射防止膜などを含む。更に、フォトマスク基板の主表面に、上記の光学膜を覆うようにフォトレジスト膜を形成する。これにより、透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクが得られる。
次に、準備工程で用意したフォトマスクブランクを、上記の基板保持装置10により保持する。このとき、上記の光学膜等が形成された膜面を上側に向けてフォトマスクブランクをステージ11上に載せることにより、複数の支持具12でフォトマスクブランクを水平に保持する。
次に、保持工程で保持したフォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行う。具体的には、レーザ描画機などを用いてフォトレジスト膜を描画する。その際、所望の転写用パターンのデザインを元に作成されたマスクデータにしたがってフォトレジスト膜にレーザ描画を行う。その後、フォトレジスト膜の現像を行う。これにより、フォトレジスト膜の不要部分が除去されて、レジストパターンが形成される。
次に、光学膜のパターニングを行う。具体的には、上記のレジストパターンをエッチングマスクとして、光学膜をエッチングすることにより、光学膜のパターンを形成する。この工程では、光学膜をパターニングして、転写用パターンをもつフォトマスクとする。
次に、上記のレジストパターンを除去する。具体的には、レジストパターンをレジスト剥離により除去した後、フォトマスクを洗浄する。
次に、上記の転写用パターンを検査する。この検査工程においては、上記の基板保持装置10によりフォトマスクを保持して、転写用パターンの座標精度を検査する。
図6は上記実施形態の基板保持装置が使用されたとき、フォトマスクに求められる座標精度を満たすことを説明する、シミュレーション結果を示す図であって、(a)はシミュレーションで想定しているフォトマスク基板の保持状態、(b)はシミュレーションの条件と結果を、それぞれ表している。
この基板サンプルA〜Cの各々を基板保持装置10に水平にセットしたとき、隣り合う支持ピンの間に生じる、基板の自重による撓みが、基板の膜面側にどのような平坦度の変化を生じさせるかを、有限要素法によるシミュレーションで検証した。さらに、上記の平坦度変化が膜面の座標ずれをどの程度生じるかを、後述する数式にて算出した。
ΔY=t/2 × cosθy …(2)
本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、発明の構成要件やその組み合わせによって得られる特定の効果を導き出せる範囲において、種々の変更や改良を加えた形態も含む。
2…表面
3…裏面
10…基板保持装置
11…ステージ
12…支持具
14…接触部
20…高さ調整機構
Claims (13)
- 表示装置製造用のフォトマスク基板を水平に保持する基板保持装置であって、
低膨張材料からなるステージと、
前記ステージ上に設けられた複数の支持具と、を備え、
前記支持具は、先端に、凸曲面をもつ接触部を備え、前記接触部が、前記フォトマスク基板の下面側主表面に、実質的に点接触又は線接触することで、前記フォトマスク基板を水平に保持することを特徴とする、
基板保持装置。 - 前記支持具は、先端に、球面をもつ接触部を備え、前記接触部が、前記フォトマスク基板の下面側主表面に、実質的に点接触することを特徴とする、
請求項1に記載の基板保持装置。 - 前記ステージを、基台上に非接触状態で水平に保持するための、浮上機構を備えることを特徴とする、
請求項1又は2に記載の基板保持装置。 - 前記複数の支持具は、互いの距離が150mm以下となるように、前記ステージ上に配列されていることを特徴とする、
請求項1〜3のいずれかに記載の基板保持装置。 - 前記複数の支持具は、各々が高さ調整機構をもつことを特徴とする、
請求項1〜4のいずれかに記載の基板保持装置。 - 前記高さ調整機構は、気体の圧力を利用するものである、
請求項5に記載の基板保持装置。 - 前記高さ調整機構は、磁気による反発力を利用するものである、
請求項5に記載の基板保持装置。 - 前記高さ調整機構は、高さ調整量に応じて、前記接触部の高さ位置を調整する駆動装置を備えることを特徴とする、
請求項5に記載の基板保持装置。 - 請求項1〜8のいずれかに記載の基板保持装置を含む、
描画装置。 - 請求項1〜8のいずれかに記載の基板保持装置を含む、
フォトマスク検査装置。 - 透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記フォトマスクブランクを、請求項1〜7のいずれかに記載の基板保持装置により保持する工程と、
前記保持したフォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行い、前記光学膜をパターニングする工程と、
を含む、
フォトマスクの製造方法。 - 透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記フォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行い、前記光学膜をパターニングして、転写用パターンをもつフォトマスクとする工程と、
前記転写用パターンを検査する工程と、
を含む、フォトマスクの製造方法であって、
前記検査する工程においては、請求項1〜7のいずれかに記載の基板保持装置により前記フォトマスクを保持して、座標精度を検査することを含む、
フォトマスクの製造方法。 - 透明材料からなるフォトマスク基板の主表面に、光学膜とフォトレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを用意する工程と、
前記フォトマスクブランクを、前記主表面を上側にして、基板保持装置により保持する保持工程と、
前記保持したフォトマスクブランクに対して、パターンデータに基づく描画を行う描画工程と、を有し、
前記基板保持装置は、前記フォトマスク基板を載置するステージと、前記ステージ上に設けられ、各々高さ調整機構を備えた複数の支持具を有し、
前記保持工程においては、前記主表面の高さ分布を測定して、高さ分布データを得るとともに、前記高さ分布データに基づいて、前記高さ調整機構を駆動させ、前記フォトマスクブランクの前記主表面の形状を調整することを含む、
フォトマスクの製造方法。
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