JP2013207140A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 可撓性を有する基板に対して、その中央部の接触不可領域に接触することなく、基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板処理装置は、搬入部１と、処理槽２と、水洗槽４と、乾燥槽５と、搬出部６と、基板を搬入部１、処理槽２、水洗槽４、乾燥槽５、搬出部６に順次搬送するための無端ベルト７とを備える。また、基板処理装置は、基板における搬送方向と平行な一対の端縁を、一対の無端ベルト７に固定するための固定機構を備える。基板は、搬入部１において、搬送方向と平行な一対の端縁を一対の無端ベルト７に、一定のピッチで複数枚固定される。また、処理を終了した基板は、搬出部６において、一対の無端ベルト７から取り外される。
【選択図】 図１

Description

この発明は、可撓性を有する矩形状の基板を水平方向に搬送するとともに、基板の両面に処理液を供給することにより、基板の両面を同時に処理する基板処理装置に関する。

例えば、プリント基板や電子ペーパー用基板は、可撓性を有する矩形状の材質から構成されている。このような基板は、矩形状を形成する４辺付近の端縁領域は接触可能領域となっているが、端縁領域以外の領域は、接触不可領域となっている。

例えば、電子ペーパー用基板は、支持層と、接着層と、電子ペーパー用フィルムとをこの順に積層した構成を有する。そして、電子ペーパー用フィルムのサイズは支持層のサイズより若干小さくなっており、電子ペーパー用フィルムの端縁は支持層の端縁より１０ｍｍ程度内側に配置されている。この電子ペーパー用基板においては、製品の精度を向上させるため、電子ペーパー用フィルムとの接触は禁じられており、電子ペーパー用基板の搬送時等においては、電子ペーパー用フィルム側では支持層の周縁部にのみ接触が許容されている。このような電子ペーパー用基板以外にも、一般的に、基板はその中央部が接触不可領域とされ周縁部が接触可能領域とされている。

このような基板に対して、その両面に処理液を供給して基板の両面を同時に処理する場合に、基板を搬送ローラ等で搬送したのでは、基板の下面に搬送ローラが接触することになり、基板を適正に処理することは不可能となる。

特許文献１には、現像処理用治具を用いて多層プリント配線板を現像処理する多層プリント配線板の製造方法が開示されている。この多層プリント配線板の製造方法において使用される現像処理用治具は、金属製枠体と、この枠体内側の左右の枠に弾性体を介して弾力的に張架された金属バーあるいは金属枠とからなる現像処理用治具であって、枠体の上枠の外側には、治具の搬送に供するためのフックを設けると共に、上枠の内側には、基板の上端を懸吊支持するための上部フックをそれぞれ設け、一方、金属バーあるいは金属枠には、治具に基板の下端を係止するための下部フックを設けた構成を有する。この現像処理用治具に固定された基板は、治具枠体の上枠の外側に設けられたフックを搬送レールに引っ掛けて現像室へ搬送される。そして、現像室において、基板を垂直に立てた状態で、治具の左右両側から基板両面に向けて現像液がスプレーされる。

特開平１０−１０７４５０号公報

特許文献１に記載の装置を用いて基板の現像処理を行う場合には、基板を現像処理用治具に装着する必要があり、処理効率が悪い。また、特許文献１に記載の治具に類似するものとして、可撓性を有する矩形状の基板を、額縁状のフレームに装着し、基板をフレームとともに搬送しながらその両面に処理液を供給することにより、基板の両面を同時に処理することも考えられる。しかしながら、このような構成を採用した場合においては、フレーム内に処理液が滞留して均一な処理が行えないばかりではなく、フレーム部分における洗浄や乾燥が困難となるという問題が生ずる。

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、可撓性を有する基板に対して、その中央部の接触不可領域に接触することなく、基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、可撓性を有する矩形状の基板を水平方向に搬送するとともに、前記基板の両面に処理液を供給することにより、前記基板の両面を同時に処理する基板処理装置において、前記基板における搬送方向と平行な一対の端縁を支持する一対の無端ベルトと、前記基板における搬送方向と平行な一対の端縁を、前記一対の無端ベルトに固定するための固定手段とを備えたことを特徴とする。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記固定手段は、前記無端ベルトと前記基板における搬送方向と平行な端縁とを挟持する一対の磁石である。

請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記一対の無端ベルトは磁性体より構成されており、前記固定手段は、前記基板における搬送方向と平行な端縁を前記無端ベルトとの間に挟持する磁石を備える。

請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板は、当該基板における搬送方向と平行な一対の端縁に孔部が形成されており、前記一対の無端ベルトには、前記基板における搬送方向と平行な一対の端縁に形成された孔部と係合するピンが形成される。

請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記固定手段は、前記無端ベルトと前記基板における搬送方向と平行な端縁との間に配設される粘着部材である。

請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記固定手段は、前記一対の無端ベルトと各々対向配置され、前記一対の無端ベルトとの間に前記基板を挟持する一対の第２の無端ベルトである。

請求項７に記載の発明は、請求項１から請求項６のいずれかに記載の発明において、前記一対の無端ベルトに固定されて搬送される基板を、処理槽に貯留された処理液中を通過させることにより、前記基板の両面を処理液により処理する。

請求項８に記載の発明は、請求項１から請求項６のいずれかに記載の発明において、前記一対の無端ベルトに固定されて搬送される基板に対して、その両面に向けて処理液を噴出することにより、前記基板の両面を処理液により処理する。

請求項１から請求項６に記載の発明によれば、可撓性を有する基板に対して、その中央部の接触不可領域に接触することなく、基板の表裏両面を均一に処理することが可能となる。

請求項７に記載の発明によれば、基板が処理槽に貯留された処理液中を通過するときに、基板の両面を同時に均一に処理することが可能となる。

請求項８に記載の発明によれば、基板の両面に向けて処理液を噴出することにより、基板の両面を同時に均一に処理することが可能となる。

この発明の第１実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。 第１実施形態に係る基板処理装置の変形例を示す側面概要図である。 処理槽２の概要図である。 この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。 第１実施形態に係る固定機構の説明図である。 磁石５１、５２の脱着状態を示す説明図である。 第２実施形態に係る固定機構の説明図である。 第３実施形態に係る固定機構の説明図である。 第４実施形態に係る固定機構の説明図である。 第５実施形態に係る固定機構の説明図である。 第６実施形態に係る固定機構の説明図である。 第７実施形態に係る固定機構の説明図である。 第８実施形態に係る固定機構の説明図である。 この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。 無端ベルト７と第２の無端ベルト３との間に基板１００における搬送方向と平行な一対の端縁のうちの一方の端縁を挿入する状態を示す説明図である。 無端ベルト７と第２の無端ベルト３との間に基板１００における搬送方向と平行な一対の端縁のうちの一方の端縁を挿入する状態を示す説明図である。

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明の第１実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。

この基板処理装置は、搬入部１と、処理槽２と、水洗槽４と、乾燥槽５と、搬出部６と、基板を搬入部１、処理槽２、水洗槽４、乾燥槽５、搬出部６に順次搬送するための無端ベルト７とを備える。無端ベルト７は、一対のプーリ４１間に巻回されている。これら一対のプーリ４１のうちのいずれか一方は、図示しないモータの駆動により回転する駆動プーリとなっており、他方は従動プーリとなっている。無端ベルト７は、後述するように、矩形状の基板の搬送方向と平行な一対の端縁を支持するために、基板の搬送方向と直交する方向に基板の幅（搬送方向と平行な一対の端縁間の距離）に相当する距離だけ互いに離隔した位置に、一対配設されている。

処理槽２は、基板の両面に処理液を供給することにより基板の両面を同時に処理液で処理するためのものであり、処理液を貯留する処理液槽２１を備える。また、水洗槽４は、基板の両面に水洗水を供給することにより基板の両面を同時に水洗処理するためのものであり、基板の上面に水洗水を噴出する複数のノズル３３と、基板の下面に水洗水を噴出する複数のノズル３４とを備える。さらに、乾燥槽５は、基板を乾燥するためのものであり、基板の両面に圧縮空気を吹き付ける一対のエアナイフ３６を備える。

また、この基板処理装置は、基板における搬送方向と平行な一対の端縁を、一対の無端ベルト７に固定するための固定機構を備える。基板は、搬入部１において、搬送方向と平行な一対の端縁を一対の無端ベルト７に、一定のピッチで複数枚固定される。また、処理を終了した基板は、搬出部６において、一対の無端ベルト７から取り外される。なお、この固定機構の構成については、後程、詳細に説明する。

図２は、図１に示す第１実施形態に係る基板処理装置の変形例を示す側面概要図である。

図１に示す基板処理装置においては、比較的大径のプーリ４１間に無端ベルト７を巻回することにより、無端ベルト７における単一の領域（往動部）が搬入部１、処理槽２、水洗槽４、乾燥槽５、搬出部６を通過する構成としている。これに対して、図２に示す基板処理装置においては、３個のプーリ４２、４３、４４に無端ベルト７を巻回することにより、無端ベルト７における単一の領域（往動部）が搬入部１、処理槽２、水洗槽４、乾燥槽５、搬出部６を通過する構成としている。なお、３個のプーリ４２、４３、４４のうちの一つは、図示しないモータの駆動により回転する駆動プーリとなっており、他の二個は従動プーリとなっている。

図３は、図１および図２に示す処理槽２の概要図である。

この処理槽２は、無端ベルト７に固定されて搬入および搬出される矩形状の基板に対して、その表裏両面を処理液により同時に処理するためのものであり、基板を処理するための処理液を貯留する処理液槽２１と、処理液の回収槽２２と、処理液を貯留する貯留槽３０とを備える。また、この処理槽２は、処理液槽２１の上方から処理液を供給する複数の処理液噴出ノズル２５と、処理液槽２１に貯留された処理液中において無端ベルト７に固定された基板の下方から処理液を供給する複数の処理液噴出ノズル２６とを備える。基板は、処理液槽２１中において、無端ベルト７によりその両端縁を固定された状態で、水平方向に搬送される。

処理液槽２１には、基板の搬入口２３と搬出口２４とが形成されている。無端ベルト７は、これらの搬入口２３および搬出口２４を利用して、基板を処理液槽２１に対して搬入および搬出する。回収槽２２は、処理液槽２１における搬入口２３および搬出口２４から流下した処理液を回収するためのものである。この回収槽１２は処理液の回収管路を介して貯留槽３０と連結されている。そして、貯留槽３０内の処理液は、ポンプ２９の作用により、管路２７を介して上述した複数の処理液噴出ノズル２５に送液され、管路２８を介して上述した複数の処理液噴出ノズル２６に送液される。

次に、基板処理装置の他の実施形態について説明する。図４は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。なお、図１および図２に示す第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。

この第２実施形態に係る基板処理装置においては、図１および図２に示す基板処理装置における処理液槽２１を備えた処理槽２に替えて、基板の両面に処理液を噴出する構成の処理槽３を採用している。この処理槽３は、基板の上面に処理液を噴出する複数の処理液噴出ノズル３１と、基板の下面に処理液を噴出する複数の処理液噴出ノズル３２と、基板の両面に圧縮空気を吹き付けることにより基板に付着した処理液を除去するための一対のエアナイフ３５とを備える。

また、図１および図２に示す基板処理装置においては、無端ベルト７における単一の領域（往動部）が搬入部１、処理槽２、水洗槽４、乾燥槽５、搬出部６を通過する構成としている。これに対して、図２に示す基板処理装置においては、無端ベルト７は、比較的小径の一対のプーリ４５、４６間に巻回されており、無端ベルト７における複数の領域（往復動部）が搬入部１、処理槽３、水洗槽４、乾燥槽５、搬出部６を通過する構成としている。

次に、基板における搬送方向と平行な一対の端縁を、一対の無端ベルト７に固定するための固定機構の構成について説明する。図５は、第１実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図５(ａ)は平面図であり、図５(ｂ)は側面図である。また、図６は、磁石５１、５２の脱着状態を示す説明図である。

この第１実施形態に係る固定機構は、無端ベルト７と基板１００とを挟持する上下一対の磁石５１、５２を有する。基板１００は、これらの磁石５１、５２により、無端ベルト７の表面に対して搬送方向と平行な一対の端縁を固定され、無端ベルト７により支持された状態で搬送される。図１、図２、図４に示す搬入部１には、図６(ａ）に示す磁石５１の供給部５３と、磁石５２の供給部５４とが対向配置されている。磁石５１、５２は、これらの供給部５３、５４から基板１００の端縁と対応する位置に一定ピッチごとに供給され、基板１００と無端ベルト７とを挟持する。また、図１、図２、図４に示す搬出部６には、無端ベルト７の移動に伴って搬送される磁石５１、５２と当接する位置に図６（ｂ）に示す当接部材５５、５６が対向配設されており、磁石５１、５２はこれらの当接部材５５、５６と当接することにより、基板１００と無端ベルト７とを挟持する位置から排除される。

図７は、第２実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図７（ａ)は平面図であり、図７(ｂ)は側面図である。

図６に示す固定機構においては、基板１００の端縁と対応する位置に一定ピッチごとに磁石５１、５２を配置して基板１００と無端ベルト７とを挟持している。これに対して、図７に示す実施形態においては、基板１００における搬送方向と平行な端縁と同程度の長さを有する長尺の一対の磁石６１、６２を使用して、基板１００の端縁を無端ベルト７に固定する構成を採用している。

図８は、第３実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図８(ａ)は平面図であり、図８(ｂ)は側面図である。

この実施形態においては、無端ベルト７が磁性体により構成されている。そして、基板１００における磁性体からなる無端ベルト７とは逆側（上方）の端縁と対応する位置に、一定ピッチごとに磁石６４を配置して基板１００と無端ベルト７とを挟持している。

図９は、第４実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図９(ａ)は平面図であり、図９(ｂ)は側面図である。

この実施形態においても、無端ベルト７が磁性体により構成されている。そして、基板１００における搬送方向と平行な端縁と同程度の長さを有する長尺の磁石６３を使用して、基板１００の端縁を無端ベルト７に固定する構成を採用している。

図１０は、第５実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図１０(ａ)は平面図であり、図１０(ｂ)は側面図である。

この実施形態においては、無端ベルト７の表面に、一定ピッチで磁石６６が付設されている。そして、基板１００における無端ベルト７とは逆側の面（上面）には、磁石６５が配置される。この実施形態においては、基板１００は、これらの磁石６５、６６により、無端ベルト７に対して搬送方向と平行な一対の端縁を固定され、無端ベルト７により支持された状態で搬送される。

図１１は、第６実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図１１(ａ)は平面図であり、図１１(ｂ)は側面図である。

上述した第１乃至第５実施形態に係る固定機構においては、磁石を利用して基板１００を無端ベルト７と固定している。これに対して、この第６実施形態においては、基板１００に形成された孔部に無端ベルト７に立設されたピン７１を係合することにより、基板１００を無端ベルト７に固定する構成を採用している。すなわち、この実施形態においては、基板１００における基板１００における搬送方向と平行な端縁には、一定ピッチで孔部が穿設されている。また、無端ベルト７には、孔部のピッチと同一ピッチでピン７１が立設されている。基板１００は、このピン７１が基板１００の孔部に係合することにより、無端ベルト７に固定され、無端ベルト７により支持された状態で搬送される。

図１２は、第７実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図１２(ａ)は平面図であり、図１２(ｂ)は側面図である。

この実施形態においては、無端ベルト７と基板１００との間に、その両面が粘着性を有する粘着剤７２を介在させることにより、基板１００を無端ベルト７に対して固定する構成を有する。

図１３は、第８実施形態に係る固定機構の説明図である。なお、図１３(ａ)は平面図であり、図１３(ｂ)は側面図である。

この実施形態においては、無端ベルト７の表面７３が粘着性を有する材質から構成されている。この実施形態においては、基板１００を無端ベルト７上に載置すること自体で、基板１００を無端ベルト７に対して固定する構成を有する。

次に、基板処理装置の他の実施形態について説明する。図１４は、この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。なお、図１および図２に示す第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。

この実施形態においては、４個のプーリ４７に巻回された無端ベルト７と、４個のプーリ４８に巻回された第２の無端ベルト８とにより、基板１００における搬送方向と平行な端縁を挟持して搬送する構成を有する。

この基板処理装置においては、無端ベルト７が巻回された４個のプーリ４７のうちの一つは、図示しないモータの駆動により回転する駆動プーリとなっており、他の三個は従動プーリとなっている。また、無端ベルト７と対向配置された第２の無端ベルト８が巻回された４個のプーリ４８のうちの一つは、図示しないモータの駆動により回転する駆動プーリとなっており、他の三個は従動プーリとなっている。また、搬入部１、処理槽２、水洗槽４、乾燥槽５および搬出部６には、各々、無端ベルト７と第２の無端ベルト８とを当接させるための二対のニップローラ３９が配設されている。

図１５は、無端ベルト７と第２の無端ベルト８との間に基板１００における搬送方向と平行な一対の端縁のうちの一方の端縁を挿入する状態を示す説明図である。

無端ベルト７と第２の無端ベルト８には、それらが当接する側の表面に、互いに係合する凹凸が形成されている。基板１００は、無端ベルト７と第２の無端ベルト８とによりその搬送方向と平行な一対の端縁が挟持され、これらの凹凸の作用により、位置ずれを生ずることなく、搬送される。すなわち、第２の無端ベルト８は、無端ベルト７と対向配置され無端ベルト７との間に基板１００を挟持する固定手段として機能する。

次に、第３実施形態に係る基板処理装置の変形例について説明する。図１６は、この変形例において、無端ベルト７と第２の無端ベルト８との間に基板１００における搬送方向と平行な一対の端縁のうちの一方の端縁を挿入する状態を示す説明図である。

この実施形態においては、無端ベルト７の表面には、一定ピッチで磁石６８が付設されている。一方、第２の無端ベルト８の表面にも、無端ベルト７の磁石６８と同一ピッチで磁石６７が付設されている。基板１００は、その搬送方向と平行な一対の端縁がこれらの磁石６７、６８の作用により無端ベルト７に対して固定され、位置ずれを生ずることなく、無端ベルト７と第２の無端ベルト８に挟持されて、搬送される。

１ 搬入部
２ 処理槽
３ 処理槽
４ 水洗槽
５ 乾燥槽
６ 搬出部
７ 無端ベルト
８ 第２の無端ベルト
２１ 処理液槽
２２ 回収槽
２５ 処理液噴出ノズル
２６ 処理液噴出ノズル
２９ ポンプ
３２ 処理液噴出ノズル
３３ ノズル
３５ エアナイフ
３６ エアナイフ
３９ ニップローラ
４１ プーリ
４２ プーリ
４３ プーリ
４４ プーリ
４５ プーリ
４６ プーリ
４７ プーリ
４８ プーリ
５１ 磁石
５２ 磁石
６１ 磁石
６２ 磁石
６３ 磁石
６４ 磁石
６５ 磁石
６６ 磁石
６７ 磁石
６８ 磁石
７１ ピン
７２ 粘着剤
１００ 基板

Claims (8)

1. 可撓性を有する矩形状の基板を水平方向に搬送するとともに、前記基板の両面に処理液を供給することにより、前記基板の両面を同時に処理する基板処理装置において、
   前記基板における搬送方向と平行な一対の端縁を支持する一対の無端ベルトと、
   前記基板における搬送方向と平行な一対の端縁を、前記一対の無端ベルトに固定するための固定手段と、
   を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記固定手段は、前記無端ベルトと前記基板における搬送方向と平行な端縁とを挟持する一対の磁石である基板処理装置。
3. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記一対の無端ベルトは磁性体より構成されており、
   前記固定手段は、前記基板における搬送方向と平行な端縁を前記無端ベルトとの間に挟持する磁石を備える基板処理装置。
4. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記基板は、当該基板における搬送方向と平行な一対の端縁に孔部が形成されており、
   前記一対の無端ベルトには、前記基板における搬送方向と平行な一対の端縁に形成された孔部と係合するピンが形成される基板処理装置。
5. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記固定手段は、前記無端ベルトと前記基板における搬送方向と平行な端縁との間に配設される粘着部材である基板処理装置。
6. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記固定手段は、前記一対の無端ベルトと各々対向配置され、前記一対の無端ベルトとの間に前記基板を挟持する一対の第２の無端ベルトである基板処理装置。
7. 請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記一対の無端ベルトに固定されて搬送される基板を、処理槽に貯留された処理液中を通過させることにより、前記基板の両面を処理液により処理する基板処理装置。
8. 請求項１から請求項６のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記一対の無端ベルトに固定されて搬送される基板に対して、その両面に向けて処理液を噴出することにより、前記基板の両面を処理液により処理する基板処理装置。
   

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