JP2013058655A - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト容器13に第1管路26を介して接続する一時貯留容器40と、一時貯留容器に第2管路27を介して接続される供給ノズルと、一時貯留容器内を負圧にして、処理液内に混入した気泡を排出するための脱気機構32と、一時貯留容器内に形成され、第1管路を介して供給される処理液を貯留する流入槽41と、流入槽からオーバーフローした処理液を貯留すると共に、第2管路27が接続する流出槽43と、流出槽と第1管路を接続する第3管路28と、第1管路と第3管路の接続部に介設される切換弁31と、流出槽から第3管路及び第1管路を介して流入槽への処理液の供給を行う供給・循環用ポンプP2と、第3管路に介設され、異物・気泡を除去するフィルタ50と、を具備する。
【選択図】図4
Description
循環工程では、流出槽43に貯留されたレジスト液Rを、供給・循環用ポンプP2により、第1管路26に接続する第3管路28及び第1管路26を介して、フィルタ50を通して流入槽41に供給し、一時貯留容器40内を脱気機構32により負圧にして、流入槽41から、流出槽43にオーバーフローしたレジスト液Rに混入している気泡を除去する。
供給工程では、レジスト容器13に貯留されたレジスト液Rを、供給・循環用ポンプP2により、第1管路26を介して一時貯留容器40内に形成される流入槽41に供給し、一時貯留容器40内を脱気機構32により負圧にして、流入槽41から、一時貯留容器40内に形成される流出槽43にオーバーフローしたレジスト液Rに混入している気泡を除去する。
上述した第1実施形態では、一時貯留容器40内の流入槽41と流出槽43の間に、レジスト液Rを貯留可能な中間槽42を配置したが、中間槽を複数配置し、流入槽側の中間槽から、流出槽側の上記中間槽にオーバーフローしたレジスト液Rが順次貯留してもよい。例えば、図5に示すように、複数例えば3つの中間槽である第1中間槽62A,第2中間槽62B,第3中間槽62Cを配置し、流入槽61側の第1中間槽62Aから、流出槽63側の第2,第3中間槽62B,62Cにオーバーフローしたレジスト液Rが順次貯留してもよい。
上述した第1実施形態では、フィルタ50は、第3管路28に介設されていたが、第3管路28もしくは切換弁31の二次側の第1管路26の少なくともいずれか一方に介設されていればよい。例えば、図6に示すように、フィルタ51を、切換弁31及び供給・循環用ポンプP2の二次側の第1管路26に介設してもよい。
上述した第1実施形態では、第3管路28を第1管路26に接続し、第3管路28及び第1管路26を介してレジスト液Rの循環を行ったが、例えば、図7に示すように、流出槽43と流入槽41を接続する循環管路29により、レジスト液Rの循環を行ってもよい。
循環工程では、流出槽43に貯留されたレジスト液Rを、循環用ポンプP4により、循環管路29を介してフィルタ50を通して流入槽41に供給し、一時貯留容器40A内を脱気機構32により負圧にして、流入槽41から、流出槽43にオーバーフローしたレジスト液Rに混入している気泡を除去する。
供給工程では、レジスト容器13に貯留されたレジスト液Rを、供給用ポンプP3により、第1管路26を介して一時貯留容器40A内に形成される流入槽41に供給し、一時貯留容器40A内を脱気機構32により負圧にして、流入槽41から、一時貯留容器40A内に形成される流出槽43にオーバーフローしたレジスト液Rに混入している気泡を除去する。
上述した第1実施形態において、一時貯留容器40に、一時貯留容器40内のレジスト液Rを加熱するための加熱部68を備えてもよい。
W ウエハ(被処理基板)
P1 吐出用ポンプ
P2 供給・循環用ポンプ
P3 供給用ポンプ
P4 循環用ポンプ
6 供給ノズル
13 レジスト容器(処理液供給源)
26 第1管路
27 第2管路
28 第3管路
29 循環管路
31 切換弁
32 脱気機構
35 液面検出センサ
35a 下限センサ
35b 上限センサ
40,40A,60 一時貯留容器
41,61 流入槽
42 中間槽
62A,62B,62C 第1中間槽,第2中間槽,第3中間槽(複数の中間槽)
43,63 流出槽
50,51 フィルタ
68 加熱部
69 超音波発生部
100 制御部
Claims (23)
- 処理液供給源に第1管路を介して接続する一時貯留容器と、
上記一時貯留容器に第2管路を介して接続され、被処理基板に処理液を吐出する供給ノズルと、
上記第2管路に介設され、上記一時貯留容器から上記第2管路を介して上記供給ノズルに処理液を供給する吐出用ポンプと、
上記一時貯留容器内を負圧にして、上記一時貯留容器内の処理液内に混入した気泡を排出するための脱気機構と、
上記一時貯留容器内に形成され、上記処理液供給源から上記第1管路を介して供給される処理液を貯留可能な流入槽と、
上記一時貯留容器内に形成され、上記流入槽からオーバーフローした処理液を貯留すると共に、上記第2管路に接続する流出槽と、
上記流出槽と上記第1管路を接続する第3管路と、
上記第1管路と上記第3管路の接続部に介設され、上記流入槽と、上記処理液供給源側又は上記流出槽側との連通を選択的に切り換え可能な切換弁と、
上記切換弁の二次側の上記第1管路に介設され、上記処理液供給源から上記第1管路を介して上記流入槽への処理液の供給と、上記流出槽から上記第3管路及び上記第1管路を介して上記流入槽への処理液の供給を行う供給・循環用ポンプと、
上記第3管路もしくは上記切換弁の二次側の上記第1管路の少なくともいずれか一方に介設され、処理液を濾過して異物を除去すると共に、処理液中に混入している気泡を除去するフィルタと、を具備する、
ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1記載の液処理装置において、
上記供給・循環用ポンプは、上記流出槽から上記第3管路及び上記第1管路を介して上記流入槽への処理液の供給を行う際、上記フィルタにおける処理液を濾過して異物を除去すると共に、処理液中に混入している気泡を除去するために適した単位時間当たりの濾過量を、処理液の単位時間当たりの供給量として供給する、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1又は2記載の液処理装置において、
上記供給・循環用ポンプは、処理液の単位時間当たりの供給量が調整可能に形成され、上記切換弁及び上記供給・循環用ポンプを制御する制御部を更に具備し、上記制御部は、上記切換弁を制御して、上記流入槽と、上記処理液供給源側又は上記流出槽側との連通を選択的に切り換えると共に、上記供給・循環用ポンプを制御して、上記流入槽と、上記処理液供給源側又は上記流出槽側との連通毎に処理液の単位時間当たりの供給量を変更してなる、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の液処理装置において、
上記流出槽に貯留される処理液の液面の位置を検出する液面検出センサと、上記切換弁を制御する制御部を設け、上記液面検出センサは、処理液が上記流出槽の下限位置であることを検出する下限センサと、処理液が上記流出槽の上限位置であることを検出する上限センサとを具備し、上記制御部は、上記下限センサの検出した検出信号を受け、上記切換弁を制御して上記流入槽と上記処理液供給源側との連通に切り換え、上記上限センサの検出した検出信号を受け、上記切換弁を制御して上記流入槽と上記流出槽側との連通に切り換える、ことを特徴とする液処理装置。 - 処理液供給源に第1管路を介して接続する一時貯留容器と、
上記一時貯留容器に第2管路を介して接続され、被処理基板に処理液を吐出する供給ノズルと、
上記第2管路に介設され、上記一時貯留容器から上記第2管路を介して上記供給ノズルに処理液を供給する吐出用ポンプと、
上記一時貯留容器内を負圧にして、上記一時貯留容器内の処理液内に混入した気泡を排出するための脱気機構と、
上記一時貯留容器内に形成され、上記処理液供給源から上記第1管路を介して供給される処理液を貯留可能な流入槽と、
上記一時貯留容器内に形成され、上記流入槽からオーバーフローした処理液を貯留すると共に、上記第2管路に接続する流出槽と、
上記流出槽と上記流入槽を接続する循環管路と、
上記第1管路に介設され、上記処理液供給源から上記第1管路を介して上記流入槽に処理液を供給する供給用ポンプと、
上記循環管路に介設され、上記流出槽から上記循環管路を介して上記流入槽に処理液を供給する循環用ポンプと、
上記循環管路に介設され、処理液を濾過して異物を除去すると共に、処理液中に混入している気泡を除去するフィルタと、を具備する、
ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項5記載の液処理装置において、
上記循環用ポンプは、上記流出槽から上記循環管路を介して上記流入槽への処理液の供給を行う際、上記フィルタにおける処理液を濾過して異物を除去すると共に、処理液中に混入している気泡を除去するために適した単位時間当たりの濾過量を、処理液の単位時間当たりの供給量として供給する、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項5又は6記載の液処理装置において、
上記供給用ポンプは、上記処理液供給源から上記第1管路を介して上記流入槽へ供給される処理液の単位時間当たりの供給量が調整可能に形成され、上記循環用ポンプは、上記流出槽から上記循環管路を介して上記流入槽へ供給される処理液の単位時間当たりの供給量が調整可能に形成される、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項5ないし7のいずれかに記載の液処理装置において、
上記流出槽に貯留される処理液の液面の位置を検出する液面検出センサと、上記供給用ポンプを制御する制御部を設け、上記液面検出センサは、処理液が上記流出槽の下限位置であることを検出する下限センサと、処理液が上記流出槽の上限位置であることを検出する上限センサとを具備し、上記制御部は、上記供給用ポンプを制御して、上記下限センサの検出した検出信号を受け、上記処理液供給源から上記第1管路を介して上記流入槽への処理液の供給を開始し、上記上限センサの検出した検出信号を受け、上記処理液供給源から上記第1管路を介して上記流入槽への処理液の供給を停止する、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1ないし8のいずれかに記載の液処理装置において、
上記一時貯留容器内の上記流入槽と上記流出槽の間に、処理液を貯留可能な中間槽が配置され、上記中間槽は、上記流入槽からオーバーフローした処理液を貯留すると共に、上記中間槽からオーバーフローした処理液が上記流出槽に貯留する、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項9記載の液処理装置において、
上記中間槽は複数配置され、上記流入槽側の上記中間槽から、上記流出槽側の上記中間槽にオーバーフローした処理液が順次貯留される、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1ないし10のいずれかに記載の液処理装置において、
上記一時貯留容器に、上記一時貯留容器内の処理液を加熱するための加熱部を備える、ことを特徴とする液処理装置。 - 請求項1ないし11のいずれかに記載の液処理装置において、
上記一時貯留容器に、上記一時貯留容器内の処理液を超音波振動させる超音波発生部を備える、ことを特徴とする液処理装置。 - 処理液供給源に貯留された処理液を、供給・循環用ポンプにより、第1管路を介して一時貯留容器内に形成される流入槽に供給し、上記一時貯留容器内を脱気機構により負圧にして、上記流入槽から上記一時貯留容器内に形成される流出槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去する供給工程と、
上記流出槽に貯留された処理液を、上記供給・循環用ポンプにより、上記第1管路に接続する第3管路及び上記第1管路を介して、処理液を濾過して異物を除去すると共に処理液中に混入している気泡を除去するフィルタを通して上記流入槽に供給し、上記一時貯留容器内を上記脱気機構により負圧にして、上記流入槽から上記流出槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去する循環工程と、
上記流入槽と、上記処理液供給源側又は上記流出槽側との連通を、上記第1管路と上記第3管路の接続部に介設される切換弁により選択的に切り換え、上記供給工程又は上記循環工程のいずれか一方の実行を選択する切換工程と、
上記流出槽に貯留された処理液を、吐出用ポンプにより、第2管路を介して被処理基板に処理液を吐出する供給ノズルに供給する吐出工程と、を具備する、
ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13記載の液処理方法において、
上記供給工程又は上記循環工程のいずれか一方を、上記吐出工程と同時に実行する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13又は14記載の液処理方法において、
上記循環工程は、上記供給工程における上記供給・循環用ポンプの処理液の単位時間当たりの供給量から、上記供給・循環用ポンプの処理液の単位時間当たりの供給量を変更する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13ないし15のいずれかに記載の液処理方法において、
上記切換工程は、上記流出槽に貯留される処理液の液面の位置が下限位置に達した場合に、上記流入槽と上記処理液供給源側との連通に切り換え、上記流出槽に貯留される処理液の液面の位置が上限位置に達した場合に、上記流入槽と上記流出槽側との連通に切り換える、ことを特徴とする液処理方法。 - 処理液供給源に貯留された処理液を、供給用ポンプにより、第1管路を介して一時貯留容器内に形成される流入槽に供給し、上記一時貯留容器内を脱気機構により負圧にして、上記流入槽から上記一時貯留容器内に形成される流出槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去する供給工程と、
上記流出槽に貯留された処理液を、循環用ポンプにより、循環管路を介して、処理液を濾過して異物を除去すると共に処理液中に混入している気泡を除去するフィルタを通して上記流入槽に供給し、上記一時貯留容器内を上記脱気機構により負圧にして、上記流入槽から上記流出槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去する循環工程と、
上記流出槽に貯留された処理液を、吐出用ポンプにより、第2管路を介して被処理基板に処理液を吐出する供給ノズルに供給する吐出工程と、を具備する、
ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項17記載の液処理方法において、
上記供給工程又は上記循環工程の少なくともいずれか一方を、上記吐出工程と同時に実行する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項17又18に記載の液処理方法において、
上記供給工程は、上記流出槽に貯留される処理液の液面の位置が下限位置に達した場合に開始され、上記流出槽に貯留される処理液の液面の位置が上限位置に達した場合に停止する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13ないし19のいずれかに記載の液処理方法において、
上記一時貯留容器内の上記流入槽と上記流出槽の間に、処理液を貯留可能な中間槽が配置され、上記供給工程及び上記循環工程において、上記一時貯留容器内を脱気機構により負圧にして、上記流入槽から上記中間槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去すると共に、上記中間槽から上記流出槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項20記載の液処理方法において、
上記中間槽は複数配置され、上記供給工程及び上記循環工程において、上記流入槽側の上記中間槽から、上記流出槽側の上記中間槽にオーバーフローした処理液に混入している気泡を除去する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13ないし21のいずれかに記載の液処理方法において、
上記供給工程及び上記循環工程において、上記一時貯留容器内の処理液を加熱する、ことを特徴とする液処理方法。 - 請求項13ないし22のいずれかに記載の液処理方法において、
上記供給工程及び上記循環工程において、上記一時貯留容器内の処理液を超音波振動する、ことを特徴とする液処理方法。
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