JPH0964010A - リンス機用温洗浄液供給装置 - Google Patents

リンス機用温洗浄液供給装置

Info

Publication number
JPH0964010A
JPH0964010A JP24082695A JP24082695A JPH0964010A JP H0964010 A JPH0964010 A JP H0964010A JP 24082695 A JP24082695 A JP 24082695A JP 24082695 A JP24082695 A JP 24082695A JP H0964010 A JPH0964010 A JP H0964010A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
temperature
cleaning
valve
open
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24082695A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Ito
隆志 伊藤
Hiroyuki Saito
博之 斎藤
Haruyuki Kinami
治行 木南
Toshinori Konaka
敏典 小中
Takeshi Murai
剛 村井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M SETETSUKU KK
Setetsuku Kk M
Original Assignee
M SETETSUKU KK
Setetsuku Kk M
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M SETETSUKU KK, Setetsuku Kk M filed Critical M SETETSUKU KK
Priority to JP24082695A priority Critical patent/JPH0964010A/ja
Publication of JPH0964010A publication Critical patent/JPH0964010A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウエハの洗浄等に用いるリンス機用温
洗浄液供給装置において、洗浄液を貯蔵,保存しておく
ための大型のタンクを不要とすることにより、設備費用
を少なくし、設置面積を小さくし、装置の立ち上げに要
する時間を大幅に短縮する。温度が安定した洗浄液を供
給し、洗浄液として薬液を用いる場合でも薬液の特性変
化を少なくする。 【解決手段】流入口(1)より流入した洗浄液を温度調整
部(2)で加熱し、温度調整された洗浄液を流出口(3)より
リンス機(6)に供給する装置。供給する必要のないとき
には洗浄液を保温しつつ装置内で循環させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子等の製造にお
いて洗浄に用いられるリンス機に温純水等の温洗浄液を
供給する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハや太陽電池用セル等の製造
工程においては、リンス機で純水,薬液等の洗浄液を用
いて洗浄対象表面の洗浄を行なっている。ここに洗浄液
の温度は高い方が洗浄能率がよく、洗浄後の被洗浄物の
乾燥も速くなる。しかし、あまり高温になり過ぎると洗
浄対象に歪み,反り等を生じさせるおそれがあるので、
洗浄液をそのような悪影響を与えない程度の温度に設定
して用いている。リンス機の種類としては常に洗浄液を
供給し続ける連続式と、必要なときに必要なだけ洗浄液
を供給する間欠式がある。間欠式の場合には一旦タンク
に洗浄液を蓄えて加熱,保温しておき、洗浄作業の度に
タンク内から洗浄液等を取り出して用いている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】タンクは、まず多数回
の使用に必要な洗浄液を貯蔵する必要があるために大型
となり、大きなスペースが必要となるばかりでなく、設
備のコストも高くつく。 使用に際しては、タンクに多くの洗浄液を貯蔵し、加
熱,保温する必要があるので、立ちあげに要する時間が
長くなる。また、タンクの容量には限りがあるので、一
定以上の量の洗浄液を使用する場合には、新たにタンク
に洗浄液を追加注液する必要があり、液温が不安定とな
りやすく、液温低下により洗浄が不十分となることもあ
った。一旦タンク内の洗浄液を使い切ってから再度タン
ク内を満たして加熱,保温する場合は最初の立ち上げ時
と同様の立ち上げ時間が必要となり効率が悪い。さら
に、洗浄液として純水ではなく薬液を用いた場合、上記
の問題の他に長時間の加熱保温により薬液の特性が変化
してしまうという問題もある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明のリンス機用温洗
浄液供給装置は、流入口(1)より流入した洗浄液を温度
調整部(2)で加熱し、温度調整された洗浄液を流出口(3)
よりリンス機(6)に供給する装置であって、供給する必
要のないときには洗浄液を保温しつつ装置内で循環させ
ることを特徴とする。
【0005】
【実施の形態】以下、本発明を好適な実施例を用いて説
明する。図1は本発明実施例の流路構成図である。
【0006】(1)は外部から純水等の洗浄液の流入口で
あり、逆止弁(16)を通って開状態の第2開閉弁(18)に流
れて行く。このとき第2流量調整弁(23)は閉状態になっ
ている。第1開閉弁(17)と第2開閉弁(18)とは常に反対
の状態(一方が「開」の時に他方は「閉」)となるよう
に設定されているため、このときは閉状態となってい
る。そこで第2開閉弁(18)を通過した洗浄液は全てポン
プ(5)を通過する。レギュレーター(13)を備えた経路は
通常閉状態であるため、洗浄液は第1流量調整弁(22)
と、脈動防止のためのパルスダンパー(12)と、第1温度
検知部(7)を介して温度調整部(2)に導かれる。温度調整
部(2)においては電熱線(2a)が、洗浄液が通っている管
路の周りに巻き付けられており、電熱線(2a)により洗浄
液が加熱される。温度調整部(2)にはヒーター温度の異
常上昇を検知して電源を遮断するための2種類の過熱防
止センサ(「熱電対」と「液圧式サーモスタット」)を
備えている(図示せず)。温度調整部(2)で適当な温度
に調整された洗浄液は液体用のフィルター(11)を通って
第2温度検知部(8)に流れて行く。第2温度検知部(8)で
検出された温度データは温度調整器(図示せず)へ送ら
れ、これに基づき電熱線(2a)への出力が制御される。
【0007】供給時には流出側流量検知部(10),第5開
閉弁(21),サックバック(14)を介して洗浄液流出口(3)
より洗浄液供給先(リンス機)(6)に供給される。ここ
にサックバック(14)は供給停止時に、サックバック(14)
から洗浄液流出口(3)までの経路内に残留している洗浄
液が洗浄液供給先(6)に滴下しないようにするために用
いている。また、流出側流量検知部(10)は、後述する循
環側流量検知部(9)とともに洗浄液の流量を検知して空
炊きを防止している。
【0008】洗浄液を供給しないときには、洗浄液は経
路内を循環する。循環時には第2温度検知部(8)から循
環側流量検知部(9)に流れて行く。第1開閉弁(17)は開
状態,第2開閉弁(18)は閉状態に切り替わっているの
で、第1開閉弁(17)を通った洗浄液は全てポンプ(5),
温度調整部(2)を経由して流れ、循環する。温度調整部
(2)では循環により失われた熱量だけ加熱するため洗浄
液の温度はほぼ一定に保たれる。
【0009】尚、起動時には経路の管内に空気が入って
いることがあるので、第2開閉弁(18)を閉じ、第2流量
調整弁(23)と第3開閉弁(19)を開状態にして管内の空気
をドレン(4)から排出し、起動後しばらくしてから第2
流量調整弁(23)と第3開閉弁(19)を閉状態にし、第2開
閉弁(18)を開状態にする。また、装置運転中には洗浄液
中に溶けていたガスが加熱により気泡となって現れるの
で、このガスはフィルター(11)から第4開閉弁(20),第
3流量調整弁(15)を通ってドレン(4)から排出される。
レギュレーター(13)を備えた回路は、経路内の圧力が異
常に高くなったときに経路内の洗浄液をドレン(4)から
排出し、経路内圧上昇に起因する故障を防止する。
【0010】間欠的使用を行っても、洗浄液の温度の変
動は少なく、常に洗浄に適した温度の洗浄液をリンス機
に供給することができた。また、洗浄液として薬液を使
用した場合でも、大量の薬液を長時間加熱保温しておく
必要がないので、薬液の特性変化は見られなかった。立
ち上げに要する時間も、経路内部のガスをドレンから排
出するための短い時間でよく、作業効率が向上した。
【0011】尚、上記実施例では洗浄液流出口(3)を1
カ所設けたが、複数箇所設けてもよい。
【0012】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の温洗浄液供
給装置では洗浄液を貯蔵,保存しておくための大型のタ
ンクを必要としないため、設備費用が少なく、設置面積
も小さくすることができ、装置の立ち上げに要する時間
が大幅に短縮できる。そして、温度が安定した洗浄液を
供給することができ、洗浄液として薬液を用いる場合で
も薬液の特性変化を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の流路構成図。
【符号の説明】
(1) 洗浄液流入口 (2) 温度調整部 (2a) 電熱線 (3) 洗浄液流出口 (4) ドレン (5) ポンプ (6) 洗浄液供給先(リンス機) (7) 第1温度検知部 (8) 第2温度検知部 (9) 循環側流量検知部 (10) 流出側流量検知部 (11) フィルター (12) パルスダンパー (13) レギュレーター (14) サックバック (15) 第3流量調整弁 (16) 逆止弁 (17) 第1開閉弁 (18) 第2開閉弁 (19) 第3開閉弁 (20) 第4開閉弁 (21) 第5開閉弁 (22) 第1流量調整弁 (23) 第2流量調整弁
フロントページの続き (72)発明者 小中 敏典 東京都台東区谷中3丁目6番16号 エム・ セテック株式会社内 (72)発明者 村井 剛 東京都台東区谷中3丁目6番16号 エム・ セテック株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流入口より流入した洗浄液を温度調整部
    で加熱し、温度調整された洗浄液を流出口よりリンス機
    に供給するリンス機用温洗浄液供給装置であって、供給
    する必要のないときには洗浄液を保温しつつ装置内で循
    環させることを特徴とするリンス機用温洗浄液供給装
    置。
JP24082695A 1995-08-25 1995-08-25 リンス機用温洗浄液供給装置 Pending JPH0964010A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24082695A JPH0964010A (ja) 1995-08-25 1995-08-25 リンス機用温洗浄液供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24082695A JPH0964010A (ja) 1995-08-25 1995-08-25 リンス機用温洗浄液供給装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0964010A true JPH0964010A (ja) 1997-03-07

Family

ID=17065280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24082695A Pending JPH0964010A (ja) 1995-08-25 1995-08-25 リンス機用温洗浄液供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0964010A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013058655A (ja) * 2011-09-09 2013-03-28 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及び液処理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013058655A (ja) * 2011-09-09 2013-03-28 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及び液処理方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5313647B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
CN109891162B (zh) 流体加热装置
JP2003083614A (ja) 給湯装置
JP4104805B2 (ja) ヒートポンプ給湯器
JPH0964010A (ja) リンス機用温洗浄液供給装置
JP2001263793A (ja) 湯垢除去方法
JP2005016748A (ja) 給湯暖房熱源装置及びその制御方法
JP2005134028A (ja) 貯湯式温水器
KR102398341B1 (ko) 액체 가열 장치 및 세정 시스템
JPH11108451A (ja) 貯湯タンク付き温水製造装置
KR0122871Y1 (ko) 반도체 제조용 세척조의 온도 및 유량 자동제어장치
JP2019039595A (ja) 貯湯給湯装置
JP3581165B2 (ja) 温水製造装置
JP3961641B2 (ja) 温水温度を安定化した温水製造装置
JP2007120803A (ja) 貯湯式給湯装置
JP2005345075A (ja) 貯湯式給湯器
JP2023172545A (ja) 液体供給装置
JPH07243794A (ja) 洗浄装置
JP3761981B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2023116913A (ja) 給湯システム
JP2501582Y2 (ja) 並列運転冷却塔の水位制御装置
JPH0437754A (ja) 感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び装置
JPH06300358A (ja) 貯湯式電気温水器
JPH09196468A (ja) 貯湯式加温装置
JPH11108453A (ja) 急速貯湯型の温水製造装置