JP2013041078A - パターン位相差フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスクを使用した露光処理により簡易かつ大量に作製できるようにして、実測値に基づいてこのマスクを部分的に拡大縮小して精度を向上する。
【選択図】図4
Description
前記パターン位相差フィルムは、
右目用の画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用の領域とが、帯状に、順次交互に作製され、
前記パターン位相差フィルムの製造方法は、
前記右目用の領域と左目用の領域との幅を、前記パターン位相差フィルムの各部で計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて、前記右目用の領域と左目用の領域との作製に供するマスクを局所的に拡大縮小するマスク補正工程とを備える
パターン位相差フィルムの製造方法。
長尺による透明フィルム材を搬送しながら順次処理し、幅方向に分割して前記パターン位相差フィルムを作製し、
前記計測工程は、
前記分割する領域毎に、それぞれ前記右目用の領域と左目用の領域との幅を計測し、
前記マスク補正工程は、
前記分割する領域毎に、前記マスクを拡大縮小する
(1)に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
前記光学フィルムは、
透過光に所望の特性を設定する帯状の領域が、順次交互に作製され、
前記光学フィルムの製造方法は、
前記帯状の領域の幅を、前記光学フィルムの各部で計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて、前記帯状の領域の作製に供するマスクを局所的に拡大縮小するマスク補正工程とを備える
光学フィルムの製造方法。
図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。パターン位相差フィルム1は、透明フィルム材による基材2に配向膜3、位相差層4が順次作製される。パターン位相差フィルム1は、位相差層4が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと、左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
2 基材
3 配向膜
4 位相差層
16 マスク
Claims (3)
- マスクを使用した露光処理により透明フィルム材を処理してパターン位相差フィルムを作製するパターン位相差フィルムの製造方法において、
前記パターン位相差フィルムは、
右目用の画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用の領域とが、帯状に、順次交互に作製され、
前記パターン位相差フィルムの製造方法は、
前記右目用の領域と左目用の領域との幅を、前記パターン位相差フィルムの各部で計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて、前記右目用の領域と左目用の領域との作製に供するマスクを局所的に拡大縮小するマスク補正工程とを備える
パターン位相差フィルムの製造方法。 - 前記パターン位相差フィルムの製造方法は、
長尺による透明フィルム材を搬送しながら順次処理し、幅方向に分割して前記パターン位相差フィルムを作製し、
前記計測工程は、
前記分割する領域毎に、それぞれ前記右目用の領域と左目用の領域との幅を計測し、
前記マスク補正工程は、
前記分割する領域毎に、前記マスクを拡大縮小する
請求項1に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。 - マスクを使用した露光処理により透明フィルム材を処理してディスプレイ装置に使用する光学フィルムを作製する光学フィルムの製造方法において、
前記光学フィルムは、
透過光に所望の特性を設定する帯状の領域が、順次交互に作製され、
前記光学フィルムの製造方法は、
前記帯状の領域の幅を、前記光学フィルムの各部で計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて、前記帯状の領域の作製に供するマスクを局所的に拡大縮小するマスク補正工程とを備える
光学フィルムの製造方法。
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