JP2013024922A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013024922A5
JP2013024922A5 JP2011156786A JP2011156786A JP2013024922A5 JP 2013024922 A5 JP2013024922 A5 JP 2013024922A5 JP 2011156786 A JP2011156786 A JP 2011156786A JP 2011156786 A JP2011156786 A JP 2011156786A JP 2013024922 A5 JP2013024922 A5 JP 2013024922A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical element
forming
element according
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011156786A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013024922A (ja
JP5839870B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011156786A priority Critical patent/JP5839870B2/ja
Priority claimed from JP2011156786A external-priority patent/JP5839870B2/ja
Priority to EP12004771.7A priority patent/EP2546682A3/en
Priority to US13/547,283 priority patent/US20130016430A1/en
Priority to CN201210243151.0A priority patent/CN102879839B/zh
Publication of JP2013024922A publication Critical patent/JP2013024922A/ja
Publication of JP2013024922A5 publication Critical patent/JP2013024922A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5839870B2 publication Critical patent/JP5839870B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明の光学素子は、光線有効部および非光線有効部を有する基材と、前記非光線有効部の一部または全部に形成された遮光膜とを有する光学素子であって、前記遮光膜はエポキシ樹脂フェノール樹脂および硬化剤との硬化物を含むことを特徴とする。
本発明の光学素子の製造方法は、光線有効部および非光線有効部を有する光学素子の製造方法であって、前記非光線有効部の一部または全部に、少なくともエポキシ樹脂フェノール樹脂および硬化剤を含む塗料を塗工し遮光膜を形成する工程と、前記遮光膜を形成した後、前記光線有効部の少なくとも1つ以上の面に液相法により反射防止膜を形成する工程とを有することを特徴とする。

Claims (15)

  1. 光線有効部および非光線有効部を有する基材と、前記非光線有効部の一部または全部に形成された遮光膜とを有する光学素子であって、前記遮光膜はエポキシ樹脂フェノール樹脂および硬化剤との硬化物を含むことを特徴とする光学素子。
  2. 前記フェノール樹脂がレゾール樹脂であることを特徴とする請求項1記載の光学素子。
  3. 前記硬化は、脂環式酸無水物であることを特徴とする請求項1または2記載の光学素子。
  4. 前記光線有効部の少なくとも1つ以上の面および前記遮光膜の表面の一部に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする請求項1乃至3いずれか1項記載の光学素子。
  5. 前記反射防止膜が液相法を用いて形成されていることを特徴する請求項4記載の光学素子。
  6. 前記反射防止膜の表面に、アルミニウムの水酸化物またはアルミニウム酸化物の水和物を主成分とする結晶による凹凸構造が形成されていることを特徴とする請求項4または5記載の光学素子。
  7. 前記基材は、ヤング率が90GPa以上、130GPa以下であることを特徴とする請求項1乃至6いずれか1項記載の光学素子。
  8. 前記遮光膜の表面に保護膜が形成されていることを特徴とする請求項1乃至7いずれか1項記載の光学素子。
  9. 光線有効部および非光線有効部を有する光学素子の製造方法であって、
    前記非光線有効部の一部または全部に、少なくともエポキシ樹脂フェノール樹脂および硬化剤を含む塗料を塗工し遮光膜を形成する工程と、
    前記遮光膜を形成した後、前記光線有効部の少なくとも1つ以上の面に液相法により反射防止膜を形成する工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。
  10. 前記硬化剤は、脂環式酸無水物であることを特徴とする請求項9記載の光学素子の製造方法。
  11. 前記反射防止膜を形成する工程は、酸化アルミニウムの膜を形成した後、温水に接触させて、表面にアルミニウムの水酸化物またはアルミニウム酸化物の水和物を主成分とする結晶による凹凸構造を形成することを特徴とする請求項9または10記載の光学素子の製造方法。
  12. 前記遮光膜を形成する工程と前記反射防止膜を形成する工程との間に、前記遮光膜の表面に保護膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項9乃至11いずれか1項記載の光学素子の製造方法。
  13. 光吸収材料、エポキシ樹脂、フェノール樹脂および硬化剤を少なくとも含むことを特徴とする遮光塗料。
  14. 前記硬化剤は、脂環式酸無水物であることを特徴とする請求項13記載の遮光塗料。
  15. 前記脂環式酸無水物は、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸またはヘキサヒドロ無水フタル酸を含むことを特徴とする請求項14記載の遮光塗料。
JP2011156786A 2011-07-15 2011-07-15 光学素子および光学素子の製造方法 Expired - Fee Related JP5839870B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011156786A JP5839870B2 (ja) 2011-07-15 2011-07-15 光学素子および光学素子の製造方法
EP12004771.7A EP2546682A3 (en) 2011-07-15 2012-06-26 Optical element, method for manufacturing the same, and light-shielding coating material for the same
US13/547,283 US20130016430A1 (en) 2011-07-15 2012-07-12 Optical element, method for manufacturing the same, and light-shielding coating material for the same
CN201210243151.0A CN102879839B (zh) 2011-07-15 2012-07-13 光学元件、该光学元件的制造方法和该光学元件用遮光涂料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011156786A JP5839870B2 (ja) 2011-07-15 2011-07-15 光学素子および光学素子の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013024922A JP2013024922A (ja) 2013-02-04
JP2013024922A5 true JP2013024922A5 (ja) 2014-09-11
JP5839870B2 JP5839870B2 (ja) 2016-01-06

Family

ID=46642306

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011156786A Expired - Fee Related JP5839870B2 (ja) 2011-07-15 2011-07-15 光学素子および光学素子の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20130016430A1 (ja)
EP (1) EP2546682A3 (ja)
JP (1) JP5839870B2 (ja)
CN (1) CN102879839B (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011145627A (ja) * 2010-01-18 2011-07-28 Canon Inc 光学素子
JP6317954B2 (ja) * 2013-10-15 2018-04-25 富士フイルム株式会社 レンズユニット、撮像モジュール、及び電子機器
CN104570168A (zh) * 2013-10-16 2015-04-29 玉晶光电(厦门)有限公司 镜片、镜头及镜片的制造方法
JP2015169874A (ja) * 2014-03-10 2015-09-28 キヤノン株式会社 光学素子および光学系、並びに光学素子の製造方法
WO2015136734A1 (ja) * 2014-03-14 2015-09-17 シャープ株式会社 光学素子及び表示装置
JP6258087B2 (ja) * 2014-03-17 2018-01-10 富士フイルム株式会社 レンズアッシー
JP6436681B2 (ja) 2014-08-08 2018-12-12 キヤノン株式会社 遮光塗料、遮光塗料セット、遮光膜、光学素子、遮光膜の製造方法、光学素子の製造方法、及び光学機器
EP3026469B1 (en) * 2014-11-27 2023-01-11 Canon Kabushiki Kaisha Optical element and method for producing optical element
JP6786248B2 (ja) * 2016-04-12 2020-11-18 キヤノン株式会社 光学素子およびその製造方法
JP6971587B2 (ja) * 2017-02-27 2021-11-24 キヤノン株式会社 光学素子及びその製造方法、光学機器
JP6878141B2 (ja) * 2017-05-25 2021-05-26 キヤノン株式会社 光学素子および光学機器
KR102287990B1 (ko) * 2019-12-19 2021-08-10 주식회사 세코닉스 내면 반사를 개선한 소형 카메라용 렌즈
TWI753795B (zh) 2021-02-09 2022-01-21 大立光電股份有限公司 成像鏡頭、相機模組與電子裝置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4332706A (en) * 1979-05-21 1982-06-01 Canon Kabushiki Kaisha Internal reflection suppressing coating material for optical glass
JPS59226069A (ja) * 1983-06-08 1984-12-19 Sumitomo Deyurezu Kk エポキシ樹脂粉体塗料組成物
JPH09202649A (ja) 1996-01-24 1997-08-05 Central Glass Co Ltd 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法
KR100317169B1 (ko) * 1998-10-28 2002-10-25 한국화학연구원 열과자외선개시형에폭시수지의잠재성경화제와그것을함유한에폭시수지조성물및에폭시경화물
TWI312800B (en) * 2002-09-05 2009-08-01 Daicel Chem Process for the preparation of an alicyclic diepoxy compound, a curable epoxy resin composition, an epoxy resin composition for encapsulating electronics parts, a stabilizer for electrically insulating oils, and an epoxy resin composition for casting
TWI330262B (en) * 2003-03-31 2010-09-11 Zeon Corp Protective film for polarizing plate
JP4182236B2 (ja) 2004-02-23 2008-11-19 キヤノン株式会社 光学部材および光学部材の製造方法
JP2005331938A (ja) * 2004-04-23 2005-12-02 Showa Denko Kk ブラックマトリックス用感光性組成物
JP2006053220A (ja) 2004-08-10 2006-02-23 Olympus Corp 反射防止部を有する部材、その成形型及び該成形型の製造方法
US7486442B2 (en) * 2004-09-30 2009-02-03 Industrial Technology Research Institute Polarizer protective film, polarizing plate, and visual display
JP4520418B2 (ja) 2005-02-18 2010-08-04 キヤノン株式会社 光学用透明部材及びそれを用いた光学系
JP2007108498A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Fujifilm Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置
WO2007069493A1 (ja) * 2005-12-12 2007-06-21 Kaneka Corporation 重合体粒子、及びその製造方法、並びに、その重合体粒子を含む樹脂組成物、及び成形体
JP2007271987A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Nippon Steel Chem Co Ltd ブラックレジスト用感光性樹脂組成物
JP2008144119A (ja) * 2006-12-13 2008-06-26 Nippon Shokubai Co Ltd 樹脂組成物、光学系装置用成型体、その製造方法及び用途
JP2008276059A (ja) * 2007-05-02 2008-11-13 Canon Inc 光学素子およびそれを有する光学系
CN101784917B (zh) * 2007-07-25 2014-04-02 株式会社日本触媒 光屏蔽膜
JP5517326B2 (ja) * 2008-06-27 2014-06-11 株式会社Adeka 一液型シアネート−エポキシ複合樹脂組成物
JP2010054827A (ja) * 2008-08-28 2010-03-11 Canon Inc 光学素子及び該光学素子の製造方法
JP2010269957A (ja) * 2009-05-20 2010-12-02 Canon Inc 光学素子およびそれを有する光学系
JP2011145627A (ja) * 2010-01-18 2011-07-28 Canon Inc 光学素子
US20130026648A1 (en) * 2010-01-20 2013-01-31 Takashi Hirano Film for forming semiconductor protection film, and semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013024922A5 (ja)
US9660217B2 (en) Light emitting element and method for maufacturing light emitting element
JP5839870B2 (ja) 光学素子および光学素子の製造方法
TW201307086A (zh) 顯示裝置及製造其之方法
TWI480572B (zh) A transparent conductive element, an input device, and a display device
JP2013218172A5 (ja)
JP2012253014A5 (ja) 発光装置および発光装置の作製方法
JP2009283970A5 (ja)
JP2010269957A5 (ja)
JP5876441B2 (ja) 画像表示装置
KR102102967B1 (ko) 플렉서블 디스플레이 장치 및 이를 제조하는 방법
WO2012165766A3 (ko) 저굴절 중공 복합체, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 코팅액
JP2016110132A5 (ja) 光学素子、光学素子の製造方法、光学機器、およびカメラ
JP2012226906A5 (ja)
US11123960B2 (en) Film mold and imprinting method
KR20120001997A (ko) 발광 소자
TW201300845A (zh) 透鏡裝置及其製造方法
RU2015125908A (ru) Способ обработки волоконно-пластмассового композита роторной лопасти, заготовка в виде составного композита и ультрафиолетовая лампа для затвердевания затвердевающего с помощью ультрафиолета матричного материала
JP2008166738A5 (ja)
KR101963003B1 (ko) 윈도우 필름용 조성물 및 이로부터 형성된 플렉시블 윈도우 필름
JP2015210416A (ja) 光学素子及びその製造方法
BR112016018273B1 (pt) Método para a formação de um polarizador, método para a formação de um artigo oftálmico polarizado e lente oftálmica polarizada moldada
JP2011090141A (ja) ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法
JP2017062371A (ja) 反射防止膜を有する光学部材及びその反射防止膜の製造方法
WO2016163390A1 (ja) 光学素子及び偏光板