JP2013022940A - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板からの反射による露光パターンへの影響を抑制し、吐出口パターンを安定的に形成できる、印字品位の優れた液体吐出ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】明細書中に定義される構造を有する液体吐出ヘッドの製造方法であり、1)エネルギー発生素子2が設けられた基板1上に工程6において溶解可能な樹脂からなる液体流路型4を形成する工程と、2)液体流路型4を工程4の露光波長に対する屈折率がnの感光性樹脂層5aで被覆する工程と、3)感光性樹脂層5aの上に工程4の露光波長に対する屈折率が√n−0.2以上√n+0.2以下の反射防止膜8を形成する工程と、4)感光性樹脂層5a及び反射防止膜8を露光及び現像して、吐出口7を形成する工程と、5)基板1に液体供給口9を形成する工程と、6)液体流路型4を溶解して液体供給口9から除去する工程とを含む液体吐出ヘッドの製造方法。
【選択図】図1

Description

本発明は、液体を吐出する液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
液体を吐出する液体吐出ヘッドを用いる例としては、インクを被記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録ヘッドが挙げられる。従来、インクジェット記録ヘッドを作製する方法としては、特許文献1に記載の方法がある。
次に、特許文献1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法を簡単に述べる。この方法では、まず、液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子として電気熱変換素子を含む基板上に、反射防止膜を形成する。その際、反射防止膜としてはSiNを用いることが好ましく、SiN膜はプラズマCVD、常温CVD等にて形成することができる。さらに、SiN膜の波長633nmにおける屈折率nを2.05<nの範囲にすることが好ましい。波長633nmにおける屈折率nが前記範囲にあるSiN膜は、i線露光によるインク吐出口形成時に下地からの反射光をより低減することができるため、インク吐出口の変形を抑制できる。
次いで、反射防止膜上に溶解可能な樹脂をパターニングし、液体流路を形成するための型となる液体流路型を形成する。次いで、この液体流路型をマスクとして反射防止膜をドライエッチングし、液体流路型の下のみに反射防止膜を形成する。
次いで、液体流路型上に感光性樹脂層を形成し、フォトリソグラフィーにてインク吐出口を形成する。このとき、露光の際に起きる基板からの反射を反射防止膜で抑制することで吐出口を精度良くパターニングできる。最後に、溶剤によって液体流路型を溶出し、インクジェット記録ヘッドを作製する。
特許文献1は、露光の反射光がレジストパターンに与える影響をレジストの下地(基板上)に反射防止膜を形成することで抑えている。レジストパターンに与える影響としては、基板で乱反射した光がパターンに影響するハレーションやノッチング、基板からの反射光と露光機からの照射光とが互いに干渉を起こす定在波効果が知られている。
特開2009−178906号公報
しかしながら、特許文献1のように、液体流路の下部のみに反射防止膜を形成するだけでは、液体流路の幅が狭い高密度配列等の、発泡室壁と吐出口との距離が短い構造の記録ヘッドにおいては、基板からの反射防止が不十分な場合があった。また、液体流路型をエッチングマスクとして用いるので液体流路高さがエッチングによってばらつくことがあった。
そこで、本発明は、基板からの反射による露光パターンへの影響を抑制し、吐出口パターンを安定的に形成できる、印字品位の優れた液体吐出ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
即ち、本発明は、液体を吐出する吐出口、および前記吐出口に連通する液体流路を有するオリフィスプレートと、
前記液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子、および前記液体流路に連通する液体供給口を有する基板と、を少なくとも含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
(1)前記エネルギー発生素子が設けられた基板上に、工程6において溶解可能な樹脂からなる液体流路型を形成する工程と、
(2)前記液体流路型を、工程4の露光波長に対する屈折率がnの感光性樹脂層で被覆する工程と、
(3)前記感光性樹脂層の上に、工程4の露光波長に対する屈折率が√n−0.2以上√n+0.2以下の反射防止膜を形成する工程と、
(4)前記感光性樹脂層および前記反射防止膜を露光および現像して、吐出口を形成する工程と、
(5)前記基板に液体供給口を形成する工程と、
(6)前記液体流路型を溶解して前記液体供給口から除去する工程と、
を含む。
また、本発明は、液体を吐出する吐出口、および前記吐出口に連通する液体流路を有するオリフィスプレートと、
前記液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子、および前記液体流路に連通する液体供給口を有する基板と、を少なくとも含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
(i)前記エネルギー発生素子が設けられた基板上に、液体流路壁を形成する工程と、
(ii)前記液体流路壁の上に、工程ivの露光波長に対する屈折率がn’の感光性樹脂層を形成し、液体流路を形成する工程と、
(iii)前記感光性樹脂層の上に、工程ivの露光波長に対する屈折率が√n’−0.2以上√n’+0.2以下の反射防止膜を形成する工程と、
(iv)前記感光性樹脂層および前記反射防止膜を露光および現像して、吐出口を形成する工程と、
(v)前記基板に液体供給口を形成する工程と、
を含む。
以上の構成によれば、基板からの反射による露光パターンへの影響を抑制し、吐出口パターンを安定的に形成できる、印字品位の優れた液体吐出ヘッドの製造方法を提供できる。
本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の一実施形態を説明するための概略工程図である。 本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の他の実施形態を説明するための概略工程図である。 本発明より得られる液体吐出ヘッドの例を示す模式的斜視図である。 反射光によるレジスト内の多重干渉現象を説明するための概略断面図である。 本発明と従来の方法での反射光の状態を説明するための概略断面図である。 反射防止膜の屈折率と反射率係数との関係を示すグラフである。
本発明は、感光性樹脂層の上に、この感光性樹脂層に対して特定の屈折率を有する反射防止膜を設けることで、上記課題を解決することができる。なお、本発明より得られる液体吐出ヘッドは、インクを被記録媒体に吐出して記録を行うインクジェット記録ヘッドや、バイオチップ作製や電子回路印刷用途の液体吐出ヘッドとして使用することができる。以下に、本発明の好適な実施形態について図面を参照して説明する。
なお、以下の説明では、同一の機能を有する構成には図面中同一の番号を付与し、その説明を省略する場合がある。
図3は、本発明より得られる液体吐出ヘッドの一例の模式的斜視図である。この液体吐出ヘッドは、オリフィスプレート22と、基板21とを少なくとも含む。また、図1(H)や図2(F)に示すように、このオリフィスプレート22は、液体を吐出する吐出口7、および吐出口7に連通する液体流路3を有する。また、基板21は、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子2、および液体流路に連通する液体供給口9を有する。さらに、この液体吐出ヘッドは、エネルギー発生素子2の紙面上方に、吐出口7が形成されている。
図1では、感光性樹脂層5a(流路形成部材)および反射防止膜8を用いてオリフィスプレート22を形成しており、図2では、液体流路壁13、感光性樹脂層5bおよび反射防止膜8を用いてオリフィスプレート22を形成している。具体的に、図1では、一体化させた層5aと膜8とを露光および現像して吐出口を形成し、基板1と、層5aとによって吐出口に連通する液体流路を形成している。図2では、一体化させた層5bと膜8とを露光および現像して吐出口を形成し、基板1、壁13および層5bによって液体流路を形成している。
なお、図1及び図2は、図3のA−A’に沿って液体吐出ヘッドを切断した際の断面を用いて本発明の製造方法の各工程を説明した図である。
以下に、図1及び図2を用いて、本発明の液体吐出ヘッドの製造方法の実施形態における各工程を詳しく説明する。
(実施形態1)
・工程1
まず、図1(A)に示すように、エネルギー発生素子が設けられた基板上に、液体流路の型となり、後述する工程6において溶解可能な樹脂からなる液体流路型を形成する。具体的には、例えば、エネルギー発生素子2が設けられた基板1上に、溶解可能な樹脂を堆積し、この溶解可能な樹脂をパターニングすることで、液体流路を形成するための型となる液体流路型4を形成することができる。
基板としては、例えば結晶軸(100)のSiウエハを用いることができる。
エネルギー発生素子としては、例えば電気熱変換素子や圧電素子を用いることができる。例えば、電気熱変換素子を用いる場合は、この素子が近傍の液体(例えば、インク)を加熱することにより、液体に状態変化を起こさせ吐出エネルギーを発生させることができる。溶解可能な樹脂は、工程6において溶解し、液体供給口から除去できる樹脂であれば必要に応じて選択することができるが、エネルギー発生素子2との位置関係を精度良くパターニングする観点から、感光性樹脂を用いることが望ましい。溶解可能な樹脂としては、例えばポリメチルイソプロペニルケトン(PMIPK)(ポジ型感光性樹脂)を使用できる。なお、PMIPKは、工程6において、例えば、溶剤(酢酸メチル)を用いて溶解させることができる。
溶解可能な樹脂を基板上に堆積する方法としては、例えば、適宜選択した溶剤にこれらの樹脂を溶解し、スピンコート法などで被膜を形成する方法がある。例えば樹脂として、PMIPKを用いた場合、溶剤としては、シクロヘキサノンを用いることができる。
なお、液体流路型は基板表面に直接形成しても良く、基板と液体流路型との間に他の層(例えば、密着層や平坦化層)を設けても良い。
・工程2
次いで、図1(B)に示すように、液体流路型4を、工程4の露光波長に対する屈折率がnの感光性樹脂層5aで被覆する。なお、この屈折率nは、工程2より得られる露光前の感光性樹脂層5aの屈折率である。一般的によく用いられる感光性樹脂の工程4における露光波長に対する屈折率nは、1.5以上1.7以下である。
感光性樹脂層5aは、感光性樹脂材料を含む溶液を、例えばスピンコート法で液体流路型4上に塗布することにより形成することができる。なお、感光性樹脂層5aは、液体流路型4に直接形成しても良いし、層5aと型4との間に他の層(例えば、相溶防止層やスカム防止層)を設けても良い。
感光性樹脂層5aとしては、液体流路壁を構成する材料として高い機械的強度や、基板との密着性、耐溶剤性が望まれる。また、吐出口7とエネルギー発生素子2との位置関係を精度良くパターニングするために、フォトリソグラフィーにて形成できる感光性の樹脂を用いることが望ましい。さらに、液体流路型4を被覆することから、感光性樹脂層5aは、それ相応の厚さでコーティングすることが望ましい。具体的には、層5aの基板表面からの厚さ(図1(B)では、基板1と、反射防止膜8との間の距離に対応)は、吐出の観点から20μm以上とすることが好ましく、100μm以下とすることが好ましい。なお、液体流路型4の厚み及び後述する液体流路壁13の厚みはいずれも、リフィルの観点から5μm以上、吐出効率の観点から20μm以下とすることが好ましい。
また、感光性樹脂層5aの層厚は、吐出口7とエネルギー発生素子2との距離を決定する重要な因子であるため、精度良く形成可能である材料を用いて層5aを形成することが望ましい。これらの観点から、感光性樹脂層5aは、感光性樹脂層形成用材料としてエポキシ樹脂を用いることが好ましい。エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型のエポキシ樹脂を挙げることができる。
また、エポキシ樹脂に光カチオン重合開始剤を添加した材料を感光性樹脂層形成用材料として用いることが好ましい。この材料を用いて感光性樹脂層5aを形成し、工程4においてこの層5aを露光することにより得られるエポキシ樹脂のカチオン重合硬化物は、優れた強度、密着性、耐溶剤性を有し、かつ優れたパターニング特性を有する。
また、感光性樹脂層5aの樹脂材料を溶かす溶媒は、上記溶解可能な樹脂からなる液体流路型4を変形させない等の特性が望まれる。すなわち、感光性樹脂層5aの樹脂材料を溶剤に溶解し、これをスピンコートなどで液体流路型4上に塗布形成する場合、感光性樹脂材料を溶かす溶剤は、液体流路型4を溶解しない溶剤から選択することが望まれる。例えば、層5aの感光性樹脂材料としてエポキシ樹脂を用いた場合、この樹脂材料を溶かす溶媒としては、キシレンとメチルイソブチルケトンの混合液を用いることができる。
・工程3
さらに、感光性樹脂層5aの上に、工程4の露光波長に対する屈折率が√n−0.2以上√n+0.2以下の反射防止膜8を、例えば、カーテンコート法で形成する。なお、この屈折率は、工程3より得られる露光前の反射防止膜8の屈折率である。屈折率nの感光性樹脂層5aに対して、反射防止膜8の屈折率を√n±0.2の範囲内とすることで、反射防止膜における反射率係数を小さくすることができ、多重干渉を弱めることができる。なお、例えば、工程4の露光波長が365nmの場合、層5aおよび膜8の屈折率は、波長365nmに対する屈折率を意味する。層5aおよび膜8の屈折率は、分光エリプソメトリーにより特定することができる。
上述したように、感光性樹脂層5aの工程4における露光波長に対する屈折率は通常1.5以上1.7以下であるため、工程4の露光波長に対する屈折率が1.1以上1.4以下の反射防止膜を用いれば本発明の効果を得ることができる。なお、この際、実用性を考慮して、反射防止膜の屈折率を例えば1.2以上1.4以下とすることができる。
反射防止膜は、感光性樹脂層5aの表面、より具体的には感光性樹脂層5aの工程4において露光する面全体を覆うように形成することができる。
また、カーテンコート法を用いて膜8を形成する際、膜8の材料を溶解する溶媒は、膜8の材料と層5aに影響を与えない溶媒から選択することが望まれる。なお、膜8の材料としては、例えば、パーフルオロアルキルアクリレート等のパーフルオロアルキル化合物を用いることができる。また、溶媒としては、例えば、キシレンを用いることができる。
・工程4および型版プレス工程
次いで、感光性樹脂層5aおよび反射防止膜8を露光および現像して吐出口を形成する(工程4)。具体的には、図1(C)のように、マスク10を介してパターン露光を行うことにより、感光性樹脂層5a及び反射防止膜8に吐出口7となる潜像11を形成する。なお、図1では、層5aと膜8にネガ型レジスト(例えば、化薬マイクロケム社の商品名:SU−8や東京応化工業社の商品名:TMMR)を用いた場合のマスク10が記載されており、未露光部に潜像11が形成されている。
以下に、露光の反射光がレジストパターンに与える影響について説明する。
図4(A)に示すように、従来、基板1からの反射光がレジスト6と空気との界面で再び反射してレジスト内に向かう反射光が、新たに露光機から照射される光と互いに干渉し合う多重干渉効果が起こり、レジストパターンが安定的に形成されない場合があった。
一方、本発明では、図4(B)に示すようにレジスト6(感光性樹脂層に対応)の表面に、レジストに対して特定の屈折率を有する反射防止膜8を形成するため、レジスト内に向かう反射光を低減させ、多重干渉を弱めることができる。
具体的に、感光性樹脂層の露光波長365nmに対する屈折率nが1.54の場合を例に説明する。図6は、図4(B)に示すレジスト6(屈折率n:1.54)及び反射防止膜8を有する基板1において、反射防止膜の露光波長365nmに対する屈折率と、反射率係数との関係とを示すグラフである。なお、反射率係数は、反射率に比例した係数である。図6に示すように、レジスト6、即ち感光性樹脂層の屈折率nが1.54の場合、反射防止膜の屈折率を1.04(√n−0.2に対応)〜1.44(√n+0.2に対応)の範囲内にすることで、反射防止膜における反射率係数を小さくすることができ、多重干渉を弱めることができる。
なお、本発明では撥水性の観点から、工程4の露光後の潜像状態時に、感光性樹脂層5aおよび反射防止膜8を、凹凸構造を有する型版でプレスする工程を含むことが好ましい。具体的には、図1(D)のように、凹凸構造を有する型版(モールド)12を反射防止膜8と感光性樹脂層にプレスする。また、凹凸構造は撥水性を得るための微小な段差で構成されていることが好ましい。具体的には、モールド12は、50nm以上500nm以下の幅を有する柱状突起を少なくとも5個/μm2以上の密度で配列した型板であることが好ましい。なお、この柱状突起としては、例えば円柱や四角柱形状の突起を用いることができる。また、感光性樹脂層の潜像の一部を表面に露出させ、容易に現像を行うためにも、柱状突起の高さ(基板1に垂直な方向の柱状突起の厚み)が、反射防止膜の厚みよりも大きいことが好ましい。
次いで、図1(E)のように、感光性樹脂層および反射防止膜8からモールドを離型する。このとき、離型しやすいように事前にモールドの凹凸面にフッ素処理を行うと良い。
次いで、図1(F)のように、感光性樹脂層5aおよび反射防止膜8の未露光部(潜像11)を、例えば現像液に浸すことで現像し、吐出口7を形成することができる。現像液としては、例えばキシレンを用いることができる。
・工程5
次いで、図1(G)に示すように、液体供給のための開口部である液体供給口9を基板1に、例えば、ドライエッチングやウエットエッチングなどの異方性エッチングにより形成する。シリコン基板のエッチング液としては例えば水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)を用いることができる。
・工程6
最後に、図1(H)に示すように、溶剤によって溶解可能な液体流路型4を溶解して、液体供給口9から除去、即ち溶出させる。溶出は、溶剤に浸漬したり、溶剤をスプレーにて拭きつけたりすることによって容易に行うことができる。また、超音波等を併用すれば、さらに溶出時間を短縮できる。また、溶解可能な樹脂の種類によっては光を照射させるとより溶解されやすくなる。また、液体流路型4を溶出した後、感光性樹脂層5aを液体流路壁の構造材料としてプリンタの使用環境に容易に耐えうるため、更に光又は熱で硬化させることができる。
以上より、液体流路3および吐出口7を有するオリフィスプレート22と、インク供給口9および素子2を有する基板21とからなるインクジェット記録ヘッドを得ることができる。このようにして形成されたインクジェット記録ヘッドに対して、さらに、インク供給のためのインク供給部材の取り付けや、電気熱変換素子2を駆動するための電気配線部材の電気的接合(図示せず)を行うことができる。
(実施形態2)
本発明の実施形態2では、実施形態1と異なり液体流路型4を用いずに、基板1、液体流路壁13及び感光性樹脂層5bによって液体流路3を作製する。以下、詳しく説明する。
・工程i
まず、図2(A)に示すように、エネルギー発生素子2が設けられた基板上に、液体流路壁13を形成する。具体的には、例えば、エネルギー発生素子2を含むシリコン製の基板1上に、液体流路壁となる樹脂を堆積し、パターニングすることで、液体流路壁13を形成することができる。液体流路壁に用いる樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂を挙げることができる。なお、感光性樹脂層5bと液体流路壁13とは異なる材料を用いても良いし、同一材料を用いても良い。
・工程ii
次いで、図2(B)に示すように、液体流路壁の上に、工程ivの露光波長に対する屈折率がn’の感光性樹脂層5bを例えばラミネート法にて形成し、液体流路3を形成する。一般的な感光性樹脂5の屈折率は1.5以上1.7以下の範囲であることが多い。感光性樹脂層5bの材料としては、例えば東京応化工業社製TMMF(商品名)のドライフィルムを挙げることができる。
なお、感光性樹脂層5bは、液体流路壁13に直接形成しても良いし、層5bと、壁13との間に他の層(例えば、密着層や平坦化層)を設けても良い。また、感光性樹脂層5bをラミネートする際にテント性を良くする観点から、実施形態1で用いる溶解可能な樹脂を、液体流路3部分に埋め込んでも良い。埋め込み方法としては、例えば、工程iiの前に、液体流路壁13を被覆するように溶解可能な樹脂をスピンコート法などで形成してから、図2(B)において感光性樹脂層5bと接触する液体流路壁13の表面が現れるまで研磨する方法がある。
吐出の観点から、液体流路壁13及び感光性樹脂層5bの合計の厚みは、20μm以上、100μm以下とすることが好ましい。
以降、工程iii〜vは、上述した工程3〜5と同様に行うことができる。その際、反射防止膜の屈折率は、工程ivの露光波長に対して√n’−0.2以上√n’+0.2以下とする。これにより、反射防止膜における反射率係数を小さくすることができ、多重干渉を弱めることができる。また、工程ivは、工程4と同様に、撥水性の観点から露光後の潜像状態時に、上述した型版プレス工程を含むことが好ましい。
なお、上述した2つの実施形態において、基板からの反射による露光パターンへの影響を抑制する観点から、感光性樹脂層の屈折率と、反射防止膜の屈折率とは、吐出口を形成する際の露光波長に対する、露光前の屈折率とする。
なお、反射防止膜は、屈折率の観点から、パーフルオロアルキル化合物を含むことが好ましく、さらに、所望の屈折率を容易に得るために反射防止膜8に別種のフッ素化合物からなる調整剤を添加しても良い。その際、反射防止膜中のパーフルオロアルキル化合物の含有量は所望の屈折率に応じて適宜調整することができ、反射防止膜はパーフルオロアルキル化合物からなることもできる。パーフルオロアルキル化合物としては、例えば、パーフルオロアルキルアクリレートやパーフルオロアルキルメタクリレートを挙げることができ、調整剤としてのフッ素化合物は、例えば、パーフルオロポリエーテルを挙げることができる。
本発明の液体吐出ヘッドの製造方法により、基板からの反射を上層部(反射防止膜)で抑制することで吐出口形成工程において安定した液体吐出ヘッドを作製することができる。また、オリフィスプレート表面に微小な凹凸構造を設けることで所望の撥水性を容易に得ることができる。
(実施例1)
図1に従ってインクジェット記録ヘッドを作製した。
まず、溶解可能な樹脂であるPMIPKを溶剤(シクロヘキサノン)に溶解させた溶液をエネルギー発生素子2として発熱抵抗体が設けられたシリコン製の基板1上にスピンコート法で塗布し、樹脂膜を形成した。そして、この樹脂膜をパターニングして、図1(A)に示すように液体流路型4を形成した(工程1)。
次いで、工程4において吐出口を形成する際の露光波長365nmに対する屈折率が1.54のエポキシ樹脂を溶剤(キシレン)に溶解させた溶液を、液体流路型4上にスピンコート法で塗布し、感光性樹脂層5aを形成した(工程2)。なお、感光性樹脂層5aの厚み(基板1と層8との間の距離に対応)は25μmであった。
さらに、図1(B)に示すように、波長365nmに対する屈折率が1.34のパーフルオロアルキルアクリレートを溶剤(キシレン)に溶解させた溶液を、感光性樹脂層5a上にカーテンコート法で塗布し、反射防止膜8を形成した(工程3)。なお、反射防止膜の厚さは0.83μmとした。
次いで、図1(C)のように、マスク10を介してパターン露光(露光波長:365nm)を行うことにより、感光性樹脂層5a及び反射防止膜8に未露光部が吐出口7となる潜像11を形成した。
次に、図1(D)のように、凹凸構造を有するモールド12として、高さ1μm、200nm角のドットパターンを縦横に200nmピッチに配列したナノインプリント用モールドを反射防止膜8と感光性樹脂層5aにプレスした(型版プレス工程)。なお、離型しやすいようにモールドの凹凸面には、予めフッ素処理を行っておいた。そして、図1(E)のように、層5aおよび膜8からモールドを離型し、膜8の表面にモールド12の凹凸面が転写された基板が得られた。
次いで、図1(F)のように、感光性樹脂層5a及び反射防止膜8の未露光部を現像液であるキシレンとメチルイソブチルケトンの混合液に浸すことで吐出口7を形成した(工程4)。
さらに、図1(G)に示すように、エッチング液としてTMAHを用いた異方性エッチングにより、基板1にインク供給口9を形成した(工程5)。
最後に、図1(H)に示すように、溶剤(酢酸メチル)によって溶解可能な液体流路型4をインク供給口9から溶出させ、液体流路3を形成した(工程6)。以上より、液体流路3および吐出口7を有するオリフィスプレート22と、インク供給口9および素子2を有する基板21とからなるインクジェット記録ヘッドを得た。
(実施例2)
図2に従ってインクジェット記録ヘッドを作製した。
まず、図2(A)に示すように、エネルギー発生素子2として発熱抵抗体が設けられたシリコン製の基板1上に、液体流路壁となる樹脂であるPMIPKを堆積し、パターニングすることで、液体流路壁13を形成した(工程i)。なお、液体流路壁13の厚みは、14μmであった。
次いで、図2(B)に示すように、エポキシ樹脂からなる感光性樹脂層5bをラミネート法にて形成し(工程ii)、さらに、パーフルオロアルキル化合物からなる反射防止膜8をカーテンコート法で形成した(工程iii)。なお、工程ivにおいて吐出口を形成する際の露光波長365nmに対する感光性樹脂層5bの屈折率は、1.54であり、反射防止膜8の屈折率は、1.34であった。また、感光性樹脂層5bの厚みは、25μmであり、反射防止膜の厚みは、0.83μmであった。
次いで、図2(C)のように、マスク10を介してパターン露光(露光波長:365nm)を行うことにより、感光性樹脂層5b及び反射防止膜8に未露光部が吐出口7となる潜像11を形成した。次いで、図2(D)のように、実施例1で用いたのと同じモールド12を反射防止膜8と感光性樹脂層5bにプレスした(型版プレス工程)。そして、図2(E)のように、感光性樹脂層5b及び反射防止膜8の未露光部を現像液であるキシレンとメチルイソブチルケトンの混合液に浸すことで吐出口7を形成した(工程iv)。
最後に、図2(F)に示すように、液体供給のための開口部であるインク供給口9を基板1に、エッチング液としてTMAHを用いた異方性エッチングにより形成した(工程v)。以上より、オリフィスプレート22と、基板21とからなるインクジェット記録ヘッドを得た。
(実施例3及び4)
反射防止膜の波長365nmに対する屈折率を1.40に変更した以外は、実施例1及び2とそれぞれ同様にしてインクジェット記録ヘッドを作製した。
実施例1〜4では、図5(A)に示すように、基板からの反射光による影響を抑制することができ、良好な吐出口パターンを得ることができた。
(比較例1及び2)
反射防止膜8の波長365nmに対する屈折率を1.49に変更した以外は、実施例1及び2とそれぞれ同様にしてインクジェット記録ヘッドを作製した。比較例1及び2では、図5(B)に示すように、基板からの反射光による吐出口パターンへの影響が見られた。
図6に示すように、実施例1〜4は、比較例1及び2と比較して反射防止膜における反射率係数が小さくなるため、感光性樹脂層5a内の全体的な反射率が低減し、吐出口7となる潜像11は図5(A)に示すような良好なパターンが得られた。
1 基板
2 エネルギー発生素子
3 液体流路
4 液体流路型
5a、5b 感光性樹脂層
7 吐出口
8 反射防止膜
9 液体供給口
13 液体流路壁
21 エネルギー発生素子及び液体供給口を有する基板
22 オリフィスプレート

Claims (10)

  1. 液体を吐出する吐出口、および前記吐出口に連通する液体流路を有するオリフィスプレートと、
    前記液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子、および前記液体流路に連通する液体供給口を有する基板と、を少なくとも含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
    (1)前記エネルギー発生素子が設けられた基板上に、工程6において溶解可能な樹脂からなる液体流路型を形成する工程と、
    (2)前記液体流路型を、工程4の露光波長に対する屈折率がnの感光性樹脂層で被覆する工程と、
    (3)前記感光性樹脂層の上に、工程4の露光波長に対する屈折率が√n−0.2以上√n+0.2以下の反射防止膜を形成する工程と、
    (4)前記感光性樹脂層および前記反射防止膜を露光および現像して、吐出口を形成する工程と、
    (5)前記基板に液体供給口を形成する工程と、
    (6)前記液体流路型を溶解して前記液体供給口から除去する工程と、
    を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
  2. 前記反射防止膜が、パーフルオロアルキル化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  3. 工程4が、前記反射防止膜および前記感光性樹脂層を、露光後の潜像状態時に凹凸構造を有する型版でプレスする工程を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  4. 前記凹凸構造を有する型版が、50nm以上500nm以下の幅を有する柱状突起を少なくとも5個/μm2以上の密度で配列した型版であることを特徴とする請求項3に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  5. 前記柱状突起の高さが、前記反射防止膜の厚みよりも大きいことを特徴とする請求項4に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  6. 液体を吐出する吐出口、および前記吐出口に連通する液体流路を有するオリフィスプレートと、
    前記液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子、および前記液体流路に連通する液体供給口を有する基板と、を少なくとも含む液体吐出ヘッドの製造方法であって、
    (i)前記エネルギー発生素子が設けられた基板上に、液体流路壁を形成する工程と、
    (ii)前記液体流路壁の上に、工程ivの露光波長に対する屈折率がn’の感光性樹脂層を形成し、液体流路を形成する工程と、
    (iii)前記感光性樹脂層の上に、工程ivの露光波長に対する屈折率が√n’−0.2以上√n’+0.2以下の反射防止膜を形成する工程と、
    (iv)前記感光性樹脂層および前記反射防止膜を露光および現像して、吐出口を形成する工程と、
    (v)前記基板に液体供給口を形成する工程と、
    を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
  7. 前記反射防止膜が、パーフルオロアルキル化合物を含むことを特徴とする請求項6に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  8. 工程ivが、前記反射防止膜および前記感光性樹脂層を、露光後の潜像状態時に凹凸構造を有する型版でプレスする工程を含むことを特徴とする請求項6または7に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  9. 前記凹凸構造を有する型版が、50nm以上500nm以下の幅を有する柱状突起を少なくとも5個/μm2以上の密度で配列した型版であることを特徴とする請求項8に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  10. 前記柱状突起の高さが、前記反射防止膜の厚みよりも大きいことを特徴とする請求項9に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
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