JP2013012761A - プラズマエッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマエッチング装置は、減圧可能なチャンバー1、チャンバーの内部の下側に設けられ被処理物2を保持する載置部3、チャンバー1の上部開口に臨むように配置され、交流電力が印加されてチャンバー1内の反応ガスを誘導結合によりプラズマ化し、載置部3に保持された被処理物2をエッチングするためのコイル4a,4bを備える。コイル4a,4bは、周辺部側環状域が高密度分布領域である第1のコイル系4aと、中央部側環状領域が高密度分布領域である第2のコイル系4bとを備える。
【選択図】図12
Description
図1から図2Bは、本発明の第1参考例にかかるプラズマエッチング装置を示す。このプラズマエッチング装置は、減圧可能で供給口1aから反応ガス10を供給して排気ガス20を排気口1bから排気するチャンバー1と、このチャンバー1の内部の下側に設けられ、載置した被処理物2を静電吸着あるいはクランプ(図示せず)等により保持する載置部3と、チャンバー1の上部開口を封止する隔壁をなす耐圧誘電体部材5とを備える。また、このプラズマエッチング装置は、耐圧誘電体部材5の上部に載置部3に対向するように設けられ、チャンバー1内の反応ガス10を誘導結合によりプラズマ6化して、載置部3に保持された被処理物2に働かせエッチング等のプラズマ処理を行わせる誘導結合用のコイル4を備える。さらに、このプラズマエッチング装置は、耐圧誘電体部材5とコイル4との間に設けられて、容量結合作用にて、プラズマ発生に伴うチャンバー1の上部開口を封止する耐圧誘電体部材5の内表面5aに反応生成物が付着するのを防止及び/あるいは除去する、容量結合用の電極7を備える。
図12は、本発明の実施形態にかかるプラズマエッチング装置を示す。
2 被処理物
3 載置部、下部電極
4 コイル(誘導結合用)
5 耐圧誘電体部材
5b 厚肉部
5c、5c1〜5c6 凹部
6 プラズマ
7 電極(容量結合用)
7a 高周波透過部
100 中央支持軸
Claims (13)
- 減圧可能なチャンバーと、
前記チャンバーの内部の下側に設けられ被処理物を保持する載置部と、
前記チャンバーの上部開口に臨むように配置され、交流電力が印加されてチャンバー内の反応ガスを誘導結合によりプラズマ化し、前記載置部に保持された前記被処理物をエッチングするためのコイルと、
前記コイルの下方に位置する誘電体部材と
を備え、
前記コイルは、周辺部側環状域、あるいは周辺部側環状域及びその内側の1つまたは複数の環状域が高密度分布域となるように設けているプラズマエッチング装置。 - 前記コイルは、周辺部側環状域が前記高密度分布領域である第1のコイル系と、中央部側環状領域が前記高密度分布領域である第2のコイル系とを備える、請求項1に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系は、別個の平板電極を個別に巻回してなる、請求項2に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系の前記高密度分布領域と前記第2のコイル系の前記高密度分布領域が同一平面上に配置されている、請求項2又は請求項3に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2コイル系はいずれも、中央部から周辺部に向けて斜め下向きに巻き広がらせた構造を有する、請求項3又は請求項4に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系の両方を支持する共通の中央支持軸をさらに備える、請求項3から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系は前記中央支持軸の異なる高さ位置から巻き拡げられ、前記第1のコイル系の下側に前記第2のコイル系が配置されている、請求項6に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系との間に介在された接地されたシールドをさらに備える、請求項2から請求項7のいずれか1項に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記チャンバーは円筒状である、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系は別個の電源から交流電力が印加される、請求項2から請求項9のいずれか1項に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系は共通の電源からスプリッタを介して交流電力が印加される、請求項2から請求項9のいずれか1項に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系と前記第2のコイル系は共通の電源から交流電力が印加される、請求項2から請求項9のいずれか1項に記載のプラズマエッチング装置。
- 前記第1のコイル系は中央部から周辺部に向けて斜め下向きに巻き広がらせてなり、前記第2のコイル系は平面構造となるように巻回されている、請求項3に記載のプラズマエッチング装置。
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