JP5670245B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
請求項3に記載の発明によれば、誘電体窓に形成される突条を3本とすることで、誘電体窓の強度を確保しつつ、誘電体窓に形成される突部を極力少なくして誘電体窓に生成される電場を阻害しないようにすることができる。このため、処理室へ伝播される電磁波の損失を抑制することができる。
また、誘電体窓12は、補強部40と窓部41とが一体に形成されていることから、図1のように補強部40が形成された側面12aを処理室50側に配置しても使用可能であるし、平面状の側面12bを処理室50側に配置しても使用可能である。尚、補強部40が形成された側面12aを処理室50側に向ける場合には、カバー固定部42b、44bに各カバーGをそれぞれ固定するが、平面状の側面12bを処理室50側へ向ける場合には、その側面12bと同じ外形を有するカバーガラス(図示略)を側面12bと平行に取り付ける。
(1)上記実施形態では、NLDエッチング装置に用いられる誘電体窓12を、高周波電力を処理室50に導入する窓部41と、窓部41よりも厚い補強部40とを一体とした構成とした。このため、窓部41を補強する部材を別部材として設けることなく、誘電体窓12の側面12a,12bに直交する方向における外力に対する剛性を向上し、窓部41を薄くすることができる。従って、窓部41を補強する部材を別部材として設ける場合のように、電磁波の伝播がその部材によって遮断されないので、従来構造の平板状の誘電体窓と比較して、プラズマの均一性が低下しない。このため、プラズマの均一性低下を抑制しつつ、厚さの小さい窓部41を介して高周波電力を導入することができるので、高密度なプラズマを生成することができる。
・誘電体窓12は、図6に示すように、その外周部に、環状シール部材52を圧入するための溝部53を備えるようにしてもよい。この場合には、溝部53に環状シール部材52を圧入した状態で、誘電体窓12が真空槽11の上部開口に固定される。この場合には、カバーGは窓部41の下方から取り付けられる。尚、この場合には、誘電体窓12の両側面を使用可能とはならない。
・上記実施形態では、突条42を3本としたが、突条42の幅を小さく形成できる場合には、3本以上の奇数本でもよい。
Claims (6)
- 基板を収容する処理室を有する真空槽と、
電磁波を前記処理室へ出力する電磁波源と、
前記電磁波源と前記処理室との間に介在し、前記電磁波の導入口となる板状の誘電体窓とを備えたプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓には、前記電磁波を前記処理室に導入する窓部と、前記処理室側の面において、前記窓部よりも前記処理室に向けて突出する部分を含む補強部であって、厚みが前記突出する部分の分だけ前記窓部の厚みよりも厚い前記補強部とが一体に形成され、
前記補強部の前記突出する部分に、前記窓部を覆うカバーを取り付けるためのカバー固定部が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記電磁波源は、誘導コイルを有し、
前記誘電体窓は、複数の前記窓部を有し、
前記誘電体窓の前記補強部は、前記誘電体窓の中央に形成された突部と、前記突部から前記誘電体窓の外周に向かって延びる突条とを有する請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記誘電体窓は、3本の前記突条を備える請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体窓は、前記補強部が形成された第1の側面と、前記第1の側面と平行な平面状の第2の側面とを有し、前記第2の側面を前記処理室内に向けて配置することが可能である請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記カバー固定部がスリット状に形成されている請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記補強部のうち、前記窓部の側面と平行な面以外の側面はテーパ状に形成されている請求項1〜5のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
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