JP2013010656A - 単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 - Google Patents
単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013010656A JP2013010656A JP2011143570A JP2011143570A JP2013010656A JP 2013010656 A JP2013010656 A JP 2013010656A JP 2011143570 A JP2011143570 A JP 2011143570A JP 2011143570 A JP2011143570 A JP 2011143570A JP 2013010656 A JP2013010656 A JP 2013010656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lithium niobate
- single crystal
- polarized
- crucible
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
【解決手段】垂直ブリッジマン法により単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶を製造する方法であって、育成炉10の内部空間11aにルツボ22を配置し、ルツボ22内に、ニオブ酸リチウムの単一分極化済みの種結晶a、及び原料bを収容し、育成炉10の温度制御により、育成炉10内にニオブ酸リチウムの融点以上となる高温部と該高温部よりも下方へ向かって徐々に温度が低くなり前記融点以下となる温度勾配部を形成し、前記高温部から前記温度勾配部へ向かってルツボ22を所定の速度で下降することで、原料bに対しルツボ外から電界を加えることなく、原料bを単結晶化するとともに単一分極化するようにした。
【選択図】図1
Description
従来の製造方法では、引上げ単結晶育成法(チョクラルスキー法)によりニオブ酸リチウム単結晶を製造し、このニオブ酸リチウム単結晶に単一分極化処理を施している。
すなわち、先ず、引上げ単結晶育成法では、ニオブ酸リチウムの原料融液に種結晶を一旦浸漬した後、これを回転させながら引き上げ、原料融液中から種結晶後端に種結晶と同じ結晶性の結晶を析出成長させて、単結晶を製造する(特許文献1参照)。
次の単一分極化処理では、前記のようにして育成したニオブ酸リチウム単結晶をキュリー温度(1140℃)よりも高い温度まで加熱し、この加熱された単結晶に電界を加え(1.5V/cm程度)、電界を加えたままの前記単結晶をキュリー温度よりも低い温度まで冷却する(特許文献2参照)。
本発明によれば、結晶成長過程及び結晶成長後に電界を加える必要がないため、従来用いていた電界を加えるための装置及び工程等を省くことができ、製造コストを低減することができる。しかも、引上げ単結晶育成法と比べ、抵抗加熱による溶融を行うこと、成長速度が遅いこと、温度勾配が緩いこと、融液の対流が殆どないこと等の特徴を有しており、これらに起因して、熱歪及びクラックの発生が軽減される。
よって、簡素な製造工程及び設備によって、単一分極化された高品質なニオブ酸リチウム単結晶を得ることができる。
この結晶育成装置1は、中空円筒状の育成炉10と、該育成炉10内で昇降する昇降部20とから構成される。
種結晶aは、単一分極化済みのニオブ酸リチウム単結晶であり、+面(図1によれば種結晶aの上面)で種付けされる。この種結晶aは、従来の製法により製作したものであってもよいし、予め本発明の製造方法により製作したものであってもよい。
特に、不定比組成のニオブ酸リチウム単結晶の場合には、前記添加量を6〜7mol%の範囲内とするのが好ましい。
なお、上記実施の形態によれば、+面(図1によれば種結晶aの上面)で種付けしたが、種結晶aを上下逆に配置し、種結晶aの−面で種付けすることも可能であり、この場合であっても、成長した単結晶は、上面側が+、下面側が−となるように単一分極化される。
一般に、分極処理後の結晶インゴットが単一分極化されているか否かを判断する手法としては、エッチング処理面の状態を観察する方法が知られている(特開昭58−17245号公報及び特開平7−167843号公報参照)。
具体的に説明すれば、先ず、ニオブ酸リチウム単結晶のインゴットを薄くスライスして円盤状のウェハーに加工し、両面を研磨した後、その両研磨面にエッチング処理を施す。エッチング液には、例えば、50%のフッ化水素水溶液、あるいは、フッ化水素:硝酸:水=1:1:2の比率の溶液を用いる。
すなわち、従来技術では、結晶品質が分極精度を左右し、品質を低下させていることが、QPM波長変換素子等への利用の妨げとなっていたが、本願発明によれば、単一分極化された高品質なニオブ酸リチウム単結晶を得ることができるため、QPM波長変換素子及び分極周期反転デバイスとしての応用が期待できる。
育成炉10内の高温部は、ヒータ12の制御により、1253〜1353℃の範囲内となるように設定される。また、温度勾配部の温度勾配は、育成炉10内にルツボ22等を配置して原料を充填しない状態で、12.7℃/cmとなるように設定される。
なお、図2中、微小な黒い斑点は、異物(インクリュージョン)と考えられる。
10:育成炉
11:筒体
12:ヒータ
20:昇降部
22:ルツボ
11a:内部空間
a:種結晶
b:原料
Claims (6)
- 垂直ブリッジマン法により単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶を製造する方法であって、
育成炉の内部空間にルツボを配置し、前記ルツボ内に、ニオブ酸リチウムの種結晶及び原料を収容し、前記育成炉の温度制御により、前記育成炉内にニオブ酸リチウムの融点以上となる高温部と該高温部よりも下方へ向かって徐々に温度が低くなり前記融点以下となる温度勾配部を形成し、前記高温部から前記温度勾配部へ向かって前記ルツボを所定の速度で下降することで、前記原料に対しルツボ外から電界を加えることなく、前記原料を単結晶化するとともに単一分極化するようにしたことを特徴とする、単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法。 - 前記種結晶が、予め単一分極化されていることを特徴とする請求項1記載の単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法。
- 前記温度勾配部の温度勾配を10〜30℃/cmの範囲内としたことを特徴とする請求項1又は2記載の単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法。
- 前記ルツボの降下速度を0.1〜1mm/hの範囲内としたことを特徴とする請求項1乃至3何れか1項記載の単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法。
- 前記ニオブ酸リチウムの原料に、酸化マグネシウムを添加するようにしたことを特徴とする請求項1乃至4何れか1項記載の単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法。
- QPM波長変換素子用の単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶を製造することを特徴とする請求項1乃至5何れか1項記載の単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011143570A JP2013010656A (ja) | 2011-06-28 | 2011-06-28 | 単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011143570A JP2013010656A (ja) | 2011-06-28 | 2011-06-28 | 単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013010656A true JP2013010656A (ja) | 2013-01-17 |
Family
ID=47684898
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011143570A Pending JP2013010656A (ja) | 2011-06-28 | 2011-06-28 | 単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013010656A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105573012A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-05-11 | 福州大学 | 自由空间相干光通信的三晶片型偏振态编码器 |
CN105839186A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-10 | 西北工业大学 | 一种重复使用籽晶制备单晶高温合金的方法 |
JP2021053491A (ja) * | 2021-01-12 | 2021-04-08 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03290390A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光学用単結晶の製造方法 |
JPH05270992A (ja) * | 1992-03-24 | 1993-10-19 | Daiso Co Ltd | 光損傷のないニオブ酸リチウム単結晶 |
JPH06191996A (ja) * | 1991-11-20 | 1994-07-12 | Hitachi Metals Ltd | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法および光素子 |
JPH06263581A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 単結晶の製造方法 |
JPH1045498A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 光誘起屈折率特性を改善したニオブ酸リチウム単結晶およびその製造方法およびニオブ酸リチウム単結晶を含む光増幅装置 |
JP2000344595A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-12-12 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 酸化物単結晶の製造方法及び装置 |
JP2002060296A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Crystal System:Kk | 単結晶製造用るつぼおよび単結晶製造装置ならびにこれを用いた単結晶の製造方法 |
JP2002068883A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-03-08 | Crystal System:Kk | 単結晶製造装置ならびにこれを用いた単結晶の製造方法 |
JP2002072267A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-12 | National Institute For Materials Science | 光機能素子、該素子用単結晶基板、およびその使用方法 |
JP2003267798A (ja) * | 1999-11-09 | 2003-09-25 | National Institute For Materials Science | ニオブ酸リチウム単結晶、およびその光素子、およびその製造方法 |
JP2003267799A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Yamajiyu Ceramics:Kk | マグネシウムニオブ酸リチウム単結晶およびその製造方法 |
US20050145165A1 (en) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Lithium niobate substrate and method of producing the same |
JP2005179177A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ニオブ酸リチウム基板およびその製造方法 |
JP2006124223A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法 |
JP2010120821A (ja) * | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 結晶成長装置及び結晶成長方法 |
-
2011
- 2011-06-28 JP JP2011143570A patent/JP2013010656A/ja active Pending
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03290390A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光学用単結晶の製造方法 |
JPH06191996A (ja) * | 1991-11-20 | 1994-07-12 | Hitachi Metals Ltd | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法および光素子 |
JPH05270992A (ja) * | 1992-03-24 | 1993-10-19 | Daiso Co Ltd | 光損傷のないニオブ酸リチウム単結晶 |
JPH06263581A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 単結晶の製造方法 |
JPH1045498A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-02-17 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 光誘起屈折率特性を改善したニオブ酸リチウム単結晶およびその製造方法およびニオブ酸リチウム単結晶を含む光増幅装置 |
JP2000344595A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-12-12 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 酸化物単結晶の製造方法及び装置 |
JP2003267798A (ja) * | 1999-11-09 | 2003-09-25 | National Institute For Materials Science | ニオブ酸リチウム単結晶、およびその光素子、およびその製造方法 |
JP2002060296A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Crystal System:Kk | 単結晶製造用るつぼおよび単結晶製造装置ならびにこれを用いた単結晶の製造方法 |
JP2002068883A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-03-08 | Crystal System:Kk | 単結晶製造装置ならびにこれを用いた単結晶の製造方法 |
JP2002072267A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-12 | National Institute For Materials Science | 光機能素子、該素子用単結晶基板、およびその使用方法 |
JP2003267799A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-25 | Yamajiyu Ceramics:Kk | マグネシウムニオブ酸リチウム単結晶およびその製造方法 |
US20050145165A1 (en) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Lithium niobate substrate and method of producing the same |
JP2005179177A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-07-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ニオブ酸リチウム基板およびその製造方法 |
JP2006124223A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-05-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法 |
JP2010120821A (ja) * | 2008-11-20 | 2010-06-03 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 結晶成長装置及び結晶成長方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6014040231; Liang, X., et al.: '"Single domain structure and two-color holographic recording in LiNbO3:Cu:Ce crystals grown by the v' Journal of Crystal Growth Vol. 287, No. 2, 20060125, pp. 463-467 * |
JPN7015000897; Bermu'dez, V., et al.: '"On the single domain nature of stoichiometric LiNbO3 grown from melts containing K2O"' Applied Physics Letters Vol. 70, No. 6, 19970210, pp. 729-731 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105573012A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-05-11 | 福州大学 | 自由空间相干光通信的三晶片型偏振态编码器 |
CN105839186A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-08-10 | 西北工业大学 | 一种重复使用籽晶制备单晶高温合金的方法 |
CN105839186B (zh) * | 2016-06-03 | 2018-07-06 | 西北工业大学 | 一种重复使用籽晶制备单晶高温合金的方法 |
JP2021053491A (ja) * | 2021-01-12 | 2021-04-08 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5596788B2 (ja) | サファイア単結晶成長方法とその装置 | |
JP5633732B2 (ja) | サファイア単結晶の製造方法およびサファイア単結晶の製造装置 | |
JP5434801B2 (ja) | SiC単結晶の製造方法 | |
US9982365B2 (en) | Method for producing SiC single crystal | |
JP2013010656A (ja) | 単一分極化されたニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 | |
JP6547360B2 (ja) | CaMgZr置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット(SGGG)単結晶の育成方法およびSGGG単結晶基板の製造方法 | |
JP4858019B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP2006124223A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
JP5163442B2 (ja) | 結晶成長装置及び結晶成長方法 | |
CN107858753A (zh) | 钽酸锂晶体的制造装置和钽酸锂晶体的制造方法 | |
JP5359845B2 (ja) | 単結晶成長装置 | |
JP4857920B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JPWO2004094705A1 (ja) | フッ化物結晶の製造装置 | |
JP6988624B2 (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶の育成方法 | |
JP6930294B2 (ja) | 結晶育成装置及び単結晶の製造方法 | |
JP4789133B2 (ja) | 単結晶および単結晶の製造方法 | |
JP7275674B2 (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶の育成方法 | |
JPH0782087A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
JP4146829B2 (ja) | 結晶製造装置 | |
JP2019089671A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶の育成方法 | |
JP2018203563A (ja) | 磁歪材料の製造方法 | |
JP6989897B2 (ja) | タンタル酸リチウム結晶における転位評価方法 | |
JPH0920596A (ja) | 四ほう酸リチウム単結晶の製造装置 | |
US20150075419A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING SiC SINGLE CRYSTAL | |
JP2010280525A (ja) | タンタル酸リチウム基板と、タンタル酸リチウム単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140317 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140924 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150407 |