JP2012521026A - 容量型タッチ回路パターン及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
基板を有し、少なくとも2つの隣り合う透明な第1軸線電極ブロック、透明な第1軸線導電線及び少なくとも2つの隣り合う透明な第2軸線電極ブロックガ基板上に形成され、
第1軸線導電線は、2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう2つの隣り合う第1軸線電極ブロック相互間に形成され、2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、第1軸線導電線の2つの側にそれぞれ配置され、
第1軸線導電線を横切って延びると共に2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続した金属製の第2軸線導電線を有し、
第1軸線導電線を第2軸線導電線から電気的に絶縁するよう第1軸線導電線と第2軸線導電線との間に形成された絶縁スペーサを有し、
第1軸線周囲回路及び第2軸線周囲回路が、基板の2つの隣り合う縁部にそれぞれ形成され、第1軸線周囲回路は、第1軸線電極ブロックを互いに接続し、第2軸線周囲回路は、第2軸線電極ブロックを互いに接続している、容量型タッチ回路パターン。
第1の処理により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック、第1軸線導電線及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを基板の表面上に形成するステップを有し、第1軸線導電線は、2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう2つの隣り合う第1軸線電極ブロック相互間に配置され、2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、第1軸線導電線の2つの側にそれぞれ配置され、
第2の処理により第1軸線導電線を覆うよう絶縁層を基板の表面上に形成するステップを有し、
第3の処理により金属製の第2軸線導電線を絶縁層上に形成して2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続して第1軸線導電線と第2軸線導電線を互いに電気的に絶縁し、かくしてタッチ回路パターンを形成されるようにするステップを有することを特徴とする方法を提供する。
第1の処理により金属製の第2軸線導電線を基板の表面上に形成するステップと、
第2の処理により第2軸線導電線を覆うよう絶縁層を基板の表面上に形成するステップと、
第3の処理により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック、第1軸線導電線、及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを基板上に形成するステップとを有し、
2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、それぞれ、第2軸線導電線の2つの端部を互いに接続し、
2つの隣り合う第1軸線電極ブロックは、第2軸線導電線の2つの側にそれぞれ設けられ、
第1軸線導電線は、絶縁層上に配置され、第1軸線導電線は、第1軸線導電線と第2軸線導電線が互いに電気的に絶縁され、かくしてタッチ回路パターンが形成されるよう2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続する。
少なくとも1つの群をなす第1の電極ブロックを形成するステップを有し、各群は、第1の軸線方向に沿って間隔を置いて配置された少なくとも2つの第1の電極ブロックを含み、
少なくとも1つの群をなす第1の導電線を形成するステップを有し、各群は、第1の電極ブロックの同一の群に属する隣り合う第1の電極ブロック相互間に配置されると共に同一の群に属する第1の電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、
少なくとも1つの群をなす第2の電極ブロックを形成するステップを有し、各群は、2つの隣り合う第1電極ブロック相互間の間隔に対応した間隔で第2軸線方向に沿って配置された少なくとも2つの第2の電極ブロックを含み、隣り合う2つの第2電極ブロックは、第1導電線の2つの側にそれぞれ配置され、
絶縁層を基板上に形成して第1導電線の少なくとも一部を覆うステップを有し、
少なくとも1つの群をなす第2の導電線を基板上に形成するステップを有し、第2導電線は、不透明な導電材料で作られ、各第2導電線群は、第2電極ブロックの同一の群に属する隣り合う第2電極ブロック相互間に配置されると共に同一の群に属する第2電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、第1導電線と第2導電線は、絶縁層により電気的に絶縁されることを特徴とする方法を提供する。
少なくとも1つの群をなす第2の導電線を基板上に形成するステップを有し、第2導電線は、第2軸線方向に沿って配置されると共に不透明な導電材料で作られ、
絶縁層基板上に形成して第2導電線の少なくとも1つの群の一部を覆うステップを有し、
少なくとも1つの群をなす第2の電極ブロックを形成するステップを有し、各群は、第2軸線方向に沿って間隔を置いて配置された少なくとも2つの第2の電極ブロックを含み、第2導電線の各群が第2電極ブロックの同一の群に属する隣り合う電極ブロック相互間に配置されると共に同一の群に属する第2電極ブロックが第2導電線により互いに電気的に接続されるようになっており、
少なくとも1つの群をなす第1の電極ブロックを形成するステップを有し、各群は、2つの隣り合う第2電極ブロック相互間の間隔に対応した間隔で第1軸線方向に沿って配置された少なくとも2つの第1の電極ブロックを含み、更に、2つの隣り合う第1電極ブロックは、第2導電線の2つの側にそれぞれ設けられ、
少なくとも1つの群をなす第1の導電線を形成するステップを有し、各群は、第1電極ブロックの同一の群に属する隣り合う第1電極ブロック相互間に設けられると共に同一の群に属する第1電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、第1導電線と第2の導電線は、絶縁層により電気的に絶縁されるようになっていることを特徴とする方法を提供する。
少なくとも1つの群をなす透明な第1の電極ブロックを有し、各群は、第1軸線方向に沿って間隔を置いて配置された少なくとも2つの第1電極ブロックを含み、少なくとも1つの群をなす透明な第1の導電線を有し、各透明な第1導電線群は、第1の電極ブロックの同一の群に属する隣り合う第1電極ブロック相互間に配置されると共に同一群に属する第1電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、
少なくとも1つの群をなす透明な第2の電極ブロックを有し、各群は、2つの隣り合う第1電極ブロック相互間の間隔に対応した間隔で第2軸線方向に沿って配置された少なくとも2つの第2の電極ブロックを含み、2つの隣り合う第2電極ブロックは、それぞれ、第1導電線の少なくとも1つの群の2つの側に配置され、
不透明な導電材料で作られた少なくとも1つの群をなす第2の導電線を有し、各群は、第2の導電ブロックの同一の群に属する隣り合う第2電極ブロック相互間に配置されると共に同一の群に属する第2電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、
第1導電線と第2導電線を互いに電気的に絶縁するよう第1導電線と第2導電線との間に形成された絶縁層を有する、容量型タッチ回路パターン構造体。
(1)第1のフォトリソグラフィ法により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1、第1軸線導電線11及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2(図1に示されている)を透明な基板3の表面上に形成するステップを有し、第1軸線導電線11は、2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1を互いに接続するよう2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1相互間に設けられ、更に、2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2は、それぞれ、第1軸線導電線11の2つの側部のところに設けられ、更に、第1軸線電極ブロック1、第2軸線電極ブロック2及び第1軸線導電線11は、透明な導電材料で作られており、透明な導電材料は、ITOであるのが良く、第1軸線電極ブロック1、第2軸線電極ブロック2及び第1軸線導電線11は、それぞれ、本実施形態では多数の群の状態で形成されるのが良く、複数個の第1軸線電極ブロック1は、互いに平行であり且つマトリックスとして間隔を置いて配置され、複数個の第2軸線電極ブロック2もまた、互いに平行であり且つマトリックスとして間隔を置いて配置され、それにより、複数個の第1軸線導電線1もまた、マトリックスとして間隔を置いて配置される。
(2)複数個の第1軸線電極ブロック1の配置場所に基づいて、第2のフォトリソグラフィ法により第1軸線導電線11を覆うよう絶縁スペーサ4(図2に示されている)を基板3の表面上に形成するステップを有し、絶縁スペーサ4は、透明な絶縁材料で作られるのが良く、絶縁材料は、シリコン酸化膜又は絶縁性能を備えた他の同等な材料であるのが良い。絶縁スペーサ4もまた、本実施形態では多数の群をなして形成されるのが良く、この絶縁スペーサは、マトリックスとして間隔を置いて配置される。
(3)絶縁スペーサ4の配置場所に基づいて、第3のリソグラフィ法により金属材料で作られた第2軸線導電線21、第1軸線周囲回路51及び第2軸線周囲回路52(図3に示されている)を基板3の表面上に形成するステップを有し、第2軸線導電線21は、2つの隣り合う第2軸線電極ブロックに相互間に接続されると共に第1軸線導電線11と第2軸線導電線21が互いに絶縁されるよう絶縁スペーサ4を横切って延びており、第1軸線周囲回路51及び第2軸線周囲回路52は、それぞれ、基板3の2つの隣り合う縁部に設けられており、第1軸線周囲回路51は、第1軸線電極ブロック1を互いに接続し、第2軸線周囲回路52は、第2軸線電極ブロック2を互いに接続している。
(1)第1のフォトリソグラフィ法により金属材料で作られている第2軸線導電線21a、第1軸線周囲回路51a及び第2軸線周囲回路52a(図5に示されている)を基板3aの表面上に形成するステップを有し、第2軸線導電線21a、第1軸線周囲回路51a及び第2軸線周囲回路52aは、それぞれ、本実施形態では多数の群をなした状態で形成されるのが良く、全ての第2軸線導電線21aは、アレイの状態に設けられている。
(2)第2軸線導電線21aの配置場所に基づいて、第2のフォトリソグラフィ法により第2軸線導電線21aを覆うよう絶縁スペーサ4a(図6に示されている)を基板3aの表面上に形成するステップを有し、絶縁スペーサ4aは、本実施形態では、多数の群をなした状態で形成されるのが良い。
(3)第2軸線導電線21a、絶縁スペーサ4a、第1軸線周囲回路51a及び第2軸線周囲回路52aの配置場所に基づいて、第3のフォトリソグラフィ法により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1a、第1軸線導電線11a及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2a(図7に示されている)を基板3aの表面上に形成するステップを有し、2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2aは、それぞれ、第2軸線導電線21aの2つの端部に接続され、更に、2つの第1軸線電極ブロック1aは、それぞれ、第2軸線導電線21aの2つの側部のところに設けられ、第1軸線導電線11aは、絶縁スペーサ4aを横切って延びて2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1aを互いに接続し、その結果、第1軸線導電線11aと第2軸線導電線21aは、互いに電気的に絶縁されている。
(1)第1のフォトリソグラフィ法により金属材料で作られた第2軸線導電線21b、第1軸線周囲回路51b及び第2軸線周囲回路52b(図8に示されている)を基板3bの表面上に形成するステップを有し、第1軸線周囲回路51b及び第2軸線周囲回路52bは、それぞれ、本実施形態では、多数の群をなした状態で形成されるのが良い。
(2)第2軸線導電線21bの配置場所に基づいて、第2のフォトリソグラフィ法により絶縁層40b(図9に示されている)を基板3bの表面上に形成するステップを有し、絶縁層40bの表面には2つの隣り合う貫通穴41bが設けられ、これら2つの隣り合う貫通穴は、第2軸線導電線21bの2つの端部の上方にそれぞれ形成され、絶縁層40bは、透明な絶縁材料で作られるのが良く、絶縁材料は、シリコン酸化膜又は絶縁性能を備えた他の同等な材料であるのが良く、2つの隣り合う貫通穴は、本実施形態では多数の群をなして形成されるのが良い。
(3)2つの隣り合う貫通穴41bの配置場所に基づいて、第3のフォトリソグラフィ法により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1b、第1軸線導電線11b及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2b(図10に示されている)を基板3bの表面に被着されている絶縁層40b上に形成するステップを有し、2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2bは、それぞれ、絶縁層40bの表面の貫通穴41b上に重ね合わせ状態で設けられると共にそれぞれ、第2軸線導電線21bの2つの端部に接続され、2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1bは、2つの貫通穴41bの2つの側部のところに設けられ、更に、第1軸線導電線11bは、2つの貫通穴41b相互間で絶縁層40bの表面上に形成されると共に2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1bを互いに接続しており、その結果、第1軸線導電線11bと第2軸線導電線21bは、互いに電気的に絶縁されている。
(1)第1のフォトリソグラフィ法により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1c、第1軸線導電線11c及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2c(図11に示されている)を透明な基板3cの表面上に形成するステップを有し、第1軸線導電線11cは、2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1cを互いに接続するよう2つの隣り合う第1軸線電極ブロック1c相互間に設けられ、2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2cは、それぞれ、第1軸線導電線11cの2つの側部のところに設けられ、更に、第1軸線電極ブロック1c、第2軸線電極ブロック2c及び第1軸線導電線11cは、それぞれ、本実施形態では多数の群をなした状態で形成されるのが良く、複数個の第1軸線電極ブロック1cは、互いに平行であり且つマトリックスとして間隔を置いて配置され、複数個の第2軸線電極ブロック2cもまた、互いに平行であり且つマトリックスとして間隔を置いて配置されている。
(2)複数個の第1軸線電極ブロック1c、第2軸線電極ブロック2c及び第1軸線導電線11cの配置場所に基づいて、第2のフォトリソグラフィ法により第1軸線電極ブロック1c、第2軸線電極ブロック2c及び第1軸線導電線11cを覆うよう絶縁スペーサ40c(図12に示されている)を基板3cの表面上に形成するステップを有し、絶縁層40cの表面には2つの隣り合う貫通穴41cが設けられ、これら2つの隣り合う貫通穴は、第2軸線導電線2cの上方にそれぞれ形成され、2つの隣り合う貫通穴41cは、本実施形態では多数の群をなして形成されるのが良い。
(3)2つの隣り合う貫通穴41cの配置場所に基づいて、第3のフォトリソグラフィ法により金属材料で作られた第2軸線導電線21c、第1軸線周囲回路51c及び第2軸線周囲回路52c(図13に示されている)を基板3cの表面上に形成するステップを有し、第2軸線導電線21cは、2つの隣り合う貫通穴41c相互間で絶縁層40cの表面上に配置されると共に2つの隣り合う第2軸線電極ブロック2cを互いに接続するよう2つの隣り合う貫通穴41c上に重ね合わせ状態で設けられ、その結果、第1軸線導電線11cと第2軸線導電線21cは、互いに電気的に絶縁され、更に、第1軸線周囲回路51c及び第2軸線周囲回路52cは、それぞれ、基板3cの2つの隣り合う縁部に設けられ、第1軸線周囲回路51cは、第1軸線電極ブロック1cを互いに接続し、第2軸線周囲回路52cは、第2軸線電極ブロック2cを互いに接続している。
Claims (40)
- 容量型タッチ回路パターンであって、
基板を有し、
少なくとも2つの隣り合う透明な第1軸線電極ブロックを有し、
透明な第1軸線導電線を有し、
少なくとも2つの隣り合う透明な第2軸線電極ブロックを有し、前記第1軸線電極ブロック、前記透明な第1軸線導電線、及び前記第2軸線電極ブロックは、前記基板上に形成され、前記第1軸線導電線は、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロック相互間に形成され、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、前記第1軸線導電線の2つの側にそれぞれ配置され、
前記第1軸線導電線を横切って延びると共に前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続した金属製の第2軸線導電線を有し、
前記第1軸線導電線を前記第2軸線導電線から電気的に絶縁するよう前記第1軸線導電線と前記第2軸線導電線との間に形成された絶縁スペーサを有し、第1軸線周囲回路及び第2軸線周囲回路が、前記基板の2つの隣り合う縁部にそれぞれ形成され、前記第1軸線周囲回路は、前記第1軸線電極ブロックを互いに接続し、前記第2軸線周囲回路は、前記第2軸線電極ブロックを互いに接続している、容量型タッチ回路パターン。 - 容量型タッチ回路パターンを製造する方法であって、
第1の処理により2つの隣り合う第1軸線電極ブロック、第1軸線導電線、及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを基板の表面上に形成するステップを有し、前記第1軸線導電線は、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロック相互間に配置され、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、前記第1軸線導電線の2つの側にそれぞれ配置され、
第2の処理により前記第1軸線導電線を覆うよう絶縁層を前記基板の前記表面上に形成するステップを有し、
第3の処理により金属製の第2軸線導電線を前記絶縁層上に形成して前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続し、それにより前記第1軸線導電線を前記第2軸線導電線から電気的に絶縁してタッチ回路パターンを形成するステップを有する、方法。 - 第1軸線周囲回路及び第2軸線周囲回路を前記第2軸線導電線の形成時にそれと同時に前記基板の2つの隣り合う縁部にそれぞれ形成するステップを更に有し、前記第1軸線周囲回路は、前記第1軸線電極ブロックを互いに接続し、前記第2軸線周囲回路は、前記第2軸線電極ブロックを互いに接続する、請求項2記載の容量型タッチ回路パターンの製造方法。
- 前記絶縁層は、絶縁スペーサであり、前記第2軸線導電線は、前記絶縁スペーサを横切って延びている、請求項2記載の容量型タッチ回路パターンの製造方法。
- 前記絶縁層は、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロック及び前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを覆い、前記絶縁層の前記表面に設けられた2つの隣り合う貫通穴が、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックの上方にそれぞれ形成され、前記第2軸線導電線は、前記2つの隣り合う貫通穴相互間に配置されると共に前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続するよう前記2つの隣り合う貫通穴上に重ね合わせ状態で設けられる、請求項2記載の容量型タッチ回路パターンの製造方法。
- 容量型タッチ回路パターンの製造方法であって、
金属製の第2軸線導電線を第1の処理により基板の表面上に形成するステップと、
絶縁層を第2の処理により前記基板の前記表面上に形成して前記第2軸線導電線を覆うステップと、
2つの隣り合う第1軸線電極ブロック、第1軸線導電線、及び2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを第3の処理により前記基板上に形成するステップとを有し、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、それぞれ、前記第2軸線導電線の2つの端部を互いに接続し、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロックは、前記第2軸線導電線の2つの側にそれぞれ設けられ、前記第1軸線導電線は、前記絶縁層上に配置され、前記第1軸線導電線は、前記第1軸線導電線を前記第2軸線導電線から電気的に絶縁してタッチ回路パターンを形成するよう前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう構成されている、方法。 - 第1軸線周囲回路及び第2軸線周囲回路を前記第2軸線導電線の形成時に同時に前記基板の2つの隣り合う縁部にそれぞれ形成するステップを更に有し、前記第1軸線電極ブロックは、前記第1軸線周囲回路に接続され、前記第2軸線電極ブロックは、前記第2軸線周囲回路に接続されている、請求項6記載の容量型タッチ回路パターンの製造方法。
- 前記絶縁層は、絶縁スペーサであり、前記第1軸線導電線は、前記絶縁スペーサを横切って延びている、請求項6記載の容量型タッチ回路パターンの製造方法。
- 前記絶縁層の前記表面に設けられた2つの隣り合う貫通穴が、前記第2軸線導電線の2つの端部の上方にそれぞれ形成され、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロック及び前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、前記絶縁層上に配置され、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、それぞれ、前記第2軸線導電線の前記2つの端部を互いに接続するよう前記貫通穴上に重ね合わせ状態で設けられる、請求項6記載の容量型タッチ回路パターンの製造方法。
- 容量型タッチ回路パターンの構造体であって、
基板を有し、
少なくとも2つの隣り合う透明な第1軸線電極ブロックを有し、
透明な第1軸線導電線を有し、
少なくとも2つの隣り合う透明な第2軸線電極ブロックを有し、前記第1軸線電極ブロック、前記透明な第1軸線導電線、及び前記第2軸線電極ブロックは、基板上に形成され、前記第1軸線導電線は、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロック相互間に形成され、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、前記第1軸線導電線の2つの側にそれぞれ設けられ、
前記第1軸線導電線を横切って延びると共に前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続した金属製の第2軸線導電線を有し、
前記第1軸線導電線を前記第2軸線導電線から電気的に絶縁するよう前記第1軸線導電線と前記第2軸線導電線との間に形成された絶縁スペーサを有する、容量型タッチ回路パターン構造体。 - 第1軸線周囲回路及び第2軸線周囲回路が、前記基板の2つの隣り合う縁部にそれぞれ形成され、前記第1軸線周囲回路は、前記第1軸線電極ブロックを互いに接続し、前記第2軸線周囲回路は、前記第2軸線電極ブロックを互いに接続している、請求項10記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 容量型タッチ回路パターン構造体であって、
基板を有し、
少なくとも2つの隣り合う透明な第1軸線電極ブロックを有し、
透明な第1軸線導電線を有し、
少なくとも2つの隣り合う透明な第2軸線電極ブロックを有し、前記第1軸線電極ブロック、前記透明な第1軸線導電線、及び前記第2軸線電極ブロックは、基板上に形成され、前記第1軸線導電線は、前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロックを互いに接続するよう前記2つの隣り合う第1軸線電極ブロック相互間に形成され、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックは、前記第1軸線導電線の2つの側にそれぞれ設けられ、
前記第1軸線導電線を横切って延びると共に前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続した金属製の第2軸線導電線を有し、
前記基板の前記表面上に形成された絶縁層を有し、前記絶縁層は、前記第1軸線導電線を前記第2軸線導電線から電気的に絶縁するよう前記2つの第1軸線電極ブロックと前記第1軸線導電線と前記2つの第2軸線電極ブロックと前記第2軸線導電線との間に形成されている、容量型タッチ回路パターン構造体。 - 前記絶縁層の前記表面に設けられた2つの隣り合う貫通穴が、前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックに対応した状態でそれぞれ形成され、前記第2軸線導電線は、前記2つの隣り合う貫通穴相互間に配置されると共に前記2つの隣り合う第2軸線電極ブロックを互いに接続するよう前記2つの隣り合う貫通穴上に重ね合わせ状態で設けられている、請求項12記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 第1軸線周囲回路及び第2軸線周囲回路が、前記基板の2つの隣り合う縁部にそれぞれ形成され、前記第1軸線周囲回路は、前記第1軸線電極ブロックを互いに接続し、前記第2軸線周囲回路は、前記第2軸線電極ブロックを互いに接続している、請求項12記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- タッチ表示画面の容量型タッチ回路パターン構造体を基板上に製造する方法であって、
少なくとも1つの群をなす第1の電極ブロック、少なくとも1つの群をなす第1の導電線、及び少なくとも1つの群をなす第2の電極ブロックを前記基板上に形成するステップを有し、各前記第1電極ブロック群は、第1の軸線方向に沿って間隔を置いて配置された少なくとも2つの第1の電極ブロックを含み、各前記第1導電線群は、前記第1の電極ブロックの同一の群に属する隣り合う前記第1の電極ブロック相互間に配置されると共に前記同一の群に属する前記第1の電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、各前記第2電極ブロック群は、前記2つの隣り合う第1電極ブロック相互間の前記間隔に対応した間隔で第2軸線方向に沿って配置された少なくとも2つの第2の電極ブロックを含み、隣り合う前記2つの第2電極ブロックは、前記第1導電線の2つの側にそれぞれ配置され、
絶縁層を前記基板上に形成して前記第1導電線の少なくとも一部を覆うステップを有し、
少なくとも1つの群をなす第2の導電線を前記基板上に形成するステップを有し、前記第2導電線は、不透明な導電材料で作られ、各前記第2導電線群は、前記第2電極ブロックの同一の群に属する隣り合う前記第2電極ブロック相互間に配置されると共に前記同一の群に属する前記第2電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、前記第1導電線と前記第2導電線は、前記絶縁層により電気的に絶縁される、方法。 - 第1の周囲回路及び第2の周囲回路を前記第2導電線の形成時にそれと同時に前記基板の前記表面の縁部にそれぞれ形成して前記第1周囲回路を前記第1電極ブロックに電気的に接続すると共に前記第2周囲回路を前記第2電極ブロックに電気的に接続するステップを更に有する、請求項15記載の方法。
- 前記第1周囲回路及び前記第2周囲回路は、不透明な導電材料で作られている、請求項15記載の方法。
- 前記不透明な導電材料は、金属である、請求項15又は17記載の方法。
- 前記絶縁層は、間隔を置いて配置された1つ又は2つ以上の絶縁スペーサを有し、前記第2導電線は、前記対応の絶縁スペーサを横切って延びる、請求項18記載の方法。
- 前記絶縁層は、前記第1電極ブロック及び前記第2電極ブロックの少なくとも一部を覆う一体構造体であり、少なくとも1つの対をなす貫通穴が前記絶縁層に形成され、前記貫通穴の各対は、各貫通穴を前記第2電極ブロックのうちの一方上に重ね合わせるよう同一の群に属する2つの隣り合う前記第2電極ブロック上に重ね合わせ状態で設けられ、前記少なくとも1本の第2導電線は、前記対をなす貫通穴相互間に配置され、そして前記第2電極ブロックの少なくとも1つの群に属する前記2つの隣り合う第2電極ブロックを互いに電気的に接続するよう延長されると共に前記対をなす貫通穴上に重ね合わせ状態で設けられる、請求項18記載の方法。
- 前記第2導電線の形成ステップにおいて、同一の群に属する前記第2導電線を延長して1本の電線にする、請求項15記載の方法。
- タッチ表示画面の容量型タッチ回路パターン構造体を基板上に製造する方法であって、
少なくとも1つの群をなす第2の導電線を前記基板上に形成するステップを有し、前記第2導電線は、第2軸線方向に沿って配置されると共に不透明な導電材料で作られ、
絶縁層前記基板上に形成して前記第2導電線の少なくとも1つの群の一部を覆うステップを有し、
少なくとも1つの群をなす第2の電極ブロック、少なくとも1つの群をなす第1の電極ブロック、及び少なくとも1つの群をなす第1の導電線を前記基板上に形成するステップを有し、各前記第2電極ブロック群は、前記第2導電線の各群を前記第2電極ブロックの同一の群に属する隣り合う前記2つの電極ブロック相互間に配置するよう前記第2軸線方向に沿って間隔を置いて配置された少なくとも2つの第2の電極ブロックを含み、前記同一の群に属する前記第2電極ブロックは、第2導電線により互いに電気的に接続され、各前記第1電極ブロック群は、前記2つの隣り合う第2電極ブロック相互間の間隔に対応した間隔で第1軸線方向に沿って配置された少なくとも2つの第1の電極ブロックを含み、前記2つの隣り合う第1電極ブロックは、第2導電線の2つの側にそれぞれ設けられ、各前記第1導電線群は、前記第1電極ブロックの同一の群に属する隣り合う第1電極ブロック相互間に設けられると共に前記同一の群に属する前記第1電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、前記第1導電線と前記第2の導電線は、前記絶縁層により電気的に絶縁される、方法。 - 第1の周囲回路及び第2の周囲回路を前記第2導電線の形成時にそれと同時に前記基板の前記表面の縁部にそれぞれ形成して前記第1周囲回路を前記第1電極ブロックに電気的に接続すると共に前記第2周囲回路を前記第2電極ブロックに電気的に接続するステップを更に有する、請求項22記載の方法。
- 前記第1周囲回路及び前記第2周囲回路は、不透明な導電材料で作られている、請求項23記載の方法。
- 前記不透明な導電材料は、金属である、請求項22又は24記載の方法。
- 前記絶縁層は、間隔を置いて配置された1つ又は2つ以上の絶縁スペーサを有し、前記第1導電線は、前記対応の絶縁スペーサを横切って延びる、請求項18記載の方法。
- 前記絶縁層は、少なくとも1つの対をなす貫通穴を備えた一体構造体であり、前記対をなす貫通穴は、前記第2導電線上に重ね合わせ状態で設けられ、前記第1電極ブロック及び前記第2電極ブロックは、前記絶縁層上に配置され、同一の群に属する前記2つの隣り合う第2電極ブロックは、前記第2導電線により電気的に接続されるよう前記対をなす貫通穴上に重ね合わせ状態でそれぞれ設けられる、請求項25記載の方法。
- 前記第2導電線の形成ステップにおいて、同一の群に属する前記第2導電線を延長して1本の電線にする、請求項22記載の方法。
- 請求項15〜28のうちいずれか一に記載の方法により基板上に形成されたタッチ表示画面に用いられるタッチパネルの容量型タッチ回路パターン構造体であって、
少なくとも1つの群をなす透明な第1の電極ブロックを有し、各前記透明な第1電極ブロック群は、第1軸線方向に沿って間隔を置いて配置された少なくとも2つの第1電極ブロックを含み、少なくとも1つの群をなす透明な第1の導電線を有し、各前記透明な第1導電線群は、前記第1の電極ブロックの同一の群に属する隣り合う前記第1電極ブロック相互間に配置されると共に前記同一群に属する前記第1電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、
少なくとも1つの群をなす透明な第2の電極ブロックを有し、各前記透明な第2電極ブロック群は、前記2つの隣り合う第1電極ブロック相互間の間隔に対応した間隔で第2軸線方向に沿って配置された少なくとも2つの第2の電極ブロックを含み、前記2つの隣り合う第2電極ブロックは、それぞれ、前記第1導電線の少なくとも1つの群の2つの側に配置され、
不透明な導電材料で作られた少なくとも1つの群をなす第2の導電線を有し、各前記第2の導電線群は、前記第2の導電ブロックの同一の群に属する隣り合う第2電極ブロック相互間に配置されると共に前記同一の群に属する前記第2電極ブロックを互いに電気的に接続するために用いられ、
前記第1導電線と前記第2導電線を互いに電気的に絶縁するよう前記第1導電線と前記第2導電線との間に形成された絶縁層を有する、容量型タッチ回路パターン構造体。 - 前記基板の前記表面の縁部に設けられた第1の周囲回路及び第2の周囲回路を更に有し、前記第1周囲回路は、前記第1電極ブロックに電気的に接続され、前記第2周囲回路は、前記第2電極ブロックに電気的に接続されている、請求項29記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 前記第1周囲回路及び前記第2周囲回路は、不透明な導電材料で作られている、請求項30記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 前記不透明な導電材料は、金属である、請求項29又は31記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 前記絶縁層は、間隔を置いて配置された1つ又は2つ以上の絶縁スペーサから成り、前記第2導電線は、対応の前記絶縁スペーサを横切って延びている、請求項32記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 前記絶縁層は、前記第1電極ブロック及び前記第2電極ブロックの少なくとも一部を覆う一体構造体であり、少なくとも1つの対をなす貫通穴が前記絶縁層に形成され、前記貫通穴の対は、同一群に属する前記2つの隣り合う第2の電極ブロック上に重ね合わせ状態で設けられ、前記少なくとも1本の第2導電線は、前記対をなす貫通穴相互間に配置され、そして前記第2電極ブロックの少なくとも1つの群に属する前記2つの隣り合う第2電極ブロックを互いに電気的に接続するよう延長されると共に前記対をなす貫通穴上に重ね合わせ状態で設けられている、請求項32記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- 同一の群に属する前記第2導電線は、1本の電線になるよう延長されている、請求項29記載の容量型タッチ回路パターン構造体。
- タッチ表示画面に用いられるタッチパネルであって、基板と、請求項29〜35のうちいずれか一に記載の前記基板上に形成された前記容量型タッチ回路パターン構造体のうちの任意のものとを有する、タッチパネル。
- 前記第2導電線は、前記タッチ表示画面内のブラックマトリックスと位置合わせされている、請求項36記載のタッチパネル。
- 請求項36又は37記載の前記タッチパネルを有するタッチ表示画面。
- 前記タッチパネルの前記容量型タッチ回路パターン構造体は、前記タッチ表示画面の表示パネルの上側基板と下側基板との間に形成され、前記第2導電線は、前記表示パネル内のシェーディング要素として設けられている、請求項38記載のタッチ表示画面。
- 前記タッチパネルは、前記タッチ表示画面の前記表示パネルの上方に配置されている、請求項38記載のタッチ表示画面。
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---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011086122A (ja) * | 2009-10-15 | 2011-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 静電容量式タッチパネルセンサおよび当該タッチパネルセンサの製造方法 |
JP2012068287A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-04-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ基板及びその製造方法 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1400933B1 (it) * | 2010-06-21 | 2013-07-02 | St Microelectronics Srl | Touch sensor and method of forming a touch sensor. |
CN102314271B (zh) * | 2010-07-07 | 2014-11-05 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 一种电容式触控图形结构及其制法、触控面板及触控显示装置 |
JP5730551B2 (ja) * | 2010-12-01 | 2015-06-10 | 株式会社ワコム | 指示体による指示位置を検出するための検出センサ、指示体位置検出装置および検出センサの製造方法 |
CN102081486B (zh) * | 2010-12-21 | 2012-11-28 | 东南大学 | 一种电容式触摸感应器 |
CN102866794A (zh) | 2011-06-15 | 2013-01-09 | 宸鸿光电科技股份有限公司 | 触控感测层及其制造方法 |
KR101191949B1 (ko) * | 2011-06-20 | 2012-10-17 | 박준영 | 정전용량 터치 패널의 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 터치 패널 |
CN102955603B (zh) * | 2011-08-17 | 2016-05-25 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控面板及其制造方法 |
US9612265B1 (en) | 2011-09-23 | 2017-04-04 | Cypress Semiconductor Corporation | Methods and apparatus to detect a conductive object |
US8903679B2 (en) | 2011-09-23 | 2014-12-02 | Cypress Semiconductor Corporation | Accuracy in a capacitive sense array |
CN103049144A (zh) | 2011-10-14 | 2013-04-17 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控装置图形及其制造方法 |
CN103186271B (zh) * | 2011-12-29 | 2016-08-10 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控面板及其制作方法 |
CN103970311A (zh) * | 2013-01-24 | 2014-08-06 | 联胜(中国)科技有限公司 | 触控板 |
CN104423674B (zh) * | 2013-09-10 | 2017-09-12 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控面板及其制作方法 |
US8872526B1 (en) * | 2013-09-10 | 2014-10-28 | Cypress Semiconductor Corporation | Interleaving sense elements of a capacitive-sense array |
US9495050B1 (en) | 2013-09-10 | 2016-11-15 | Monterey Research, Llc | Sensor pattern with signal-spreading electrodes |
CN104123036B (zh) * | 2014-06-09 | 2017-02-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光栅基板及其制作方法、显示装置 |
KR102375190B1 (ko) * | 2014-11-24 | 2022-03-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 스트레처블 도전 패턴 및 스트레처블 장치 |
CN104991679B (zh) * | 2015-07-31 | 2018-06-05 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 触摸基板及其制作方法、触摸显示装置 |
KR101913395B1 (ko) | 2016-07-29 | 2018-10-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
JP6760385B2 (ja) * | 2016-09-14 | 2020-09-23 | ソニー株式会社 | センサ、入力装置および電子機器 |
KR102438256B1 (ko) * | 2017-06-07 | 2022-08-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 터치 스크린을 갖는 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR101964856B1 (ko) | 2017-09-26 | 2019-04-04 | 주식회사 시노펙스 | Lds 공법을 이용한 아이콘 빛 점등용 터치패드 |
JP2022538698A (ja) * | 2019-03-28 | 2022-09-06 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | タッチ基板、タッチ装置及びタッチ検出方法 |
KR20210056468A (ko) * | 2019-11-08 | 2021-05-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 센싱 유닛과 그를 포함하는 표시 장치 |
CN113778261B (zh) * | 2021-09-13 | 2023-09-05 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 可拉伸显示模组及可拉伸显示设备 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3134925U (ja) * | 2007-04-27 | 2007-08-30 | 宸鴻光電科技股▲分▼有限公司 | 静電容量式タッチパッドのタッチ模様構造 |
JP2007299385A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-15 | Ritdisplay Corp | 透明タッチパネル |
JP2008310551A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Epson Imaging Devices Corp | 静電容量型入力装置 |
JP2009009574A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Sense Pad Tech Co Ltd | 容量方式のタッチパネル |
JP3149113U (ja) * | 2008-12-25 | 2009-03-12 | 洋華光電股▲ふん▼有限公司 | キャパシタ式接触制御インダクション構造 |
JP2010033478A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-12 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置 |
WO2010029979A1 (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-18 | オプトレックス株式会社 | 静電容量型タッチパネル、表示装置および静電容量型タッチパネルの製造方法 |
Family Cites Families (101)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4028509A (en) | 1975-08-29 | 1977-06-07 | Hughes Aircraft Company | Simplified tabulator keyboard assembly for use in watch/calculator having transparent foldable flexible printed circuit board with contacts and actuator indicia |
US4233522A (en) | 1978-10-30 | 1980-11-11 | General Electric Company | Capacitive touch switch array |
JPS57204938A (en) | 1981-06-11 | 1982-12-15 | Fujitsu Ltd | Finger contact type coordinate input device |
JPS58166437A (ja) | 1982-03-26 | 1983-10-01 | Fujitsu Ltd | 指タツチ式座標検出パネルの製造方法 |
JPS6075927A (ja) | 1983-09-30 | 1985-04-30 | Fujitsu Ltd | 座標入力装置 |
US4550221A (en) | 1983-10-07 | 1985-10-29 | Scott Mabusth | Touch sensitive control device |
US4733222A (en) | 1983-12-27 | 1988-03-22 | Integrated Touch Arrays, Inc. | Capacitance-variation-sensitive touch sensing array system |
JPS6184729A (ja) | 1984-10-03 | 1986-04-30 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 透視形指タツチ入力装置 |
GB2168816A (en) | 1984-12-19 | 1986-06-25 | Philips Electronic Associated | Touch-sensitive position sensor apparatus |
US5381160A (en) | 1991-09-27 | 1995-01-10 | Calcomp Inc. | See-through digitizer with clear conductive grid |
US5543590A (en) | 1992-06-08 | 1996-08-06 | Synaptics, Incorporated | Object position detector with edge motion feature |
US6239389B1 (en) | 1992-06-08 | 2001-05-29 | Synaptics, Inc. | Object position detection system and method |
US5880411A (en) | 1992-06-08 | 1999-03-09 | Synaptics, Incorporated | Object position detector with edge motion feature and gesture recognition |
US7532205B2 (en) | 1992-06-08 | 2009-05-12 | Synaptics, Inc. | Object position detector with edge motion feature and gesture recognition |
DE69324067T2 (de) | 1992-06-08 | 1999-07-15 | Synaptics Inc | Objekt-Positionsdetektor |
GB9406702D0 (en) | 1994-04-05 | 1994-05-25 | Binstead Ronald P | Multiple input proximity detector and touchpad system |
US6114862A (en) | 1996-02-14 | 2000-09-05 | Stmicroelectronics, Inc. | Capacitive distance sensor |
TW345294U (en) | 1996-06-07 | 1998-11-11 | Mei-Yong Chen | Improved structure for cursor positioned apparatus |
JPH10171583A (ja) | 1996-12-05 | 1998-06-26 | Wacom Co Ltd | 位置検出装置およびその位置指示器 |
US6392636B1 (en) | 1998-01-22 | 2002-05-21 | Stmicroelectronics, Inc. | Touchpad providing screen cursor/pointer movement control |
US7663607B2 (en) | 2004-05-06 | 2010-02-16 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
US6188391B1 (en) * | 1998-07-09 | 2001-02-13 | Synaptics, Inc. | Two-layer capacitive touchpad and method of making same |
US6057903A (en) | 1998-08-18 | 2000-05-02 | International Business Machines Corporation | Liquid crystal display device employing a guard plane between a layer for measuring touch position and common electrode layer |
US6478976B1 (en) | 1998-12-30 | 2002-11-12 | Stmicroelectronics, Inc. | Apparatus and method for contacting a conductive layer |
US7030860B1 (en) | 1999-10-08 | 2006-04-18 | Synaptics Incorporated | Flexible transparent touch sensing system for electronic devices |
GB2367530B (en) | 2000-10-03 | 2003-07-23 | Nokia Mobile Phones Ltd | User interface device |
JP2002252340A (ja) | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Sony Corp | 固体撮像素子 |
DE10123633A1 (de) | 2001-05-09 | 2003-02-06 | Ego Elektro Geraetebau Gmbh | Sensorelement |
US6498590B1 (en) | 2001-05-24 | 2002-12-24 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | Multi-user touch surface |
JP2003066417A (ja) | 2001-08-22 | 2003-03-05 | Sharp Corp | タッチセンサ一体型表示装置 |
JP3987729B2 (ja) | 2001-09-11 | 2007-10-10 | シャープ株式会社 | 入出力一体型表示装置 |
US7477242B2 (en) | 2002-05-20 | 2009-01-13 | 3M Innovative Properties Company | Capacitive touch screen with conductive polymer |
US7463246B2 (en) | 2002-06-25 | 2008-12-09 | Synaptics Incorporated | Capacitive sensing device |
US7202859B1 (en) | 2002-08-09 | 2007-04-10 | Synaptics, Inc. | Capacitive sensing pattern |
US7292229B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-11-06 | N-Trig Ltd. | Transparent digitiser |
US7253808B2 (en) | 2002-11-18 | 2007-08-07 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Touch screen system and display device using the same |
US6970160B2 (en) | 2002-12-19 | 2005-11-29 | 3M Innovative Properties Company | Lattice touch-sensing system |
US20050030048A1 (en) * | 2003-08-05 | 2005-02-10 | Bolender Robert J. | Capacitive sensing device for use in a keypad assembly |
US8068186B2 (en) | 2003-10-15 | 2011-11-29 | 3M Innovative Properties Company | Patterned conductor touch screen having improved optics |
US7382139B2 (en) | 2004-06-03 | 2008-06-03 | Synaptics Incorporated | One layer capacitive sensing apparatus having varying width sensing elements |
US7394458B2 (en) | 2004-09-24 | 2008-07-01 | Apple Inc. | Low EMI capacitive trackpad |
US7589713B2 (en) | 2004-10-07 | 2009-09-15 | Alps Electric Co., Ltd. | Capacitive coordinate detection device |
TWI259409B (en) | 2005-01-07 | 2006-08-01 | Au Optronics Corp | Touch panel for recognizing fingerprint and method of making the same |
US7952564B2 (en) | 2005-02-17 | 2011-05-31 | Hurst G Samuel | Multiple-touch sensor |
US7439962B2 (en) | 2005-06-01 | 2008-10-21 | Synaptics Incorporated | Touch pad with flexible substrate |
GB2428306B (en) | 2005-07-08 | 2007-09-26 | Harald Philipp | Two-dimensional capacitive position sensor |
TW200709024A (en) | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Elan Microelectronics Corp | Touch sensor |
US7864160B2 (en) | 2005-10-05 | 2011-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Interleaved electrodes for touch sensing |
US20070132737A1 (en) | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Mulligan Roger C | Systems and methods for determining touch location |
US8166649B2 (en) * | 2005-12-12 | 2012-05-01 | Nupix, LLC | Method of forming an electroded sheet |
US8111243B2 (en) | 2006-03-30 | 2012-02-07 | Cypress Semiconductor Corporation | Apparatus and method for recognizing a tap gesture on a touch sensing device |
US8144125B2 (en) | 2006-03-30 | 2012-03-27 | Cypress Semiconductor Corporation | Apparatus and method for reducing average scan rate to detect a conductive object on a sensing device |
US20070229469A1 (en) | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Ryan Seguine | Non-planar touch sensor pad |
US20070229470A1 (en) | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Warren Snyder | Capacitive touch sense device having polygonal shaped sensor elements |
US8264466B2 (en) | 2006-03-31 | 2012-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern |
TWI322374B (en) | 2006-04-14 | 2010-03-21 | Ritdisplay Corp | Light transmission touch panel and manufacturing method thereof |
CN100530065C (zh) * | 2006-04-20 | 2009-08-19 | 铼宝科技股份有限公司 | 透明触控面板结构 |
US8004497B2 (en) | 2006-05-18 | 2011-08-23 | Cypress Semiconductor Corporation | Two-pin buttons |
US8059015B2 (en) | 2006-05-25 | 2011-11-15 | Cypress Semiconductor Corporation | Capacitance sensing matrix for keyboard architecture |
US8169421B2 (en) | 2006-06-19 | 2012-05-01 | Cypress Semiconductor Corporation | Apparatus and method for detecting a touch-sensor pad gesture |
US8068097B2 (en) | 2006-06-27 | 2011-11-29 | Cypress Semiconductor Corporation | Apparatus for detecting conductive material of a pad layer of a sensing device |
US8040321B2 (en) | 2006-07-10 | 2011-10-18 | Cypress Semiconductor Corporation | Touch-sensor with shared capacitive sensors |
US20080036473A1 (en) | 2006-08-09 | 2008-02-14 | Jansson Hakan K | Dual-slope charging relaxation oscillator for measuring capacitance |
US20080074398A1 (en) | 2006-09-26 | 2008-03-27 | David Gordon Wright | Single-layer capacitive sensing device |
US8120584B2 (en) | 2006-12-21 | 2012-02-21 | Cypress Semiconductor Corporation | Feedback mechanism for user detection of reference location on a sensing device |
US8072429B2 (en) | 2006-12-22 | 2011-12-06 | Cypress Semiconductor Corporation | Multi-axial touch-sensor device with multi-touch resolution |
US8058937B2 (en) | 2007-01-30 | 2011-11-15 | Cypress Semiconductor Corporation | Setting a discharge rate and a charge rate of a relaxation oscillator circuit |
US20080180399A1 (en) | 2007-01-31 | 2008-07-31 | Tung Wan Cheng | Flexible Multi-touch Screen |
US20080231605A1 (en) | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Kai-Ti Yang | Compound touch panel |
CN201078769Y (zh) * | 2007-04-27 | 2008-06-25 | 宸鸿光电科技股份有限公司 | 电容式触控板的触控图型结构 |
US20080297174A1 (en) * | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Sarangan Narasimhan | Capacitive sensing devices |
JP4506785B2 (ja) | 2007-06-14 | 2010-07-21 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 静電容量型入力装置 |
CN101349960B (zh) | 2007-07-16 | 2011-05-04 | 张玉辉 | 触控面板装置 |
CN100495139C (zh) * | 2007-10-10 | 2009-06-03 | 友达光电股份有限公司 | 触控面板及其制作方法 |
TWM344544U (en) * | 2007-12-25 | 2008-11-11 | Cando Corp | Sensory structure of touch panel |
CN101261379A (zh) | 2008-02-01 | 2008-09-10 | 信利半导体有限公司 | 电容式触摸屏及包含该触摸屏的触摸显示器件 |
TW200947289A (en) | 2008-05-12 | 2009-11-16 | Tpk Touch Solutions Inc | Layout method of touch circuit pattern |
CN101587391B (zh) | 2008-05-21 | 2011-06-15 | 宸鸿光电科技股份有限公司 | 触控电路图的制作方法 |
TWM342558U (en) | 2008-05-26 | 2008-10-11 | Young Fast Optoelectronics Co | Capacitive type touch panel |
TWM345294U (en) | 2008-05-28 | 2008-11-21 | Young Fast Optoelectronics Co | Structure improvement of capacitive touch panel |
US8629842B2 (en) * | 2008-07-11 | 2014-01-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light emitting display device |
US8711105B2 (en) | 2008-08-21 | 2014-04-29 | Wacom Co., Ltd. | Touchscreen with extended conductive pattern |
CN101359265B (zh) | 2008-09-10 | 2012-07-04 | 友达光电股份有限公司 | 触控面板、显示器及触控面板的制作方法 |
US8493337B2 (en) | 2008-09-22 | 2013-07-23 | Ritfast Corporation | Light transmission touch panel |
US8816967B2 (en) * | 2008-09-25 | 2014-08-26 | Apple Inc. | Capacitive sensor having electrodes arranged on the substrate and the flex circuit |
US8624845B2 (en) * | 2008-09-26 | 2014-01-07 | Cypress Semiconductor Corporation | Capacitance touch screen |
CN201298221Y (zh) | 2008-10-10 | 2009-08-26 | 达虹科技股份有限公司 | 电容式触控面板的二维感测结构 |
CN101441545A (zh) | 2008-12-08 | 2009-05-27 | 中国南玻集团股份有限公司 | 电容式触控屏及其制造方法 |
US8274486B2 (en) * | 2008-12-22 | 2012-09-25 | Flextronics Ap, Llc | Diamond pattern on a single layer |
JP2010160670A (ja) | 2009-01-08 | 2010-07-22 | Seiko Epson Corp | タッチパネルの製造方法、タッチパネル、表示装置、及び電子機器 |
CN201374687Y (zh) | 2009-03-20 | 2009-12-30 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 电容式触控电路图形结构 |
US9024907B2 (en) | 2009-04-03 | 2015-05-05 | Synaptics Incorporated | Input device with capacitive force sensor and method for constructing the same |
KR101073333B1 (ko) | 2009-08-27 | 2011-10-12 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 |
CN102033669B (zh) | 2009-09-24 | 2013-08-14 | 群康科技(深圳)有限公司 | 电容式触控面板 |
TWI427520B (zh) | 2009-12-10 | 2014-02-21 | Au Optronics Corp | 觸控顯示面板以及觸控基板 |
JP5566142B2 (ja) | 2010-03-17 | 2014-08-06 | オートスプライス株式会社 | クリップ端子 |
KR101100987B1 (ko) | 2010-03-23 | 2011-12-30 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 터치 스크린 패널 |
KR101040881B1 (ko) | 2010-04-12 | 2011-06-16 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 터치 스크린 패널 |
KR101448251B1 (ko) | 2010-10-28 | 2014-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널 및 이를 구비한 표시 장치 |
CN102799301B (zh) | 2011-05-28 | 2015-05-20 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控面板的电极结构、制造方法以及触控面板 |
JP6184729B2 (ja) | 2013-04-17 | 2017-08-23 | 株式会社長谷工コーポレーション | 結合部材 |
-
2010
- 2010-03-19 EP EP10753074.3A patent/EP2410411B1/en active Active
- 2010-03-19 US US13/256,933 patent/US10282040B2/en active Active
- 2010-03-19 KR KR1020107026862A patent/KR101304787B1/ko active IP Right Grant
- 2010-03-19 JP JP2012500043A patent/JP5829206B2/ja active Active
- 2010-03-19 WO PCT/CN2010/000334 patent/WO2010105507A1/zh active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007299385A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-15 | Ritdisplay Corp | 透明タッチパネル |
JP3134925U (ja) * | 2007-04-27 | 2007-08-30 | 宸鴻光電科技股▲分▼有限公司 | 静電容量式タッチパッドのタッチ模様構造 |
JP2008310551A (ja) * | 2007-06-14 | 2008-12-25 | Epson Imaging Devices Corp | 静電容量型入力装置 |
JP2009009574A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Sense Pad Tech Co Ltd | 容量方式のタッチパネル |
JP2010033478A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-12 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置 |
WO2010029979A1 (ja) * | 2008-09-12 | 2010-03-18 | オプトレックス株式会社 | 静電容量型タッチパネル、表示装置および静電容量型タッチパネルの製造方法 |
JP3149113U (ja) * | 2008-12-25 | 2009-03-12 | 洋華光電股▲ふん▼有限公司 | キャパシタ式接触制御インダクション構造 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011086122A (ja) * | 2009-10-15 | 2011-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 静電容量式タッチパネルセンサおよび当該タッチパネルセンサの製造方法 |
JP2012068287A (ja) * | 2010-09-21 | 2012-04-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ基板及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010105507A1 (zh) | 2010-09-23 |
US10282040B2 (en) | 2019-05-07 |
JP5829206B2 (ja) | 2015-12-09 |
EP2410411A1 (en) | 2012-01-25 |
EP2410411A4 (en) | 2013-10-02 |
EP2410411B1 (en) | 2019-03-06 |
KR20110000760A (ko) | 2011-01-05 |
US20120127099A1 (en) | 2012-05-24 |
KR101304787B1 (ko) | 2013-09-05 |
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