JP2012222156A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 金属積層膜が形成された複数の基板を収納する処理室と、
   前記処理室を内部に構成する反応管と、
   前記処理室にセレン元素含有ガス又は硫黄元素含有ガスを導入するガス供給管と、
   前記処理室内の雰囲気を排気する排気管と、
   前記反応管を囲うように設けられた加熱部と、
   前記複数の基板の表面において、前記複数の基板の短辺方向に前記処理室内の雰囲気を対流させるファンと、を具備する基板処理装置。
2. 請求項１において、
   前記ファンは、前記基板の長辺方向に沿って複数配置される基板処理装置。
3. 請求項１において、
   前記複数の基板の長辺方向に延在し、前記複数の基板を挟むように設けられた一対のインナーウォールを更に具備する基板処理装置。
4. 請求項３において、前記一対のインナーウォールは、更に前記ファンの側面を挟むように設けられる基板処理装置。
5. 複数の基板を保持するカセットを処理室内に搬送する搬送装置であって、
   前記カセットを支持する支持部と、
   前記支持部に固定される車輪部と、
   前記支持部及び前記車輪部を一体的に動作させるアームと、を具備する搬送装置。