JP2010239142A5 - - Google Patents

Claims (2)

1. 多数の基板を並列に保持した基板保持具を先端面が外側に湾曲している反応管内に一端側の開口部から搬入し、前記反応管内を減圧した後に処理ガスを供給して、加熱雰囲気下において前記基板に対して熱処理を行う熱処理装置において、
   前記反応管内を下方側から真空排気するための真空排気手段と、
   前記反応管を囲むように設けられた加熱手段と、
   前記反応管の先端面と基板保持具の収納領域との間の空間に設けられ、前記空間を埋めるための構造体と、
   前記反応管の側壁外面に沿って当該反応管の下部から前記構造体よりも上方側まで形成されたガス供給ダクトと、
   前記ガス供給ダクト内に連通し、当該ガス供給ダクト内を上昇した処理ガスを前記反応管内に供給するために、前記反応管における前記構造体よりも上方側の部位に開口するガス吐出口と、
   前記ガス供給ダクトの下部に処理ガスを供給するためのガス供給部と、
   を備え、
   前記ガス供給ダクトにおける反応管側の壁部は、当該反応管の壁部により構成されていることを特徴とする熱処理装置。
2. 多数の基板を並列に保持した基板保持具を先端面が外側に湾曲している反応管内に一端側の開口部から搬入し、前記反応管内を減圧した後に処理ガスを供給して、加熱雰囲気下において前記基板に対して熱処理を行う熱処理方法において、
   前記反応管内に多数の前記基板を保持した前記基板保持具を搬入する工程と、
   前記反応管内を下方側から真空排気する工程と、
   前記反応管の外側にて当該反応管の下部から反応管の上部まで伸びるように形成されたガス供給ダクト内に、当該ガス供給ダクトの下部から処理ガスを供給する工程と、
   前記ガス供給ダクト内を上昇した処理ガスを、前記反応管の先端面と基板保持具の収納領域との間の空間を埋めるために設けられた構造体の上部側に開口するガス供給口を介して反応管内に供給する工程と、
   前記反応管を囲むように設けられた加熱手段により、前記基板を加熱して熱処理を行う工程と、を含み、
   前記ガス供給ダクトにおける反応管側の壁部は、当該反応管の壁部により構成されていることを特徴とする熱処理方法。