JP2012174850A - 基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハ上のポリシリコン層38が臭化水素ガス、酸素ガス及び三弗化窒素ガスを含む処理ガスから生成されたプラズマ中の臭素陽イオン45aや臭素ラジカル45bでエッチングされ、次いで、該エッチング中に生成された臭化珪素系デポ物44が酸素ガス及び窒素ガスを含む処理ガスから生成されたプラズマ中の酸素ラジカル46や窒素ラジカル47で酸化処理されて酸化珪素に変成し、該酸化珪素がアルゴンガス及び三弗化窒素ガスを含む処理ガスから生成されたプラズマ中のフッ素陽イオン48aやフッ素ラジカル48bで引き続きエッチングされることによって、ホール43のエッチングレート低下が防止される。
【選択図】図3
Description
10 基板処理装置
15 処理室
38 ポリシリコン層
43 ホール
44 デポ
45a 臭素陽イオン
45b 臭素ラジカル
46 酸素ラジカル
47 窒素ラジカル
48a フッ素陽イオン
48b フッ素ラジカル
Claims (13)
- ウエハを収容する処理室を備える基板処理装置において、臭素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記ウエハ上に形成されたシリコン層をエッチングするメインエッチングステップと、
酸素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記エッチングされたシリコン層をアッシングするアッシングステップと、
フッ素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記アッシングされたシリコン層をエッチングするブレークスルーエッチングステップとを有し、
前記アッシングステップは、前記メインエッチングにおいて生成された反応性生成物に酸化処理を施す酸化ステップを含むことを特徴とする基板処理方法。 - 前記メインエッチングステップ、前記アッシングステップ、及び前記ブレークスルーエッチングステップをこの順で2回以上繰り返すことを特徴とする請求項1記載の基板処理方法。
- 前記メインエッチングステップに先立って、前記臭素を含む処理ガス及び前記フッ素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記シリコン層をエッチングする事前エッチングステップをさらに有することを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理方法。
- 前記酸素を含む処理ガスは窒素ガスを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- 前記メインエッチングステップの実行時間、前記アッシングステップの実行時間、及び前記ブレークスルーエッチングステップの実行時間の比は、42〜48:1〜2:2〜3であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- 前記ブレークスルーエッチングステップにおいて、前記基板処理装置で用いられる2つの高周波電力のうちの低い周波数の高周波電力の周波数は13.52MHzよりも小さいことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- 前記低い周波数の高周波電力の周波数は3MHzよりも小さいことを特徴とする請求項6記載の基板処理方法。
- 前記メインエッチングステップ、前記アッシングステップ、及び前記ブレークスルーエッチングステップにおいて前記処理室内の圧力を同じ値に維持することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- 前記メインエッチングステップ、前記アッシングステップ、及び前記ブレークスルーエッチングステップにおいて前記基板処理装置で用いられる2つの高周波電力の出力値を同じ値に維持することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- 前記メインエッチングステップ、前記アッシングステップ、及び前記ブレークスルーエッチングステップにおいて前記処理室内に供給される前記処理ガスの総流量を同じ値に維持することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の基板処理方法。
- ウエハを収容する処理室を備える基板処理装置において前記ウエハに所定の処理を施す基板処理方法をコンピュータに実行させるプログラムを格納するコンピュータで読み取り可能な記憶媒体であって、前記基板処理方法は、
ウエハを収容する処理室を備える基板処理装置において、臭素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記ウエハ上に形成されたシリコン層をエッチングするメインエッチングステップと、
酸素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記エッチングされたシリコン層をアッシングするアッシングステップと、
フッ素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記アッシングされたシリコン層をエッチングするブレークスルーエッチングステップとを有し、
前記アッシングステップは、前記メインエッチングにおいて生成された反応性生成物に酸化処理を施す酸化ステップを含むことを特徴とする記憶媒体。 - 前記メインエッチングステップ、前記アッシングステップ、及び前記ブレークスルーエッチングステップをこの順で2回以上繰り返すことを特徴とする請求項11記載の記憶媒体。
- 前記メインエッチングステップに先立って、前記臭素を含む処理ガス及び前記フッ素を含む処理ガスから生成されたプラズマで前記シリコン層をエッチングする事前エッチングステップをさらに有することを特徴とする請求項11又は12記載の記憶媒体。
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