JP2012146731A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012146731A5 JP2012146731A5 JP2011001991A JP2011001991A JP2012146731A5 JP 2012146731 A5 JP2012146731 A5 JP 2012146731A5 JP 2011001991 A JP2011001991 A JP 2011001991A JP 2011001991 A JP2011001991 A JP 2011001991A JP 2012146731 A5 JP2012146731 A5 JP 2012146731A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- holes
- electron beam
- active species
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011001991A JP5709535B2 (ja) | 2011-01-07 | 2011-01-07 | 電子ビーム描画装置、およびそれを用いた物品の製造方法 |
| US13/343,752 US8698095B2 (en) | 2011-01-07 | 2012-01-05 | Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011001991A JP5709535B2 (ja) | 2011-01-07 | 2011-01-07 | 電子ビーム描画装置、およびそれを用いた物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012146731A JP2012146731A (ja) | 2012-08-02 |
| JP2012146731A5 true JP2012146731A5 (enExample) | 2014-02-20 |
| JP5709535B2 JP5709535B2 (ja) | 2015-04-30 |
Family
ID=46455523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011001991A Expired - Fee Related JP5709535B2 (ja) | 2011-01-07 | 2011-01-07 | 電子ビーム描画装置、およびそれを用いた物品の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8698095B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5709535B2 (enExample) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5683227B2 (ja) * | 2010-11-19 | 2015-03-11 | キヤノン株式会社 | 電子ビーム描画装置、およびそれを用いた物品の製造方法 |
| JP5785436B2 (ja) * | 2011-05-09 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線描画装置およびそのクリーニング方法ならびにデバイスの製造方法 |
| CN104321701B (zh) * | 2012-03-20 | 2017-04-12 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 用于运输自由基的装置和方法 |
| US11348756B2 (en) | 2012-05-14 | 2022-05-31 | Asml Netherlands B.V. | Aberration correction in charged particle system |
| US10586625B2 (en) | 2012-05-14 | 2020-03-10 | Asml Netherlands B.V. | Vacuum chamber arrangement for charged particle beam generator |
| CN104428866A (zh) | 2012-05-14 | 2015-03-18 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 带电粒子光刻系统和射束产生器 |
| DE112016000265B4 (de) | 2015-01-30 | 2022-05-19 | Robert Bosch Gmbh | Elektrostatische Linsenreinigung |
| JP6439620B2 (ja) * | 2015-07-28 | 2018-12-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子源のクリーニング方法及び電子ビーム描画装置 |
| US9981293B2 (en) | 2016-04-21 | 2018-05-29 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3466744B2 (ja) | 1993-12-29 | 2003-11-17 | 株式会社東芝 | 洗浄機能付き荷電ビーム装置および荷電ビーム装置の洗浄方法 |
| JPH09245716A (ja) * | 1996-03-04 | 1997-09-19 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画方法および描画装置およびこれを用いた半導体集積回路 |
| JP2005208120A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Ebara Corp | 試料修正装置及び試料修正方法並びに該方法を用いたデバイス製造方法 |
| JP2007088386A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光装置のクリーニング方法 |
| US8349125B2 (en) * | 2009-07-24 | 2013-01-08 | Xei Scientific, Inc. | Cleaning device for transmission electron microscopes |
| JP5785436B2 (ja) * | 2011-05-09 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線描画装置およびそのクリーニング方法ならびにデバイスの製造方法 |
-
2011
- 2011-01-07 JP JP2011001991A patent/JP5709535B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-01-05 US US13/343,752 patent/US8698095B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012146731A5 (enExample) | ||
| JP2011018915A5 (enExample) | ||
| JP2009535788A5 (enExample) | ||
| JP2013171925A5 (enExample) | ||
| JP2011044713A5 (enExample) | ||
| WO2011098325A3 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| JP2012074388A5 (ja) | 放射源、リソグラフィ装置、並びに放射源又はリソグラフィ装置を用いる方法 | |
| JP2004321830A5 (enExample) | ||
| JP2013519228A5 (enExample) | ||
| JP2015183224A5 (enExample) | ||
| JP2015178192A5 (enExample) | ||
| JP2011155285A5 (ja) | 交換方法、露光方法及びデバイス製造方法 | |
| JP2012164992A5 (enExample) | ||
| JP2013527609A5 (enExample) | ||
| JP2017510823A5 (enExample) | ||
| JP2014161531A5 (enExample) | ||
| WO2013107686A3 (en) | Source-collector device, lithographic apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2013074088A5 (enExample) | ||
| JP2011223036A5 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2019016801A5 (ja) | 物体移動方法、物体移動装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
| JP2014086524A5 (enExample) | ||
| JP2014107282A5 (enExample) | ||
| WO2015124457A8 (en) | Lithographic apparatus and method | |
| JP2016027604A5 (enExample) | ||
| WO2012148117A3 (ko) | 레이저 분할빔을 이용한 선택적 박막 제거장치 |