JP2013074088A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013074088A5 JP2013074088A5 JP2011211863A JP2011211863A JP2013074088A5 JP 2013074088 A5 JP2013074088 A5 JP 2013074088A5 JP 2011211863 A JP2011211863 A JP 2011211863A JP 2011211863 A JP2011211863 A JP 2011211863A JP 2013074088 A5 JP2013074088 A5 JP 2013074088A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drawing data
- change
- substrate
- charged particle
- particle beams
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011211863A JP2013074088A (ja) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | 荷電粒子線描画装置、描画データ生成方法、描画データ生成プログラム、それを用いた物品の製造方法 |
| US13/629,994 US20130078577A1 (en) | 2011-09-28 | 2012-09-28 | Charged particle beam drawing apparatus, drawing data generation method, drawing data generation program storage medium, and article manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011211863A JP2013074088A (ja) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | 荷電粒子線描画装置、描画データ生成方法、描画データ生成プログラム、それを用いた物品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013074088A JP2013074088A (ja) | 2013-04-22 |
| JP2013074088A5 true JP2013074088A5 (enExample) | 2014-11-06 |
Family
ID=47911641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011211863A Abandoned JP2013074088A (ja) | 2011-09-28 | 2011-09-28 | 荷電粒子線描画装置、描画データ生成方法、描画データ生成プログラム、それを用いた物品の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130078577A1 (enExample) |
| JP (1) | JP2013074088A (enExample) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013008878A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-01-10 | Canon Inc | 描画装置、物品の製造方法、及び処理装置 |
| JP6215586B2 (ja) | 2012-11-02 | 2017-10-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP6212299B2 (ja) * | 2013-06-26 | 2017-10-11 | キヤノン株式会社 | ブランキング装置、描画装置、および物品の製造方法 |
| JP6262024B2 (ja) * | 2014-03-04 | 2018-01-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| US9952511B2 (en) | 2014-06-13 | 2018-04-24 | Intel Corporation | Ebeam non-universal cutter |
| CN106537556B (zh) | 2014-08-19 | 2021-09-07 | 英特尔公司 | 利用电子束通用切具的交叉扫描接近度校正 |
| JP6537592B2 (ja) | 2014-08-19 | 2019-07-03 | インテル・コーポレーション | 電子ビーム(ebeam)直接書き込みシステムのためのコーナー部の丸み補正 |
| JP6700152B2 (ja) * | 2016-10-18 | 2020-05-27 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチビーム焦点調整方法およびマルチビーム焦点測定方法 |
| US11869746B2 (en) * | 2019-07-25 | 2024-01-09 | Nuflare Technology, Inc. | Multi-beam writing method and multi-beam writing apparatus |
| JP7458817B2 (ja) * | 2020-02-18 | 2024-04-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP7548862B2 (ja) * | 2021-04-05 | 2024-09-10 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| TWI886395B (zh) | 2021-06-14 | 2025-06-11 | 日商紐富來科技股份有限公司 | 多帶電粒子束描繪裝置 |
| JP7729132B2 (ja) * | 2021-09-14 | 2025-08-26 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画方法、マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5433392Y2 (enExample) * | 1974-06-20 | 1979-10-15 | Sony Corp | |
| US4125772A (en) * | 1977-10-13 | 1978-11-14 | American Optical Corporation | Scanning electron microscope with eddy-current compensation |
| JP3971174B2 (ja) * | 2001-12-04 | 2007-09-05 | 株式会社アドバンテスト | 露光方法、電子ビーム露光装置、及び電子部品製造方法 |
| JP4652830B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2011-03-16 | キヤノン株式会社 | 収差調整方法、デバイス製造方法及び荷電粒子線露光装置 |
-
2011
- 2011-09-28 JP JP2011211863A patent/JP2013074088A/ja not_active Abandoned
-
2012
- 2012-09-28 US US13/629,994 patent/US20130078577A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013074088A5 (enExample) | ||
| US9278448B2 (en) | Position control for a positioning system comprising larger scale and smaller scale positioning mechanisms | |
| JP6234596B1 (ja) | 3次元積層造形システム、3次元積層造形方法、積層造形制御装置およびその制御方法と制御プログラム | |
| WO2013192219A3 (en) | Cam integrated cnc control of machines | |
| JP2017131973A5 (ja) | ロボット軌道生成方法、ロボット軌道生成装置、および製造方法 | |
| MX2016008628A (es) | Sistema y metodo para manipular una uña. | |
| JP2013016744A5 (enExample) | ||
| EP4530937A3 (en) | Methods and apparatus for performing phase operations | |
| JP2014515885A5 (enExample) | ||
| JP2016021532A5 (enExample) | ||
| JP2008529121A5 (enExample) | ||
| JP2018114576A (ja) | オフラインプログラミング装置及び位置パラメータ補正方法 | |
| MX2012010627A (es) | Sistemas para la simulacion de maquinay prediccion de respuestas de proceso. | |
| JP2015012036A5 (enExample) | ||
| JP2013115487A5 (enExample) | ||
| Zarafshan et al. | Dynamics modelling and hybrid suppression control of space robots performing cooperative object manipulation | |
| JP2012155488A5 (ja) | 画像形成装置及びその制御方法、並びにプログラム | |
| JP2012238171A5 (enExample) | ||
| US9256348B2 (en) | Posture creation with tool pickup | |
| JP6096294B2 (ja) | フィーダおよび実装機 | |
| WO2013029893A3 (en) | Lithographic system, method of controlling a lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| CN103268381B (zh) | 一种基于虚拟现实技术的双工件台半物理仿真方法 | |
| JP2019083028A5 (enExample) | ||
| TW201606468A (zh) | 定位控制裝置之同步控制設定方法及定位控制裝置之控制設定裝置 | |
| JP2011086892A5 (ja) | 走査露光装置、制御装置、および、デバイス製造方法 |