JP2012129547A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2012039440A JP2012129547A (ja) | 2012-02-25 | 2012-02-25 | 基板載置台、基板処理装置、および温度制御方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007227708A Division JP2009060011A (ja) | 2007-09-03 | 2007-09-03 | 基板載置台、基板処理装置、及び温度制御方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2012129547A JP2012129547A (ja) | 2012-07-05 |
| JP2012129547A5 true JP2012129547A5 (enExample) | 2012-09-06 |
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ID=46646190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012039440A Pending JP2012129547A (ja) | 2012-02-25 | 2012-02-25 | 基板載置台、基板処理装置、および温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012129547A (enExample) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6684710B2 (ja) * | 2013-11-22 | 2020-04-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 静電チャック表面向けのパッド設計 |
| JP6650808B2 (ja) * | 2016-03-29 | 2020-02-19 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
| TWI748304B (zh) | 2018-12-21 | 2021-12-01 | 日商Toto股份有限公司 | 靜電吸盤 |
| US11145532B2 (en) | 2018-12-21 | 2021-10-12 | Toto Ltd. | Electrostatic chuck |
| US11393708B2 (en) | 2018-12-21 | 2022-07-19 | Toto Ltd. | Electrostatic chuck |
| JP7407529B2 (ja) | 2019-07-10 | 2024-01-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板載置台、基板処理装置及び温度制御方法 |
| WO2021240945A1 (ja) | 2020-05-25 | 2021-12-02 | 日本碍子株式会社 | 静電チャック |
| JP7606917B2 (ja) * | 2021-04-16 | 2024-12-26 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05234944A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-10 | Hitachi Ltd | ウエハ温度制御方法及び装置 |
| JPH07201956A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Nippon Steel Corp | ウエハ冷却装置 |
| JPH07335630A (ja) * | 1994-06-13 | 1995-12-22 | Hitachi Ltd | 真空処理装置 |
| JP2951876B2 (ja) * | 1995-11-10 | 1999-09-20 | 株式会社日立製作所 | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP4237317B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2009-03-11 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理装置 |
| JP4039645B2 (ja) * | 1998-01-16 | 2008-01-30 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置 |
| JP3507331B2 (ja) * | 1998-05-20 | 2004-03-15 | 松下電器産業株式会社 | 基板温度制御方法及び装置 |
| JP3834466B2 (ja) * | 2000-10-30 | 2006-10-18 | 株式会社日立製作所 | 半導体製造装置の制御方法 |
| JP4128469B2 (ja) * | 2003-02-25 | 2008-07-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
| JP4611217B2 (ja) * | 2006-01-30 | 2011-01-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ウエハ載置用電極 |
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2012
- 2012-02-25 JP JP2012039440A patent/JP2012129547A/ja active Pending
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