JP2012084600A5

JP2012084600A5 -

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Publication number: JP2012084600A5
Application number: JP2010227640A
Authority: JP
Filing date: 2010-10-07
Publication date: 2013-11-07
Anticipated expiration: 2030-10-07

Claims

処理室が設けられた真空処理容器と、前記真空処理容器内にガスを供給するガス供給装置と、前記ガスを解離してプラズマを生成するための電磁エネルギーを供給する手段とを備えたプラズマ処理装置を用いてＴｉ含有材料を含む試料をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
前記Ｔｉ含有材料を含む試料のプラズマ処理後に、前記処理室表面に堆積するＴｉ反応生成物に対してカーボン系膜を堆積させるカーボン系堆積放電の工程と、
その後、前記処理室表面に堆積する前記カーボン系膜とＴｉとを除去する塩素系放電の工程とを含むことを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項１記載のプラズマ処理方法において、
前記カーボン系堆積放電の工程の直前に、前記処理室表面に堆積するＴｉ反応生成物に対してＴｉ酸化物に変化させる酸化放電の工程を導入することを特徴とするプラズマの処理方法。
請求項１又は２に記載のプラズマ処理方法において、
前記カーボン系膜を堆積させる工程で用いるガスは、ＣＨＦ_３、ＣＨ_４、Ｃ_４Ｆ_６、Ｃ_４Ｆ_８、ＣＨ_３Ｆ、ＣＨＦ_２ガスのうちの少なくとも一つであり、
前記カーボン系膜とＴｉを除去する工程で用いるガスは、Ｃｌ_２、ＨＣｌガスの少なくとも一つであることを特徴とするプラズマの処理方法。
請求項２に記載のプラズマ処理方法において、
前記酸素系放電の工程で用いるガスは、Ｏ_２ガスであることを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項１又は２記載のプラズマ処理方法において、
カーボン系堆積放電の工程は、発光又はソースパワーの反射電力変化又は圧力変化を用いてプラズマの着火を検出する検出工程と、前記検出工程における検出情報を用いてプラズマ着火直後に放電を終了させる工程とを含むことを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記カーボン系堆積放電の工程と、前記塩素系放電の工程とを繰返すことを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項６記載のプラズマ処理方法において、
前記処理室内のＴｉ残量を確認する工程を有し、
前記処理室表面のＴｉの残り量を推定できる塩素系放電の工程中のＴｉＣｌ又はＴｉの最大発光強度が基準値以下である場合に、前記カーボン系堆積放電の工程と前記塩素系放電の工程の繰返しを止めることを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記カーボン系堆積放電の工程と塩素系放電の工程の間の放電を継続することを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項２又は４に記載のプラズマ処理方法において、
前記酸素放電の工程と前記カーボン系堆積放電の工程の間の放電を継続することを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記カーボン系堆積放電の工程と前記塩素系放電の工程の最中に、前記処理室内にブローガスを放出し、プラズマ発生領域以外に堆積したＴｉ系反応生成物を前記プラズマ発生領域に飛散させ、除去することを特徴とするプラズマ処理方法。
請求項１、２、４のいずれか一項に記載のプラズマ処理方法において、
前記塩素系放電の工程は、前記カーボン系堆積放電の工程の直後に実施されることを特徴とするプラズマ処理方法。
真空処理容器と、前記真空処理容器内に配置された処理室と、前記真空処理容器内にガスを供給するガス供給装置と、前記ガスを解離してプラズマを生成するための電磁エネルギーを供給するエネルギー供給手段と、前記ガス供給装置及び前記エネルギー供給手段を制御する制御装置とを備えたプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、Ｔｉ含有材料を含む試料がプラズマ処理された後、前記処理室表面に堆積するＴｉ反応生成物に対してカーボン系膜を堆積させるカーボン系堆積放電と、その後、前記処理室表面に堆積する前記カーボン系膜とＴｉとを除去する塩素系放電とを行なうように前記ガス供給装置及び前記エネルギー供給手段を制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。
請求項１２記載のプラズマ処理装置において、
前記処理室は、Ｔｉ含有材料を含む試料がプラズマ処理されるものであり、前記処理室内部においてプラズマ発生領域以外の領域に堆積したＴｉ反応生成物を飛散させるためのガスを放出させるブロー管を更に有することを特徴とするプラズマ処理装置。
請求項１２記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記カーボン系堆積放電と前記塩素系放電とを複数回繰返すように前記ガス供給装置及び前記エネルギー供給手段を制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。
請求項１４記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は表示画面を備え、
前記表示画面は、Ｔｉ或いはＴｉＣｌの発光強度の時間変化の履歴と、前記カーボン系堆積放電と前記塩素系放電との繰返しの終了判定の設定画面を表示するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。
請求項１２記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、Ｔｉ含有材料を含む試料がプラズマ処理された後であってカーボン系堆積放電の前に、酸素系放電を行うように前記ガス供給装置及び前記エネルギー供給手段を制御するものであることを特徴とするプラズマ処理装置。