JP2012079907A5 - 基板処理装置、基板処理方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 基板保持体に保持された基板を処理する処理室と、
前記処理室に隣接し、前記基板保持体に前記基板を移載する移載室と、
前記移載室内にクリーンエアを吹き出すクリーンユニットと、を備え、
前記クリーンユニットは、平面多角形状に構成された前記移載室内における角部に当該角部の対角線方向に向けて配設されることを特徴とする基板処理装置。 - 前記クリーンユニットが配設された前記角部とは別の前記移載室内における角部に、当該移載室内のエアを排気する排気部を設けることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
- 前記クリーンユニットが吹き出すクリーンエアの風向を少なくとも互いに異なる３方向とする風向板を備えることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
- 基板を処理する処理室に隣接する平面多角形状に構成された移載室内における角部に当該角部の対角線方向に向けて配設されたクリーンユニットから前記移載室内にクリーンエアを吹き出す前記移載室内にて、基板を基板保持体に移載する移載工程と、
前記基板保持体に保持された前記基板を処理する処理工程と、を有する基板処理方法。 - 基板を処理する処理室に隣接する平面多角形状に構成された移載室内における角部に当該角部の対角線方向に向けて配設されたクリーンユニットから前記移載室内にクリーンエアを吹き出す前記移載室内にて、基板を基板保持体に移載する移載工程と、
前記基板保持体に保持された前記基板を処理する処理工程と、有する半導体装置の製造方法。
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