JP2012079438A - 光学積層体及び面光源装置 - Google Patents

Abstract

【課題】十分な表面硬さを有し且つ層間の密着性が高く耐久性が高い光学積層体、及びそれを備えた面光源装置を提供する。
【解決手段】基材、前記基材の表面に設けられる易接着層、及び前記易接着層に直接接して設けられる表面層を備える光学積層体であって、前記易接着層は、ウレタン樹脂を含む組成物Ｘにより形成された層であり、前記表面層は、モノマーＡとモノマーＢとを含む組成物Ｙを硬化してなる層であり、前記モノマーＡは、１分子あたり１以上のイソシアネート基を含み且つ１分子あたり１以上の重合性不飽和基を含むモノマーであり、前記モノマーＢは、重合性不飽和基を１分子あたり３以上有し、かつイソシアネート基を含まないモノマーである光学積層体；並びにそれを備える面光源装置。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体及びそれを備える面光源装置に関する。

従来より、表示装置、光源装置、照明器具等の光学装置を構成する部材として、光学積層体を設けることが広く行われている。例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等の発光素子を有する光源装置の光取り出し効率を向上させる目的で、発光素子の表面に、アクリル樹脂を硬化させてなる光取り出しフィルムを設けることが提案されている（特許文献１）。
また、アクリル樹脂の層を脂環式オレフィン樹脂フィルム層上に設ける場合に、その密着性を改善する等の目的で、かかるアクリル樹脂の層と脂環式オレフィン樹脂フィルム層との間に、ウレタン樹脂を含む所定の層を設けることも提案されている（特許文献２）。

国際公開第２００９／０８１７５０号 特開２００９−２７４３９０号公報

有機ＥＬ素子を有効に封止するためにガスバリア性能の高い脂環式オレフィン樹脂フィルムを採用し、さらにその上に光取り出しフィルムを設ける場合、かかる光取り出しフィルムは、脂環式オレフィン樹脂フィルムと良好に密着させることが必要であり、且つ、十分な表面硬さも必要である。
しかしながら、従来技術において見出された、十分な表面硬さを有するアクリル樹脂は、いずれも、上記特許文献２に記載される易接着層を用いても、十分な密着性をもって脂環式オレフィン樹脂フィルムに密着させることができないという問題点がある。
特に、光取り出しフィルムとして、光取り出し効率を高めるための凹凸構造層を設けたものを採用する場合、凹凸構造の欠損を防ぐため、かかるフィルムの材料としては硬度の高いものを用いる必要があるが、そのような高い硬度を有し、且つ脂環式オレフィン樹脂フィルムと十分な密着性をもって密着させることができるものは見出されていない。

したがって、本発明の目的は、十分な表面硬さを有する光学積層体であって、且つ積層体を構成する層間の密着性が高く耐久性が高い光学積層体を提供することにある。

本発明の別の目的は、有機ＥＬ素子を備える面光源装置であって、光取り出し効率が高く、表面硬さが高く、層間の剥離が生じにくく、高い耐久性を有する面光源装置を提供することにある。

上述した課題を解決するために本発明者らは検討した結果、基材と、光取り出しのための表面層とを有する光学積層体において、基材と表面層との間に所定の易接着層を設けるのに加え、表面層の材質を所定のものとすることにより、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明によれば、下記のものが提供される。

〔１〕 基材、前記基材の表面に設けられる易接着層、及び前記易接着層に直接接して設けられる表面層を備える光学積層体であって、
前記易接着層は、ウレタン樹脂を含む組成物Ｘにより形成された層であり、
前記表面層は、モノマーＡとモノマーＢとを含む組成物Ｙを硬化してなる層であり、
前記モノマーＡは、１分子あたり１以上のイソシアネート基を含み且つ１分子あたり１以上の重合性不飽和基を含むモノマーであり、
前記モノマーＢは、重合性不飽和基を１分子あたり３以上有し、かつイソシアネート基を含まないモノマーである
光学積層体。
〔２〕 〔１〕に記載の光学積層体において、
前記組成物Ｙにおいて、モノマー全量中のイソシアネート基の含有割合が０．２５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、且つ、モノマー全量中の前記モノマーＢの割合が１５重量％以上である光学積層体。
〔３〕 〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体において、
前記組成物Ｙが、光重合開始剤をさらに含む光学積層体。
〔４〕 〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体において、
前記表面層は、前記易接着層に接する面と反対側の面に設けられた凹凸構造を有する光学積層体。
〔５〕 〔４〕に記載の光学積層体において、
前記表面層は、
前記易接着層上に前記組成物Ｙを塗布して塗膜を得、
前記塗膜に型を当てた状態で、前記基材及び前記易接着層を通して前記塗膜に光を照射して前記組成物Ｙを硬化させ、
前記型を剥離してなるものである
光学積層体。
〔６〕 〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体において、
前記表面層は、粒子を含有する光学積層体。
〔７〕 〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の光学積層体において、
前記易接着層は、シリカ粒子を含有する光学積層体。
〔８〕 〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の光学積層体において、
前記組成物Ｘは、前記ウレタン樹脂を、水系ウレタン樹脂として含む光学積層体。
〔９〕 有機エレクトロルミネッセンス発光素子を備える面光源装置であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子よりも出光面側に、〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の光学積層体をさらに備える面光源装置。

本発明の光学積層体は、易接着層を介した基材と表面層との密着性が高く、且つ表面層の表面硬さが十分に高いため、これを表面に有する装置の耐久性を高めることができる。さらに、基材として脂環式構造含有重合体樹脂を用いた場合には、上記のような特徴を有しながら、さらに脂環式構造含有重合体樹脂の良好なガスバリア性能をも発揮することができ、装置の経時的劣化を抑制することができる。また、本発明の面光源装置は、前記本発明の光学積層体を備えるため、光学積層体により光取り出し効率を高めることができ、表面硬さが高く、層間の剥離が生じにくく、単純な構造で高い耐久性を有する装置としうる。

図１は、凹凸構造を有する表面層を備える本発明の光学積層体の一例を概略的に示す斜視図である。 図２は、図１に示した光学積層体を線１ａ−１ｂを通る面で切断した断面を示す断面図である。 図３は、図１に示す光学積層体の光拡散層の表面の構造を拡大して模式的に示す部分上面図である。 図４は、図３に示す光拡散層を、図３の線１０ａを通り光学積層体の主面に垂直な面で切断した断面を示す部分断面図である。 図５は、本発明の面光源装置の一例を模式的に示す斜視図である。 図６は、図５に示す面光源装置１０を、図５中の線１ａ−１ｂを通り且つ基材の面方向と垂直な面で切断した断面を示す断面図である。

〔概要〕
本発明の光学積層体は、基材、前記基材の表面に設けられる易接着層、及び前記易接着層に直接接して設けられる表面層を備える。

〔基材〕
本発明に用いる基材としては、光学積層体の構成要素として用いうる任意のフィルムを用いることができる。基材として用いうるフィルムの材料としては、具体的には、易接着層との密着性、光学積層体の部材としての強度、透明性などの観点から、脂環式構造含有重合体樹脂を好ましく挙げることができる他、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、（メタ）アクリル樹脂等を挙げることができる。

〔基材：脂環式構造含有重合体樹脂〕
脂環式構造含有重合体樹脂とは、脂環式構造含有重合体と、必要に応じてその他の任意の成分とを含有する樹脂である。

脂環式構造含有重合体は、主鎖及び／又は側鎖に脂環構造を有し、通常、非晶性の熱可塑性重合体である。脂環式構造含有重合体中の脂環構造としては、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。脂環構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。

脂環式構造含有重合体を構成する脂環構造を有する繰り返し単位の割合は、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、透明性および耐熱性の観点から好ましい。

脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン重合体、単環の環状オレフィン重合体、環状共役ジエン重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及び、これらの水素化物等が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物等が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。
脂環式構造含有重合体樹脂は、脂環式構造含有重合体として、これらの重合体のうち１種類のみを単独で含有してもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて含有してもよい。

脂環式構造含有重合体樹脂に含まれる脂環式構造含有重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、重合体がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン換算（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００以上、好ましくは１５，０００以上、より好ましくは２０，０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあることにより、得られる基材の機械的強度及び成型加工性などが高度にバランスされるため好ましい。

脂環式構造含有重合体樹脂が含有しうる任意の成分としては、例えば酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、分散剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、強化剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、顔料、有機又は無機の充填剤、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止剤、抗菌剤やその他の樹脂、熱可塑性エラストマーなどの公知の添加剤を挙げることができる。
これらの添加剤の量は、本発明の効果を損なわない範囲とすることができる。例えば、脂環式構造含有重合体樹脂に含まれる重合体１００重量部に対して、通常０〜５０重量部、好ましくは０〜３０重量部である。

〔基材の形状及び物性〕
基材を構成する材料は、高い透明性を有するものが好ましい。例えば、当該材料を厚み１ｍｍの試験片として測定した全光線透過率が、通常７０％以上、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である透明性を有するものが好ましい。

基材の厚さは、特に限定されないが、その下限は１０μｍ以上とすることができる。またその上限は５００μｍ以下とすることができる。

基材は、長尺のフィルムであることが、製造効率の観点から好ましい。ここで、「長尺」とは、その幅に対して、少なくとも５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。基材を長尺のフィルムとし、その上に易接着層及び表面層を連続的に形成し、得られた長尺の光学積層体を必要に応じて所望の形状に裁断することにより、効率的な製造を行うことができる。

基材は、単一の層からなるものであってもよく、複数の層からなるものであってもよい。複数の層からなるものである場合、基材は、複数枚のフィルムを接着剤又は粘着剤で貼り合わせたものであってもよく、また共押出等の製造方法により異なる材料からなる複数の層が形成されたものであってもよい。また、基材は、延伸等の操作を経ない等方なものであってもよく、延伸等の操作により異方性が付与されたものであってもよい。

〔基材の製造方法〕
基材の製造方法は、特に限定されないが、例えば、前述の樹脂などを公知のフィルム成形法で成形することによって得ることができる。フィルム成形法としては、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、環境負荷が低く、製造作業が容易で、且つ製造効率が高いため好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。

〔易接着層〕
易接着層は、基材と表面層との間に設けられ、基材及び表面層の密着性を向上させる層である。易接着層は、好ましくは基材の表面に直接接して設けられる。基材と易接着層の間に、帯電防止層、拡散性付与層等の機能層を設けてもよい。

〔組成物Ｘ：水系ウレタン樹脂〕
易接着層は、ウレタン樹脂を含む組成物Ｘにより形成された層である。好ましい態様において、組成物Ｘは、ウレタン樹脂を、水系ウレタン樹脂として含む。水系ウレタン樹脂とは、水等の水系の媒体に分散した形態で存在しうるウレタン樹脂である。

水系ウレタン樹脂としては、例えば、（ｉ）１分子中に平均２個以上の活性水素を含有する成分と（ｉｉ）多価イソシアネート成分とを反応させて得られる水系ウレタン樹脂、または、上記（ｉ）成分及び（ｉｉ）成分をイソシアネート基過剰の条件下で、反応に不活性で水との親和性の大きい有機溶媒中でウレタン化反応させイソシアネート基含有プレポリマーとし、次いで、該プレポリマーを中和、鎖延長剤を用いて鎖延長し、水を加えて分散体とすることによって製造される水系ウレタン樹脂などが挙げられる。これらの水系ウレタン樹脂中には酸成分（酸残基）を含有させてもよい。イソシアネート基をブロック剤（フェノール類、カプロラクタム類、オキシム類、活性メチレン類、ヒドラジン類など）でマスクしても良い。これらの中で、活性メチレン類、ヒドラジン類が、ブロック剤の乖離温度が低いため、特に好ましい。

なお、イソシアネート基含有プレポリマーの鎖伸長方法は公知の方法によればよく、例えば、鎖伸長剤として、水、水溶性ポリアミン、グリコール類などを使用し、イソシアネート基含有プレポリマーと鎖伸長剤成分とを、必要に応じて触媒の存在下で反応させればよい。

前記（ｉ）成分の１分子中に平均２個以上の活性水素を含有する成分としては、特に限定されるものではないが、水酸基性の活性水素を有するものが好ましい。このような化合物の具体例としては、次のようなものが挙げられる。

（１）ジオール化合物
ジオール化合物として、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、２，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサングリコール、２，５−ヘキサンジオール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２，２−ジメチルプロパンジオール、１，４−ブタンジオールなどが挙げられる。

（２）ポリエーテルジオール
ポリエーテルジオールとして、例えば、前記のジオール化合物のアルキレンオキシド付加物；アルキレンオキシドと環状エーテル（例えばテトラヒドロフランなど）との開環（共）重合体；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレングリコール−プロピレングリコールの共重合体、グリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリオクタメチレングリコールなどのグリコール類などが挙げられる。

（３）ポリエステルジオール
ポリエステルジオールとして、例えば、アジピン酸、コハク酸、セバシン酸、グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸などのジカルボン酸又はその無水物と上記（１）で挙げられたようなエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタメチレンジオール、ネオペンチルグリコールなどのジオール化合物とを水酸基過剰の条件で重縮合させて得られたものなどが挙げられる。より具体的には、例えば、エチレングリコール−アジピン酸縮合物、ブタンジオール−アジピン縮合物、ヘキサメチレングリコール−アジピン酸縮合物、エチレングリコール−プロピレングリコール−アジピン酸縮合物、或いはグリコールを開始剤としてラクトンを開環重合させたポリラクトンジオールなどが挙げられる。

（４）ポリエーテルエステルジオール
ポリエーテルエステルジオールとして、例えば、エーテル基含有ジオール（例えば、前記（２）のポリエーテルジオールやジエチレングリコールなど）または、これと他のグリコールとの混合物を上記（３）で例示したようなジカルボン酸又はその無水物に加えてアルキレンオキシドを反応させてなるもの（例えば、ポリテトラメチレングリコール−アジピン酸縮合物）などが挙げられる。

（５）ポリカーボネートジオール
ポリカーカーボネートジオールとしては、例えば、一般式：ＨＯ−Ｒ−（Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ）ｘ−ＯＨ（ただし、式中、Ｒは炭素原子数１〜１２の飽和脂肪酸ジオール残基、ｘは分子の繰り返し単位の数を示し、通常５〜５０の整数である。）で示される化合物などが挙げられる。これらは、飽和脂肪族ジオールと置換カーボネート（炭酸ジエチル、ジフェニルカーボネートなど）とを水酸基が過剰となる条件で反応させるエステル交換法、前記飽和脂肪族ジオールとホスゲンを反応させるか、または必要に応じて、その後さらに飽和脂肪族ジオールを反応させる方法などにより得ることができる。

上記の（１）から（５）に例示したような化合物は、１種又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。

前記（ｉ）成分と反応させる（ｉｉ）多価イソシアネート成分としては、１分子中に平均２個以上のイソシアネート基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族の化合物を使用しうる。

脂肪族ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数１〜１２の脂肪族ジイソシアネートが好ましく、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサンジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）などが挙げられる。脂環式ジイソシアネート化合物としては、炭素原子数４〜１８の脂環式ジイソシアネートが好ましく、例えば、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）などが挙げられる。芳香族イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどが挙げられる。

また、水系ウレタン樹脂中に酸残基を含むものは、界面活性剤（以下において、乳化剤と称されるものも含む。）を使用せずにもしくはその量が少なくても水中に分散させることが可能となるので、塗膜の耐水性が良くなることが期待される。これを自己乳化型といい、界面活性剤を使用すること無く分子イオン性のみで、水中にポリウレタン樹脂が分散安定化している状態を意味する。界面活性剤が不要であるために、脂環式構造含有重合体、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂との接着性に優れ、かつ高い透明性を維持できるため好ましい。酸残基の含有量としては、水系ウレタン樹脂の酸価として、２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、好ましくは、２５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であるのが好適である。酸価が２０未満では水分散性が不十分となりやすく、界面活性剤の併用が必要となることが多い、一方、酸価が２５０より大きいと塗膜の耐水性が劣る傾向となる。なお本願において、「（メタ）アクリル」とは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。「（メタ）アクリレート」についても同様にアクリレート及び／又はメタクリレートを意味する。

水系ウレタン樹脂中に酸基を導入する方法は、従来から用いられている方法が特に制限なく使用できるが、例えばジメチロールアルカン酸を前記（２）から（４）に記載したグリコール成分の一部もしくは全部と置き換えることによって予めポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリエーテルエステルジオールなどにカルボキシル基を導入しておくことにより、酸基を導入する方法が好ましい。ここで用いられるジメチロールアルカン酸としては、例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロール酪酸などを挙げられる。

また、水系ウレタン樹脂中に残る酸成分を中和することにより、水系ウレタン樹脂の水分散性を向上させることができるため、中和されていることが好ましい。酸成分を中和する中和剤としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの有機アミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基などを挙げられる。

水系ウレタン樹脂としては、数平均分子量が１，０００以上が好ましく、より好ましくは２０，０００以上である。但し１，０００，０００以下が好ましく、より好ましくは２００，０００以下である。

本発明の製造方法においては、水系ウレタン樹脂として市販されている水系ウレタン樹脂をそのまま使用することも可能であり、例えば、旭電化工業（株）製の「アデカボンタイター」シリーズ、三井東圧化学（株）製の「オレスター」シリーズ、大日本インキ化学工業（株）製の「ボンディック」シリーズ、「ハイドラン」シリーズ、バイエル社製の「インプラニール」シリーズ、日本ソフラン（株）製の「ソフラネート」シリーズ、花王（株）製の「ポイズ」シリーズ、三洋化成工業（株）製の「サンプレン」シリーズ、保土谷化学工業（株）製の「アイゼラックス」シリーズ、第一工業製薬（株）製の「スーパーフレックス」シリーズ、「エラストロン」シリーズ、ゼネカ（株）製の「ネオレッツ」シリーズなどを用いることができる。

〔組成物Ｘ：その他の成分〕
易接着層は、シリカ粒子を含有しうる。このような易接着層を得るため、易接着層を形成するための組成物Ｘは、シリカ粒子を含有しうる。易接着層がシリカ粒子を含有することにより、本発明の光学積層体の製造にあたり基材と易接着層からなる複層物を調製し、これを保存又は運搬の便宜のためロールの状態とした際の品質の劣化を低減することができる。
シリカ粒子としては、真球状、楕円形状、粒子が網目状に連なった構造をしているものがあげられる。シリカ粒子の粒径は、５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度とすることができる。組成物Ｘ中のシリカ粒子の含有割合は、水系ウレタン樹脂１００重量部（固形分）に対して、５〜３０重量部であることが好ましい。かかる割合とすることにより、光学積層体の性能を損ねることなく、良好に上記の品質劣化低減の効果を発現することができる。

組成物Ｘは、上記水系ウレタン樹脂及び任意成分のシリカ粒子の他に、必要に応じて、任意の成分を適量含むことができる。かかる任意の成分としては、耐熱安定剤、耐候安定剤、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、有機スズ系反応触媒、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然油、合成油、ワックス、架橋剤、ならびに水及びその他の媒体を挙げることができる。

本発明で用いられる基材上に形成する易接着層の厚みが１μｍ以下の場合、易接着層の機械強度を向上させる目的で、組成物Ｘは架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、水系ウレタン樹脂が有する反応性基と反応する官能基を有する化合物であれば、特に制限なく使用することができるが、水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系イソシアネート化合物、水系カルボジイミド化合物、水系オキサゾリン化合物を使用することが、材料の汎用性の観点から好ましく、特に水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系オキサゾリン化合物を使用することが、接着性の観点から好ましい。

架橋剤として水系エポキシ化合物を用いる場合、水系エポキシ化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のエポキシ基を有する化合物であればよい。例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール；１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサングリコール、ネオペンチルグリコールなどのグリコール類１モルとエピクロルヒドリン２モルとのエーテル化によって得られるジエポキシ化合物、グリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールなどの多価アルコール類１モルとエピクロルヒドリン２モル以上とのエーテル化によって得られるポリエポキシ化合物、フタル酸、テレフタル酸、シュウ酸、アジピン酸などのジカルボン酸１モルとエピクロルヒドリン２モルとのエステル化によって得られるジエポキシ化合物などのエポキシ化合物が挙げられる。

架橋剤として水系アミノ化合物を用いる場合、水系アミノ化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のアミノ基を有する化合物であればよい。例えば、カルボジヒドラジド、シュウ酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド、コハク酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバチン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタール酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、グリコリック酸ジヒドラジド、ポリアクリル酸ジヒドラジドなどのヒドラジド化合物、メラミン樹脂、ユリア樹脂、グアナミン樹脂などが挙げられる。

架橋剤として水系イソシアネート化合物を用いる場合、水系イソシアネート化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上の非ブロック型のイソシアネート基、ブロック型のイソシアネート基を有する化合物であればよい。非ブロック型のイソシアネート化合物としては、例えば、多官能イソシアネート化合物と一価又は多価のノニオン性ポリアルキレンエーテルアルコールと反応させて得られる化合物が挙げられる。ブロック型イソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート（２，４−ＴＤＩ）、２，６−トリレンジイソシアネート（２，６−ＴＤＩ）、４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メチルシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ６ＴＤＩ）、４，４´−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＨＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ノルボルネンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）、２，４，６−トリイソプロピルフェニルジイソシアネート（ＴＩＤＩ）、１，１２−ジイソシアネートドデカン（ＤＤＩ）、２，４，−ビス−（８−イソシアネートオクチル）−１，３−ジオクチルシクロブタン（ＯＣＤＩ）、ｎ−ペンタン−１，４−ジイソシアネートおよびこれらのイソシアヌレート変性体、アダクト変性体、ビュレット変性体、アロファネート変性体、これらの重合体で１個以上のイソシアネート基を有するものをポリオキシアルキレン基、カルボキシル基などで変性し、水溶性およびまたは水分散性にし、イソシアネート基をブロック剤（フェノール類、カプロラクタム類、オキシム類、活性メチレン類、ヒドラジン類など）でマスクすることにより得られる化合物などが挙げられる。

架橋剤として水系カルボジイミド化合物を用いる場合、水系カルボジイミド化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のカルボジイミド結合（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）を有する化合物であればよい。２個以上のカルボジイミド結合を有する化合物は、２分子以上のポリイソシアネートとカルボジイミド化触媒とを用いて、２個のイソシアネート基を脱炭酸反応させて−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−を形成させる方法によって得ることができる。２個以上のカルボジイミド結合を有する化合物を作製する際に使用されるポリイソシアネートおよびカルボジイミド化触媒は特に制限されず、従来公知のものを使用することができる。

水系オキサゾリン化合物としては、水に溶解性があるか、又はエマルジョン化した２個以上のオキサゾリン基を有する化合物であればよい。

組成物Ｘにおける水系ウレタン樹脂と架橋剤の割合は、水系ウレタン樹脂１００重量部（固形分）に対して、上記架橋剤を１〜７０重量部、好ましくは５〜６０重量部（固形分）配合することが好ましい。このような配合にすることにより、塗膜の強度と塗工液の安定性を両立できることが可能となる。

〔組成物Ｘの調製方法、性状〕
組成物Ｘの調製方法は、特に限定されず、例えば、上記成分を混合することにより得ることができる。
組成物Ｘは、水中に水系ウレタン樹脂の固形分が分散し、エマルション、コロイド分散系等を構成した水分散体とすることができる。かかる水分散体中に分散する水系ウレタン樹脂粒子の粒径は、光学積層体の光学特性の観点から、０．０１μｍ〜０．４μｍであることが好ましい。水系ウレタン樹脂粒子の粒径は、動的光散乱法により測定することができ、例えば、大塚電子（株）製の光散乱光度計ＤＬＳ−８０００シリーズにより測定することができる。組成物Ｘには、水以外の水溶性の溶剤が含まれていてもよい。水溶性の溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどが挙げられる。

組成物Ｘの粘度は、１５ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ以下であるのが特に好ましい。分散体の粘度が前記範囲内にあると、基材の表面に組成物Ｘを均一に塗工することができる。組成物Ｘの粘度は、音叉型振動式粘度計により２５℃の条件下で測定した値であり、組成物Ｘ中の水系ウレタン樹脂の割合及び水系ウレタン樹脂の粒径などを変化させることにより、組成物Ｘの粘度を調整することができる。

〔易接着層の性状及び形成方法〕
易接着層は、厚み２０μｍにおける鉛筆硬度がＨ以上であることが好ましい。前記範囲にすることにより、光学積層体に耐擦傷性を付与することができる。

易接着層は、例えば、基材の表面に、組成物Ｘを塗布して塗膜（液体状態の組成物Ｘの層）を形成し、これに必要に応じて乾燥させる等の操作を行ない硬化させて形成することができる。

易接着層を設ける前に、易接着層を設ける基材の表面に改質処理を施し、基材と易接着層との密着性をより向上させるようにしてもよい。基材に対する表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられる。処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、ケン化処理、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後、水で洗浄する方法が挙げられる。

組成物Ｘを基材上に塗布する方法は特に限定されず、公知の塗布法を採用することができる。具体的な塗布法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。組成物Ｘの塗布量は特に限定されないが、乾燥後の厚みとして、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０２〜２μｍがより好ましく、０．０３〜１μｍが特に好ましい。前記範囲内にあると、基材と易接着層との十分な接着強度が得られ、かつ、フィルムのそりなどの欠陥のない光学積層体を提供することができる。

組成物Ｘの塗膜を硬化させる方法は、特に限定されないが、例えば、８０℃〜１３０℃程度の温度で乾燥することにより、硬化させることができる。

〔表面層〕
本発明において、表面層は、易接着層に直接接して設けられる層である。表面層は、モノマーＡとモノマーＢとを含む組成物Ｙを硬化してなる層である。

〔組成物Ｙの成分〕
組成物Ｙにおいて、モノマーＡは、１分子あたり１以上のイソシアネート基を含み且つ１分子あたり１以上の重合性不飽和基を含むモノマーである。モノマーＢは、重合性不飽和基を１分子あたり３以上有し、かつイソシアネート基を含まないモノマーである。組成物Ｙが、モノマーＡ及びＢを含むことにより、組成物Ｙを硬化してなる表面層を、易接着層との高い密着性及び高い表面硬さを兼ね備えるものとすることができる。

かかる重合性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、及びビニル基を挙げることができる。

モノマーＡの具体例としては、（メタ）アクリロイルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−１−メチルエチルイソシアネート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルエチルイソシアネート、１，１−ビス［（メタ）アクロイルオキシメチル］エチルイソシアネート、及びｍ−（メタ）アクリロイルオキシフェニルイソシアネートが挙げられる。これらの中で、取り扱い性や化学的安定性、および工業的入手の観点から考えると、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、及び１，１−ビス［（メタ）アクロイルオキシメチル］エチルイソシアネートが好ましい。

モノマーＢの具体例としては、グリセリントリ（メタ）アクリレート、グリセリンアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリカプロラクトネートトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールヘキサントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールヘキサンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタンポリアルキレンオキサイドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリヒドロキシベンゼン（ピロガロール等）ポリアルキレンオキサイド付加体トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラカプロラクトネートテトラ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性テトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールエタンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールエタンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールブタンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールブタンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールヘキサンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールオクタンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールオクタンポリアルキレンオキサイドテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサカプロラクトネートヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールポリアルキレンオキサイドオクタ（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートを挙げることができる。

組成物Ｙは、モノマーＡ及びモノマーＢに加えて、他に任意のモノマーを含有することができる。かかる任意のモノマーとしては、イソシアネート基を含まず、重合性不飽和基を１分子あたり１つ有するモノマー（以下において「モノマーＣ」という。）、及びイソシアネート基を含まず、重合性不飽和基を１分子あたり２つ有するモノマー（以下において「モノマーＤ」という。）を挙げることができる。

モノマーＣの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−tert−ブチルフェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、オクチルフェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニルフェノール（メタ）アクリレート、エトキシ化Ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、ドデシルフェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ〔５．２．１．０^２，６〕デカンモノメチロール（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールモノビニルエーテル、１，４−ブタンジオールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、ヘキサエチレングリコールモノビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル等のビニルエーテル；Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルフォルムアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン等のＮ−ビニルアミド化合物を挙げることができる。

モノマーＤの具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリルヒドロキシピバレートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリルヒドロキシピバレートジカプロラクトネートジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジカプロラクトネートジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−（メタ）アクリロイルオキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３−メチル−４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル）フルオレン、ビスフェノールＡテトラエチレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリアルキレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦテトラエチレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリアルキレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳテトラエチレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳポリアルキレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、水添加ビスフェノールＡテトラエチレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、水添加ビスフェノールＡポリアルキレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、水添加ビスフェノールＦテトラエチレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、水添加ビスフェノールＦポリアルキレンオキサイド付加体ジ（メタ）アクリレート、水添加ビスフェノーＡジ（メタ）アクリレート、水添加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジヒドロキシベンゼン（カテコール、レゾルシン、ハイドロキノン等）ポリアルキレンオキサイドジ（メタ）アクリレート、アルキルジヒドロキシベンゼンポリアルキレンオキサイドジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエチレンオキサイド付加体ジカプロラクトネートジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦテトラエチレンオキサイド付加体ジカプロラクトネートジ（メタ）アクリレート、トリシクロ〔５．２．１．０^２，６〕デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、等の各種アクリレート；フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジｎ−ブチル等のフマル酸エステル；ジエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等のビニルエーテルを挙げることができる。

組成物Ｙにおいては、モノマー全量（モノマーＡ、モノマーＢ、並びにモノマーＣ及びモノマーＤ等他の任意のモノマーの合計）中のイソシアネート基の含有割合が０．２５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、且つ、モノマー全量中の前記モノマーＢの割合が１５重量％以上であることが好ましい。組成物Ｙが、かかる割合でイソシアネート基及びモノマーＢを含有することにより、イソシアネートに基づく易接着層との高い密着性、及び架橋に基づく高い表面硬さを高いレベルで兼ね備える表面層を得ることができる。

組成物Ｙにおいては、モノマー全量中の酸価が、所定の範囲内であることが好ましい。具体的には、酸価の上限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。かかる全モノマーの酸価は、各モノマーの酸価と、全モノマーに含まれる各モノマーの割合から求めることができる。酸価をかかる低い範囲とすることにより、組成物Ｙの保存安定性が向上し、表面層の製造の実施が容易となる。即ち、組成物Ｙを調製してから使用するまでの間、粘度の上昇等の性状の変化を起こしにくいため、組成物Ｙの調製を使用の直前に行わなければならないといった、工程上の制限が少なくなる。

組成物Ｙは、モノマーＡ、モノマーＢ、及び他の任意のモノマー（モノマーＣ及びモノマーＤ等）に加えて、必要に応じ任意の成分を含有することができる。具体的には、重合開始剤、粒子、溶媒、マット剤、スリップ剤、帯電防止剤、界面活性剤を含有することができる。
重合開始剤としては、熱重合開始剤及び光重合開始剤を例示することができる。特に、フォトポリマー法（２Ｐ法）による重合を容易とする観点から、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤とは、感光して（即ち光の照射に反応して）作用を発現する重合開始剤であり、ここで重合のための光とは、可視光線のみならず、紫外線、赤外線、及びその他のエネルギー線を含む。特に、操作の容易さ等の観点から、可視光線又は紫外線に感光する重合開始剤が特に好ましい。また、重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。

可視光線又は紫外線に感光するラジカル重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、１，２−ベンジル−２−メチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、１，２−ヒドロオキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどのアセトフェノン又はその誘導体；ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４−トリメチルシリルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィドなどのベンゾフェノン又はその誘導体；ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン又はその誘導体；メチルフェニルグリオキシレート、ベンゾインジメチルケタール、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−１−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−クロルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４−ジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−デシルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−４−オクチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジクロル−３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−４−エトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２，５−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−エトキシビフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−２−ナフチルホスフィンオキサイド、ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−プロピルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メトキル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メトキル−１−ナフトイル）−４−メトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２−メトキル−１−ナフトイル）−４−ビフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２−クロル−１−ナフトイル）−２，５−ジメチルフェニリルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，６−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。

表面層は、好ましくは粒子を含有する。このような好ましい表面層を得るため、組成物Ｙは、粒子を含有することができる。表面層が粒子を含有することにより、表面層内での光の拡散を起こし、それにより取り出し効率を高めることができる。

粒子は、透明であっても、不透明であってもよい。粒子の材料としては、金属及び金属化合物、並びに樹脂等を用いることができる。金属化合物としては、金属の酸化物及び窒化物を挙げることができる。金属及び金属化合物としては、具体的には例えば銀、アルミのような反射率が高い金属、酸化ケイ素、酸化アルミ、酸化ジルコニウム、窒化珪素、錫添加酸化インジウム、酸化チタンなどの金属化合物を挙げることができる。一方樹脂としては、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。特に、シリコーン樹脂が、分散性、耐湿熱性の点から特に好ましい。なお、粒子の材料は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

粒子の形状は、球状、円柱状、立方体状、直方体状、角錐状、円錐状、星型状等の形状とすることができる。
粒子の粒径は好ましくは０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下であり、更に好ましくは、１μｍ以下である。ここで粒径とは、体積基準の粒子量を、粒子径を横軸にして積算した積算分布における５０％粒子径のことである。粒径が大きいほど、所望の効果を得るために必要な粒子の含有割合は多くなり、粒径が小さいほど、含有量は少なくてすむ。従って、粒径が小さいほど、観察角度による色味の変化の低減、及び光取り出し効率の向上等の所望の効果を、少ない粒子で得ることができる。なお、粒径は、粒子の形状が球状以外である場合には、その同等体積の球の直径を粒径とする。

粒子が透明な粒子であり、且つ粒子が樹脂中に含まれる場合において、粒子の屈折率と、樹脂の屈折率は、それらの差が０．０５〜０．５であることが好ましく、０．０７〜０．５であることがより好ましい。ここで、粒子及び樹脂の屈折率は、どちらがより大きくても良い。粒子と樹脂の屈折率が近すぎると拡散効果が得られず色味ムラは抑制されず、逆に差が大きすぎると拡散が大きくなり色味ムラは抑制されるが光取出効果が低減することになる。

組成物Ｙ中の粒子の含有割合は、粒子及びモノマー全量の合計中の粒子の割合として、３〜５０重量％であることが好ましい。

組成物Ｙが含有しうる溶媒としては、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。但し、表面層を形成する際の便宜上、組成物Ｙは特に溶媒を添加せず調製し、硬化の際に溶媒を揮発させる処理を必要としないものとすることが好ましい。

組成物Ｙの調製方法は、特に限定されず、例えば、上記成分を混合することにより得ることができる。
組成物Ｙの性状は、特に限定されないが、その粘度が、送液、塗布、塗布後の硬化等の操作に適した範囲であることが好ましい。具体的には、粘度の下限は５ｃＰ以上であることが好ましく、３０ｃＰ以上であることがより好ましい。一方粘度の上限は５００ｃＰ以下であることが好ましく、１００ｃＰ以下であることがより好ましい。

〔組成物Ｙの硬化方法〕
組成物Ｙを、易接着層の面上に塗布して塗膜（液体状態の組成物Ｙの層）を得、もし必要であればかかる層中の溶媒を揮発させ、さらに硬化処理を行うことにより、組成物Ｙを硬化させ、表面層を得ることができる。

組成物Ｙを基材上に塗布する方法は特に限定されず、公知の塗布法を採用することができる。具体的な塗布法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。組成物Ｙの塗布量は特に限定されないが、硬化後に得られる表面層の厚みが所望の厚さとなるよう調節することができる。

硬化処理は、使用するモノマー及び重合開始剤に適合した処理を適宜行うことができる。例えば重合開始剤として可視光線又は紫外線に感光する光重合開始剤を用いた場合、可視光線又は紫外線を照射することにより行うことができる。

硬化処理に際して、フォトポリマー法（２Ｐ法）により、表面層の、易接着層に接する面と反対側の面に凹凸構造を設けることができる。即ち、塗膜に型を当て、その状態で、基材及び易接着層を通して塗膜に光を照射して組成物Ｙを硬化させ、その後型を剥離することにより、型に良好に追従した精密な形状の凹凸構造を有する表面層を高効率に形成することができる。

上記フォトポリマー法に用いる型としては、所望の形状を有する金型を用いることができる。また、金型としてロール状の形状を有するものを用いることにより、長尺の形状を有する光学積層体をインラインで高効率に製造することができる。

〔表面層の形状及び性状〕
表面層は、その表面の耐擦傷性を得やすいという観点から、硬度が高い材料が好ましい。具体的には、７μｍの膜厚の層を基材上に凹凸構造が無い状態で形成した際に、鉛筆硬度でＨＢ以上になるような材料が好ましく、Ｈ以上になる材料がさらに好ましく、２Ｈ以上になる材料がより好ましい。特に、表面層を、凹凸構造を有する光拡散層とする場合には、このような硬度が高い材料を採用することにより、耐久性の高い凹凸構造を容易に形成することができる。
表面に凹凸構造を形成する等、本発明の光学積層体としての実際に用いられる態様とされた表面層の表面硬さは、所定以上の高い硬さであることが好ましい。具体的には、スチールウール試験でのΔＨｚ評価値が、所定以下の値であることが好ましい。具体的には、ΔＨｚの値が２５以下であることが好ましく、１５以下であることがより好ましい。

ここで、スチールウール試験は、表面性試験機（ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｄ、旭硝工社製）を用い、光学積層体の表面層側の面に、スチールウール（ＢＯＮＳＴＡＲ＃００００）を、加重２００ｇ／ｃｍ^２、ストローク２５ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復させて傷をつけ、試験前後の光学積層体のヘイズ値を濁度計（ＮＤＭ ２０００、日本電色社製）で測定し、以下の式でΔＨｚを計算することにより行う。
ΔＨｚ＝（ＳＷ試験後のヘイズ値）−（ＳＷ試験前のヘイズ値）

表面層のヘイズは、フィルムに対する要求に応じて０％〜９５％とすることができる。表面層のヘイズを０％〜２０％とすると、取り出し効率、正面輝度を共に高めることができる。表面層のヘイズを７５％〜９５％とすると、光取り出し効率、観察角度による色味の変化を共に低減することができる。ヘイズは、例えば上に述べた粒子の含有割合を適宜調整することにより調節しうる。

表面層は、易接着層に接する面と反対側の面に設けられた凹凸構造を有することが好ましい。かかる凹凸構造を有することにより、本発明の光学積層体を表示装置、光源装置等の光学装置の光取り出し面に設ける部材として用いた際、良好な取り出し効率を達成することができる。かかる凹凸構造は、例えば上に述べたフォトポリマー法により形成することができる。
凹凸構造は、具体的には、斜面を含む複数の凹部と、前記凹部の周囲に位置する平坦部とを含む凹凸構造を好ましく挙げることができる。ここで「斜面」とは、基材の面方向と平行でない角度をなす面である。一方、平坦部上の面は、基材の面方向と平行な面とすることができる。

図１は、凹凸構造層を有する表面層備える本発明の光学積層体の一例を概略的に示す斜視図であり、図２は、図１に示した光学積層体を線１ａ−１ｂを通る面で切断した断面を示す断面図である。図１に示す光学積層体１００は、基材フィルム１２１、易接着層１０１、及び表面層１１１がこの順に積層された構造を有し、表面層１１１の表面１０Ｕは、凹部１１３及び凹部１１３の周囲に位置する平坦部１１４からなる凹凸構造を有している。

かかる凹凸構造を、図３及び図４を参照してより詳細に説明する。図３は、表面層１１１の表面１０Ｕの構造を拡大して模式的に示す部分上面図である。図４は、表面層１１１を、図３の線１０ａを通り光学積層体の主面に垂直な面で切断した断面を示す部分断面図である。

複数の凹部１１３のぞれぞれは正四角錐形状の窪みであり、従って凹部１１３の斜面１１Ａ〜１１Ｄは同一の形状であり、底辺１１Ｅ〜１１Ｈは正方形を構成する。線１０ａは、一列の凹部１１３の全ての頂点１１Ｐの上を通る線であり、且つ凹部１１３の底辺１１Ｅ及び１１Ｇと平行な線である。

凹部１１３は、一定の間隔をおいて、直交する２配置方向に連続して配置されている。かかる２配置方向のうち一方の方向Ｘは底辺１１Ｅ及び１１Ｇと平行である。この方向Ｘにおいて、複数の凹部１１３は一定の間隔１１Ｊをおいて整列している。２配置方向のうちの他方の方向Ｙは１１Ｆ及び１１Ｈと平行である。この方向Ｙにおいて複数の凹部１１３は一定の間隔１１Ｋをおいて整列している。

凹部１１３のそれぞれを構成する斜面１１Ａ〜１１Ｄが平坦部１１４となす角（斜面１１Ｂ及び１１Ｄについては、それぞれ図４に示す角１１Ｌ及び１１Ｍ）は例えば６０°に設定され、これにより、凹部１１３を構成する正四角錐の頂角、即ち頂点１１Ｐにおいて相対向する斜面がなす角（斜面１１Ｂ及び１１Ｄがなす角については、図４に示す角１１Ｎ）も６０°となっている。

このように、光学積層体の表面層が、複数の凹部と、各凹部の周囲に位置する平坦部とを含む構成を有することにより、かかる面を面光源装置の装置出光面にあたる表面とした際に、光取り出し効率を高め、且つ観察角度による色味の変化を低減することができ、しかも、外部衝撃により凹凸構造の欠け等が生じるのを防止でき、ひいては装置出光面の機械的強度を向上させることができる。

本発明の光学積層体は、上記の凹凸構造を有する表面層を備える場合、表面層側から出光する光における半球状全方位での色度座標のｘ座標およびｙ座標の少なくともいずれかの変位を、上記の構成をとらない場合に比べ低減させることができる。このため、本発明の面光源装置において、光学積層体が凹凸構造を有する表面層を備える場合、観察角度による色味の変化を抑えることができる。かかる半球状全方位での色度の変位を測定する方法として、例えば装置出光面の法線方向（即ち凹部を無視して巨視的に見た装置出光面に垂直な方向）上に分光放射輝度計を設置し、法線方向を０°とした時その装置出光面を−９０〜９０°まで回転させられる機構を付与することで、各方向で測定した発光スペクトルから色度座標を算出できるため、その変位を算出できる。

凹凸構造を、光学積層体に垂直な方向から観察した場合における、平坦部が占める面積と凹部が占める面積との合計に対する、平坦部が占める面積の割合（以下、「平坦部割合」という。）を適宜調節することにより、面光源装置の光取り出し効率を向上させることができる。具体的には、平坦部割合を１０〜７５％とすることにより、良好な光取り出し効率を得ることができ、且つ装置出光面の機械的強度を高めることができる。

凹凸構造において、凹部は、例えば、上に述べた角錐形状に加え、円錐形状、球面の一部の形状、溝状の形状、及びこれらを組み合わせた形状を有しうる。角錐形状は、前記凹部１１３として例示するように底面が正方形である四角錐としうるが、これに限られず、三角錐、五角錐、六角錐、底面が正方形でない四角錐などの角錐形状とすることもできる。さらに、本願でいう円錐及び角錐は、その頂部が尖った通常の円錐及び角錐のみならず、先端が丸みを帯びた形状、又は平らに面取りされた形状（錐台状の形状等）をも包含しうる。

凹凸構造における凹部の深さは、特に限定されないが、凹凸構造が形成された表面を様々な方向（出光面と平行な面内の様々な方向）に沿って測定した中心線平均粗さの最大値（Ｒａ（ｍａｘ））として、１〜５０μｍの範囲内とすることができる。また、好ましい凹部の深さは、表面層の厚さに対して相対的に定めることができる。例えば、表面層の材料として、凹凸構造の耐久性の維持に有利な硬質の材料を用いた場合、表面層の厚さを薄くしたほうが、光学積層体の可撓性を高めることが可能となり、面光源装置の製造工程における光学積層体の取り扱いが容易となる。具体的には、図４に示す凹部の深さ１６Ｄに対する表面層１１１の厚さ１６Ｅの割合は、１：１〜１：３であることが好ましい。

表面層の厚さは、その下限が１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ以上であることがより好ましく、一方その上限が５０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、１５μｍ以下であることがさらにより好ましい。特に、前記上限以下の厚さであることにより、硬化収縮による光学積層体のカール等の変形を防ぎ、良好な形状の積層体とすることができる。

本発明において、凹部の斜面と、出光面とがなす角は４０〜７０°であることが好ましく、４５〜６０°であることがより好ましい。例えば凹部の形状が、図１０に示す四角錐である場合、その頂角（図４における角１１Ｐ）は、６０〜９０°となることが好ましい。また、観察角度による色味の変化を最小限にしつつ光取り出し効率も高めるという観点からは、斜面と基材の面とがなす角は大きいほうが好ましく、具体的には例えば５５°以上とすることが好ましく、６０°以上とすることがさらにより好ましい。この場合、かかる角の上限は、表面層の耐久性の維持を考慮し、７０°程度とすることができる。

凹凸構造において、複数の凹部は、任意の態様で配列することができる。例えば、複数の凹部を、表面上の２以上の方向に沿って配列することができる。より具体的には、図１及び図３に示した凹部１１３のように、直交する２方向に沿って配列することができる。

２以上の方向に凹部を配列した場合において、それらのうち１方向以上の方向に、隣り合う凹部間の隙間を設け、かかる隙間により平坦部を構成することができる。例えば、図３に示す凹部１１３の配列では、直交する２方向において、それぞれ間隔１１Ｊ及び１１Ｋの隙間を設けて、かかる隙間により平坦部１１４を構成している。このような構成を採用することにより、良好な光取り出し効率と、積層体表面の機械的強度とを両立させることができる。

〔その他の構成要素〕
本発明の光学積層体は、必要に応じて、前記基材、易接着層及び表面層以外に、任意の層を備えることができる。例えば、基材の、表面層及び易接着層が設けられた面と反対側の面上に、無機バリア層を設けることができる。また、その他の任意の層として、帯電防止層、ハードコート層、導電性付与層、汚染防止層を設けることが出来る。これらの任意の層は、基材上にかかる任意の層の材料を塗布し硬化させる方法、又は、熱圧着により貼付する方法などの方法により設けることができる。

〔無機バリア層〕
本発明の光学積層体が任意に備えうる無機バリア層は、無機材料を主成分とし、水分及び酸素等の、外気中に存在する成分であって表示装置及び発光装置等の装置の内部の構成要素（例えば、有機ＥＬ素子の発光層等）を劣化させうる成分をバリアする能力を有する層である。
無機バリア層の水蒸気透過率は、その上限が１．０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．２ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがより好ましい。一方水蒸気透過率の下限は、０ｇ／ｍ^２・ｄａｙであることが最も好ましいが、それ以上の値であっても、上記上限以下の範囲内であれば、好ましく機能しうる。

無機バリア層の材料は、特に限定されないが、好ましい材料として、珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物、アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）及びこれらの２以上が混合した材料とすることができる。透明性の点では、珪素の酸化物、窒化酸化物が特に好ましく、一方基材の材料である脂環式構造含有重合体樹脂との親和性の点では、ＤＬＣが特に好ましい。

珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物、としては、ＳｉＯｘ（透明性、水蒸気バリア性を両立するためには、１．４＜ｘ＜２．０が好ましい。）、ＳｉＮｙ（透明性、水蒸気バリア性を両立するためには、０．５＜ｙ＜１．５が好ましい。）、ＳｉＯｘＮｙ（密着性向上を重視するときは１＜ｘ＜２．０，０＜ｙ＜１．０として酸素リッチの膜とすることが好ましく、水蒸気バリア性向上を重視するときは０＜ｘ＜０．８、０．８＜ｙ＜１．３として窒素リッチの膜とすることが好ましい。）等を挙げることができる。アルミニウムの酸化物、窒化物、窒化酸化物としては、ＡｌＯｘ、ＡｉＮｙ、やＡｌＯｘＮｙを挙げることができる。無機バリア性の観点からはＳｉＯｘＮｙやＡｌＯｘ、およびそれらの混合物をより好ましい材料として用いることができる。これらの酸化物、窒化物、窒化酸化物に、炭素が導入されていても良い。炭素が導入されると、屈曲時の膜の耐久性を向上することが出来る。

無機バリア層の厚さは、５〜２０００ｎｍであることが好ましく、２０〜４０００ｎｍであることがより好ましい。かかる厚さの範囲内とすることにより、光学積層体の光学的性能を損ねることなく、良好なバリア性能を発揮しうる。

無機バリア層の形成方法は、特に限定されないが、好ましくは、基材上に、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト蒸着、アーク放電プラズマ蒸着、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法等の成膜方法により形成することが好ましい。アーク放電プラズマを用いると適度なエネルギーを有する蒸発粒子が生成され高密度の膜を形成することができる。プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤを用いて、ＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）等の有機物を用いて無機バリア層を成膜した場合、膜中に炭素を導入することが出来るため、屈曲時の膜の耐久性を増すことができる。複数種類の成分を含む無機バリア層を形成する場合、これらを同時に蒸着又はスパッタリングすることができる。

本発明において、無機バリア層は、光学積層体の表裏の一方の面から他方の面への、水分及び酸素等の成分の透過をバリアするのに加えて、基材自体を保護し、基材が外気の水蒸気を吸収して膨張することを防止し、ひいては装置の変形を防止する効果をも発現しうる。
加えて、本発明の光学積層体を基板としてその上に透明電極層を形成する場合は、蒸着、スパッタリング等の、透明電極層の形成の工程の条件下において、基材からアウトガスが放出されるのを防止することができるので、透明電極層の形成の条件を自由に選択することができ、その結果、透明電極層の抵抗値を低減することができる、または透明電極層を容易に製造することが可能となる、等の効果を奏しうる。
さらに、一般に、脂環式構造含有重合体樹脂は他の材料との親和性が低いことが多いところ、無機バリア層は脂環式構造含有重合体樹脂ともその他の材料とも高い親和性を有し得るため、無機バリア層が脂環式構造含有重合体樹脂からなる層とその他の材料からなる層との間に設けられることにより、脂環式構造含有重合体樹脂と他の材料からなる層との密着性が良好となるという効果も奏されうる。

〔面光源装置〕
本発明の面光源装置は、有機ＥＬ発光素子を備える面光源装置であって、有機ＥＬ発光素子よりも出光面側に、前記本発明の光学積層体をさらに備える。具体的には、基材側の面が有機ＥＬ発光素子側となり、表面層側の面が面光源装置の出光面となるよう、光学積層体を面光源装置内に設けることができる。

〔面光源装置の具体例〕
図５は、図１及び図２に示した、凹凸構造を有する表面層１１１を備える本発明の光学積層体１００を備える、本発明の面光源装置の一例を模式的に示す斜視図であり、図６は、図５に示す面光源装置１０を、図５中の線１ａ−１ｂを通り、基材の面方向と垂直な面で切断した断面を示す断面図である。

面光源装置１０は、矩形の平板状の構造を有する装置である。面光源装置１０は、有機ＥＬ素子用基板１３１と、有機ＥＬ素子用基板１３１の一方の面１４６に接して設けられた透明電極層１４１と、透明電極層１４１に接して設けられた発光層１４２と、発光層１４２に接して設けられた反射電極層１４３とを備える。透明電極層１４１、発光層１４２及び反射電極層１４３は、有機ＥＬ素子１４０を構成する。面光源装置１０はさらに、任意の構成要素として、有機ＥＬ素子１４０の、装置出光面とは反対側の表面１４５側に封止基板１５１を有する。

面光源装置１０はさらに、有機ＥＬ素子用基板１３１の他方の面１４７に、直接接して又は図示しない任意の層（粘着層、無機バリア層等）を介して設けられた、光学積層体１００を備える。光学積層体１００は、その基材１２１側の面が、有機ＥＬ素子用基板１３１側に面し、従って有機ＥＬ発光素子１４０側に面するよう設けられている。

発光層１４２からの光は、透明電極層１４１を透過するか、又は反射電極層１４３で反射され、発光層１４２及び透明電極層１４１を透過して、装置出光面側に向かう。有機ＥＬ素子１４０から出光した光の多くは、有機ＥＬ素子用基板１３１、光学積層体の基材１２１、易接着層１０１、及び表面層１１１を、この順に透過して、表面１０Ｕから出光する。したがって、光学積層体１００の表面１０Ｕは、面光源装置１０の装置出光面となる。

このように、発光層１４２からの光が、光学積層体１００を透過して出光することにより、光学積層体１００の表面１０Ｕの凹凸構造により、光取り出し効率を向上させることができる。また、凹凸構造層１１１等の層が拡散性を有する場合は、それによりさらに光が拡散された状態で出光され、その結果、観察角度による出光面の色味の変化を抑制することができる。

さらに、光学積層体１００は、その表面硬さが高く且つ層間の密着性が高いため、それを有する面光源装置１０の耐久性が非常に優れたものとなる。

また、光学積層体１００が基材１２１として脂環式構造含有重合体樹脂からなるものを有する場合、及び光学積層体１００が無機バリア層を有する場合、水蒸気及び酸素等の外気中の発光層を劣化させる成分が装置出光面側から発光層へ到達することを防止するので、寿命の長い装置とすることができる。

〔面光源装置の有機ＥＬ素子〕
前記有機ＥＬ素子１４０として例示するように、本発明の面光源装置は有機ＥＬ素子を備え、かかる有機ＥＬ素子は、透明電極層と、反射電極層等の前記透明電極層に対向する電極層と、これらの電極層間に設けられ、電極から電圧を印加されることにより発光する発光層とを有するものとすることができる。

有機ＥＬ素子は、基板上に素子を構成する電極、発光層等の層を形成し、さらにそれらの層を覆う封止部材を設け、基板と封止部材で発光層等の層を封止した構成とされるのが一般的である。通常、ここでいう基板側から出光する素子はボトムエミッション型、封止部材側から出光する素子はトップエミッション型と呼ばれる。本発明の面光源装置は、これらのいずれであってもよい。

本発明において、有機ＥＬ素子を構成する発光層としては、特に限定されず既知のものを適宜選択することができる。発光層中の発光材料は１種類に限られず、また発光層も１層に限られず、光源としての用途に適合すべく、一種の層単独又は複数種類の層の組み合わせとすることができる。これにより、白色又はそれに近い色の光を発光するものとしうる。

有機ＥＬ素子はさらに、電極間に、発光層に加えてホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層及びガスバリア層等の他の層をさらに有することもできる。有機ＥＬ素子はさらに、電極に通電するための配線、発光層の封止のための周辺構造等の任意の構成要素を備えることもできる。

有機ＥＬ素子の、光学積層体中の透明電極層に対向する電極は、特に限定されず既知のものを適宜選択することができる。図５及び図６に示す有機ＥＬ素子１４０のように、透明電極層１４１に対向する電極１４３を反射電極とすることにより、表面層１１１側に出光する有機ＥＬ素子とすることができる。また、両方の電極を透明電極とし、さらに、出光面から遠いほうの透明電極よりもさらに出光面から遠い位置に反射部材を有することにより、出光面側への出光を達成することもできる。

電極及びその間に設ける層を構成する材料としては、特に限定されないが、具体例として下記のものを挙げることができる。
透明電極の材料としてはＩＴＯ等を挙げることができる。
正孔注入層の材料としてはスターバースト系芳香族ジアミン化合物等を挙げることができる。
正孔輸送層の材料としてはトリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができる。
黄色発光層のホスト材料としては同じくトリフェニルジアミン誘導体等を挙げることができ、黄色発光層のドーパント材料としてはテトラセン誘導体等を挙げることができる。
緑色発光層の材料としては、ピラゾリン誘導体などがあげられる。
青色発光層のホスト材料としてはアントラセン誘導体等を挙げることができ、青色発光層のドーパント材料としてはペリレン誘導体等を挙げることができる。
赤色発光層の材料としては、ユーロピウム錯体などを上げることができる。
電子輸送層の材料にはアルミニウムキノリン錯体（Ａｌｑ）等を挙げることができる。
陰極材料にはフッ化リチウムおよびアルミニウムをそれぞれ用い、これらを順次真空成膜により積層させたものを挙げることができる。

上記のもの又はその他の発光層を適宜組み合わせて積層型又はタンデム型と呼ばれる、補色関係にある発光色を発生する発光層を得ることができる。補色関係の組み合わせは、黄／青、又は緑／青／赤等とすることができる。

〔面光源装置の用途〕
本発明の光学積層体を有する本発明の面光源装置は、照明器具及びバックライト装置等の光源装置としての用途に用いうる。
前記照明器具は、本発明の面光源装置を光源として有し、さらに、光源を保持する部材、電力を供給する回路等の任意の構成要素を含むことができる。前記バックライト装置は、本発明の面光源装置を光源として有し、さらに、筐体、電力を供給する回路、出光する光をさらに均一にするための拡散板、拡散シート、プリズムシート等の任意の構成要素を含むことができる。前記バックライト装置の用途は、液晶表示装置等、画素を制御して画像を表示させる表示装置、並びに看板等の固定された画像を表示させる表示装置のバックライトとして用いることができる。

〔その他〕
本発明は、前記具体例には限定されず、本願の特許請求の範囲及びその均等の範囲内で、任意の変更を施すことができる。
例えば、本発明の光学積層体は、上述した層の他にも任意の層をさらに含むものであってもよい。かかる任意の層は、例えば表面層の表面の凹凸構造の上にさらに設けられたコーティング層であってもよく、かかるコーティング層が、本発明の面光源装置の装置出光面の凹凸構造を規定するものであってもよい。
また、上記実施形態の例示において、光拡散層の表面の全面に分布する凹部として、同一の形状からなるもののみが分布しているものを示したが、凹凸構造において、異なる形状の凹部が混在していてもよい。例えば、大きさの異なる角錐形状の凹部が混在していたり、角錐形状の凹部と円錐形状の凹部が混在していたり、複数の角錐が組み合わされた形状のものと単純な角錐形状とが混在していてもよい。
また、上記具体例において、凹凸構造を構成する平坦部の幅、及び隣り合う平坦部の間隔については、常に一定のものを示したが、平坦部の幅が狭いものと広いものとが混在していてもよく、また、平坦部の間隔が狭い箇所と広い箇所とが混在していてもよい。そのようにして、平坦部の高さ、幅、及び間隔の１以上の要素において、出射光の干渉をもたらす差異を超える寸法差が設けられている態様とすることにより、干渉による虹ムラを抑制することができる。
また、上記具体例の面光源装置１０は、有機ＥＬ素子用基板１３１と、光学積層体用の基材１２１とを有していたが、本発明の面光源装置はこのような態様に限られず、例えば、有機ＥＬ素子用基板１３１を省略し、光学積層体用の基材１２１が有機ＥＬ素子用基板を兼ね、この面上に直接、有機ＥＬ素子１４０が形成されていてもよい。

以下、実施例及び比較例を参照して本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下の実施例において、材料の量比を表す「部」「％」は、別に断らない限り重量比を表す。

実施例及び比較例において、諸物性の測定は、下記の通り行った。
（基板密着性評価）
表面層と易接着層との密着性をＪＩＳ Ｋ ５６００に準じて碁盤目試験で評価した。光学積層体の表面層側の表面にカッターナイフで、１０×１０のマス目を１ｍｍ間隔で作り、その上にセロファンテープ（ＣＴ２４ニチバン製）を貼り、セロファンテープを斜め４５°上方に引っ張り、剥がれなかったマス目を数え以下の基準で評価した。
＜評価基準＞
優：１００（はがれ無し）
良：９０〜９９
不可：８９以下

（表面硬さ評価）
表面層の、凹凸構造が形成された面の硬さを、スチールウール（ＳＷ）試験で評価した。測定には、表面性試験機（ＨＥＩＤＯＮ−１４Ｄ、旭硝工社製）を用いた。光学積層体の表面層側の面に、スチールウール（ＢＯＮＳＴＡＲ＃００００）を、加重２００ｇ／ｃｍ^２、ストローク２５ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復させて傷をつけた。試験前後の光学積層体のヘイズ値を濁度計（ＮＤＭ ２０００、日本電色社製）で測定し、以下の式でΔＨｚを計算した。その結果を以下の基準で評価した。
ΔＨｚ＝（ＳＷ試験後のヘイズ値）−（ＳＷ試験前のヘイズ値）
＜評価基準＞
優：ΔＨｚ、１０未満（ほとんど傷が入っていない）
良：ΔＨｚ、１０〜１９（傷が少し入っている）
不可：ΔＨｚ、２０以上（傷が多く入っている）

（組成物Ｙの安定性評価）
組成物Ｙの粘度を、液温度２５℃の条件で音叉型振動式粘度計（ＳＶ−１０、Ａ＆Ｄ社製）を用いて測定した。組成物Ｙ調製直後（初期粘度）と、組成物Ｙを褐色瓶に密閉し、８℃で１００時間静置した後（冷蔵後粘度）で粘度を測定し、以下の計算式で粘度変化率を計算した。
粘度変化率（％）＝（（冷蔵後粘度−初期粘度）／（初期粘度））×１００
＜評価基準＞
優：粘度変化率１０％未満
良：粘度変化率１０〜１９％以下
不可：粘度変化率２０％以上

＜実施例１＞
（１−１．組成物Ｘ１）
スーパーフレックス２１０（第一工業製薬社製：固形分濃度３５％）１７０部、アジピン酸ジヒドラジド（和光純薬社製）６部、デナコールＥＸ−５２１（ナガセケムテックス社製）３部、純水１８００部からなる混合物を、均一に撹拌混合した後、３μｍのフィルターでろ過して、易接着層を形成するための組成物Ｘ１を得た。

（１−２．基材及び易接着層を有する複層物１）
基材として、幅１３００ｍｍ、長さ１０００ｍのゼオノアフィルム（ＺＦ−１４−１００、日本ゼオン社製）を用意した。この基材の表面に、コロナ放電処理装置（春日電機社製）を用いて、放電量５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２で処理を行った。基材のコロナ処理面に、グラビアコーターを用いて、乾燥膜厚が、０．１μｍになるように組成物Ｘ１を塗布して塗液の層を形成し、この層を９５℃で乾燥し、易接着層を形成し、（基材）−（易接着層）の層構成を有する複層物１を得た。

（１−３．組成物Ｙ１）
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（イソシアネート基含有量 ６．４５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２．６ｃＰ）３部、トリメチロールプロパントリアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度１００ｃＰ）５０部、エトキシ化フェニルアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２０ｃＰ）４７部、光開始剤（イルガキュアー１８４、チバスペシャリティーケミカルズ社製）３部からなる混合物を均一に撹拌混合した後に、３μｍのフィルターでろ過し表面層を形成するための組成物Ｙ１を得た。
得られた組成物Ｙ１において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．１９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．５２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

（１−４．光学積層体１）
直径３００ｍｍ、長さ４００ｍｍの円筒形状の転写ロールを用意した。この転写ロールは、その表面に、頂角６０°、底辺２５μｍの正四角錐が３０μｍのピッチで直交する２方向に並んだ（即ち、隣接する四角錐間に幅５μｍの平坦部が存在する）形状を有していた。
複層物１の易接着層側の面に、ダイコーターを用いて、組成物Ｙ１を塗布膜厚１５μｍで塗布した。転写ロールを塗布面を押し当てて、直径１００ｍｍのゴムロールで複層物１をニップした。複層物１が転写ロールに押し当てられた位置において、複層物１の基材側から、Ｄバルブ（フュージョン社製）を用いて、積算光量１５００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射することにより、組成物Ｙ１の塗布膜を、転写ロール上の形状を転写した状態で硬化させ、（基材）−（易接着層）−（凹凸構造を有する表面層）の層構成を有する光学積層体１を得た。光学積層体１は、図１及び図２に示す光学積層体１００と同様に、表面層側の面に、複数の凹部と、各凹部の周囲に位置する平坦部とを含む凹凸構造を有していた。凹部の形状は四角錐状の窪みであり、その底辺は２５μｍの正方形であり、頂角は６０°であり、隣り合う四角錐間の平坦部の幅は５μｍであった。

（１−５．評価）
得られた光学積層体１を１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに切り出して、試料とし、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ１の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例２＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を５部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を４５部に変更した他は、実施例１の（１−３）と同様にして、組成物Ｙ２を得た。得られた組成物Ｙ２において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．３２ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．５０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ２を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体２を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ２の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例３＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を１０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を４０部に変更した他は、実施例１の（１−３）と同様にして、組成物Ｙ３を得た。得られた組成物Ｙ３において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．６５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ３を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体３を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ３の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例４＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を２０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を３０部に変更した他は、実施例１の（１−３）と同様にして、組成物Ｙ４を得た。得られた組成物Ｙ４において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は１．２９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．３５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ４を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体４を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ４の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例５＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を２０部に、トリメチロールプロパントリアクリレートの添加量を４０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を４０部に変更した他は、実施例１の（１−３）と同様にして、組成物Ｙ５を得た。得られた組成物Ｙ５において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は１．２９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ５を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体５を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ５の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例６＞
（６−１．組成物Ｙ６）
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（イソシアネート基含有量 ６．４５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２．６ｃＰ）２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度１００ｃＰ）２０部、エトキシ化フェニルアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２０ｃＰ）４０部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度１６０ｃＰ）２０部、光開始剤（イルガキュアー１８４、チバスペシャリティーケミカルズ社製）３部からなる混合物を均一に撹拌混合した後に、３μｍのフィルターでろ過し表面層を形成するための組成物Ｙ６を得た。
得られた組成物Ｙ６において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は１．２９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

（６−２．光学積層体６の製造及び評価）
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ６を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体６を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ６の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例７＞
トリメチロールプロパントリアクリレートの添加量を１０部に、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートの添加量を３０部に変更した他は、実施例６の（６−１）と同様にして、組成物Ｙ７を得た。得られた組成物Ｙ７において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は１．２９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４１ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ７を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体７を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ７の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例８＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を３重量部に、トリメチロールプロパントリアクリレートの添加量を３０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を４７部に変更した他は、実施例６の（６−１）と同様にして、組成物Ｙ８を得た。得られた組成物Ｙ８において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．１９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．５０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ８を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体８を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ８の粘度変化を評価した。評価結果を表１に示す。

＜実施例９＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を５重量部に、トリメチロールプロパントリアクリレートの添加量を３０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を４５部に変更した他は、実施例６の（６−１）と同様にして、組成物Ｙ９を得た。得られた組成物Ｙ９において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．３２ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ９を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体９を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ９の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

＜実施例１０＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を３重量部に、トリメチロールプロパントリアクリレートの添加量を１０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を５７部に、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートの添加量を３０部に変更した他は、実施例６の（６−１）と同様にして、組成物Ｙ１０を得た。得られた組成物Ｙ１０において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．１９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．５８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ１０を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体１０を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ１０の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

＜実施例１１＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの添加量を１０部に、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を４０部に変更した他は、実施例１の（１−３）と同様にして、組成物Ｙ１１を得た。得られた組成物Ｙ１１において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．６５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ１１を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体１１を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ１１の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

＜実施例１２＞
（１２−１．組成物Ｙ１２）
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（イソシアネート基含有量 ６．４５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２．６ｃＰ）１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度１００ｃＰ）３０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価１０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度７５０ｃＰ）２０部、エトキシ化フェニルアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２０ｃＰ）４０部、光開始剤（イルガキュアー１８４、チバスペシャリティーケミカルズ社製）３部からなる混合物を均一に撹拌混合した後に、３μｍのフィルターでろ過し表面層を形成するための組成物Ｙ１２を得た。
得られた組成物Ｙ１において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．６５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は２．４３ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

（１２−２．光学積層体６の製造及び評価）
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ１２を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体１２を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ１２の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

＜実施例１３＞
トリメチロールプロパントリアクリレートの添加量を２０部に、ペンタエリスリトールトリアクリレートの添加量を３０部に変更した他は、実施例１２の（１２−１）と同様にして、組成物Ｙ１２を得た。得られた組成物１２において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．６５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は３．４２ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ１３を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体１３を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ１３の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

＜実施例１４＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（イソシアネート基含有量 ６．４５ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２．６ｃＰ）２０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度１００ｃＰ）５０部、エトキシ化フェニルアクリレート（イソシアネート基含有量 ０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、粘度２０ｃＰ）３０部、シリコーン粒子（トスパールＸＣ９９ Ａ８８０８、平均粒子径０．７μｍ、モメンティブマテリアルズ社製）１０部、及び光開始剤（イルガキュアー１８４、チバスペシャリティーケミカルズ社製）３部からなる混合物を均一に撹拌混合した後に、３μｍのフィルターでろ過し表面層を形成するための組成物Ｙ１４を得た。
得られた組成物Ｙ１４において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は１．２９ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．４５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物Ｙ１４を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体１４を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物Ｙ１４の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

＜比較例１＞
２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを添加せず、エトキシ化フェニルアクリレートの添加量を５０部に変更した他は、実施例１の（１−３）と同様にして、組成物ＹＣ１を得た。得られた組成物ＹＣ１において、モノマー全量中のイソシアネート基含有量は０．０ｍｍｏｌ／ｇ、酸価は０．５５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
組成物Ｙ１に代えて組成物ＹＣ１を用いた他は、実施例１の（１−１）〜（１−２）及び（１−４）〜（１−５）と同様にして、光学積層体Ｃ１を得て、基板密着性及び表面硬さを評価した。また、組成物ＹＣ１の粘度変化を評価した。評価結果を表２に示す。

表中の略語の意味は、以下の通りである。
モノマーＡ：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート 配合割合（部）
モノマーＢ−１：トリメチロールプロパントリアクリレート 配合割合（部）
モノマーＢ−２：ペンタエリスリトールトリアクリレート 配合割合（部）
モノマーＣ：下記式（１）で表されるエトキシ化フェニルアクリレート 配合割合（部）

モノマーＤ：下記式（２）で表されるトリシクロデカンジメタノールジアクリレート 配合割合（部）

シリコーン粒子：シリコーン粒子 配合割合（部）
モノマーＢ（％）：組成物Ｙモノマー全量中のモノマーＢの割合 （％）
ＮＣＯ含有量：組成物Ｙモノマー全量中のイソシアネート基の含有割合 （ｍｍｏｌ／ｇ）
酸価：組成物Ｙの酸価 （ｍｇＫＯＨ／ｇ）
碁盤目試験：基板密着性評価における、剥がれなかったマス目の数
ＳＷ試験前ヘイズ（Ａ）：表面硬さ評価における、ＳＷ試験前のヘイズ値
ＳＷ試験後ヘイズ（Ｂ）：表面硬さ評価における、ＳＷ試験後のヘイズ値
ΔＨｚ値（Ｂ−Ａ）：表面硬さ評価における、ΔＨｚ（＝（ＳＷ試験後のヘイズ値）−（ＳＷ試験前のヘイズ値））の計算値
初期粘度（ｃＰ）：組成物Ｙの安定性評価における初期粘度（ｃＰ）
冷蔵後粘度（ｃＰ）：組成物Ｙの安定性評価における冷蔵後粘度（ｃＰ）
粘度変化率（％）：組成物Ｙの安定性評価における粘度変化率（％）

以上の結果から、モノマーＡ（２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）を含む実施例１〜１４と比較して、有しない比較例１は、密着性が著しく低いことがわかる。

＜比較例２＞
（面光源装置）
厚み０．７ｍｍのガラス基板（屈折率１．５３）の一方の主面に、透明電極層１００ｎｍ、ホール輸送層１０ｎｍ、黄色発光層２０ｎｍ、青色発光層１５ｎｍ、電子輸送層１５ｎｍ、電子注入層１ｎｍ、及び反射電極層１００ｎｍを、この順に形成した。ホール輸送層から電子輸送層までは全て有機材料により形成した。黄色発光層及び青色発光層はそれぞれ異なる発光スペクトルを有している。
透明電極層から反射電極層までの各層を形成した材料は、それぞれ下記の通りである：
・透明電極層；錫添加酸化インジウム（ＩＴＯ）
・ホール輸送層；４，４’−ビス［Ｎ−（ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）
・黄色発光層；ルブレン１．５重量％添加 α−ＮＰＤ
・青色発光層；イリジウム錯体１０重量％添加 ４，４’−ジカルバゾリル−１，１’−ビフェニル（ＣＢＰ）
・電子輸送層；フェナンスロリン誘導体（ＢＣＰ）
・電子注入層；フッ化リチウム（ＬｉＦ）
・反射電極層；Ａｌ

透明電極層の形成方法は、ＩＴＯターゲットとした反応性スパッタリング法にて行い、表面抵抗を１０Ω／□以下とした。また、ホール注入層から反射電極層までの形成は、真空蒸着装置内に透明電極層を既に形成したガラス基板を設置し、上記のホール輸送層から反射電極層までの材料を抵抗加熱式により順次蒸着させることにより行なった。系内圧は５ｘ１０^−３Ｐａで、蒸発速度は０．１〜０．２ｎｍ／ｓで行った。
さらに、電極層に通電のための配線を取り付け、さらにホール輸送層から反射電極層までを封止部材により封止し、面光源装置を作製した。得られた面光源装置は、ガラス基板側から白色の光を出光しうる長方形の出光面を有していた。

発光面の正面（法線方向）に分光放射輝度計（ＢＭ−７ トプコン）を設置し、１００ｍＡ／ｍ^２の定電流を印加し、発光面を回転させ、発光面に対する分光放射輝度計の方向を変化させた。方向は、四角錐の底辺の一つに平行な方向へ、正面（法線方向）を０°としたときに−９０〜９０°の範囲で変更させた。−９０〜９０°の範囲で角度５°毎に発光の放射強度、発光スペクトルを測定し、外部量子効率を算出した。また正面（０°）、斜め（４５°）から観察した色度座標（ｘ座標、ｙ座標）を測定した。その結果、外部量子効率は２．５、正面０°における色座標は（０．３５，０．３６）、斜め４５°における色座標は（０．４８，０．４２）であった。

＜実施例１５＞
（１５−１．光学積層体粘着用粘着剤）
アクリル共重合体（ＡＴ−３５２、固形分濃度３５．７ｗｔ％、サイデン化学社製）１００重量部、硬化剤（トリレンジイソシアネート）０．２部、エポキシ（Ａ−３７５、サイデン化学社製）０．２部、シランカップリング剤（Ｓ−１、サイデン化学社製）１部、シリコーン樹脂（トスパール１２０、２．０μｍ、モメンティブマテリアルズ社製）１０部、酢酸エチル３０部、からなる混合液を均一に撹拌して、粘着剤溶液を作製した。

（１５−２．粘着層付き光学積層体）
実施例１４で得られた光学積層体１４の基材側の面に、コロナ放電処理装置（春日電機社製）を用いて、放電量５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を施した。このコロナ処理面に、上記（１５−１）で得た粘着剤溶液を、グラビアコーターを用いて、乾燥膜厚が３０μｍになるように塗布し、８５℃で乾燥して粘着層を形成し、粘着層付き光学積層体（（粘着層）−（基材）−（易接着層）−（凹凸構造を有する表面層）の層構成を有する）を得た。

（１５−３．面光源装置）
比較例１で得た面光源装置の出光面、即ちガラス基板側の面に、上記（１５−２）で得た粘着層付き光学積層体を、粘着層側の面がガラス基板に接するよう貼付し、本発明の光学積層体を有する面光源装置を得た。この面光源装置を、比較例２と同様の方法で評価した。その結果、外部量子効率は３．８、正面０°における色座標は（０．３５，０．３６）、斜め４５°における色座標は（０．３８，０．３９）であった。

実施例１５と比較例２の結果を対比することにより、本発明の光学積層体を光取り出しフィルムとして有する面光源装置は、それを有しない面光源装置に比べて、外部量子効率が高く、正面と斜めの色座標の差が小さいことがわかる。

１０：面光源装置
１０Ｕ：面光源装置用積層体表面
１１Ａ〜１１Ｄ：斜面
１１Ｅ〜１１Ｈ：凹部底辺
１００：光学積層体
１０１：易接着層
１１１：凹凸構造を有する表面層
１１３：凹部
１１４：平坦部
１２１：光学積層体基材
１３１：有機ＥＬ素子基板
１４０：有機ＥＬ素子
１４１：透明電極層
１４２：発光層
１４３：反射電極層
１４４：透明電極層
１５１：封止基板

Claims (9)

1. 基材、前記基材の表面に設けられる易接着層、及び前記易接着層に直接接して設けられる表面層を備える光学積層体であって、
   前記易接着層は、ウレタン樹脂を含む組成物Ｘにより形成された層であり、
   前記表面層は、モノマーＡとモノマーＢとを含む組成物Ｙを硬化してなる層であり、
   前記モノマーＡは、１分子あたり１以上のイソシアネート基を含み且つ１分子あたり１以上の重合性不飽和基を含むモノマーであり、
   前記モノマーＢは、重合性不飽和基を１分子あたり３以上有し、かつイソシアネート基を含まないモノマーである
   光学積層体。
2. 請求項１に記載の光学積層体において、
   前記組成物Ｙにおいて、モノマー全量中のイソシアネート基の含有割合が０．２５ｍｍｏｌ／ｇ以上であり、且つ、モノマー全量中の前記モノマーＢの割合が１５重量％以上である光学積層体。
3. 請求項１又は２に記載の光学積層体において、
   前記組成物Ｙが、光重合開始剤をさらに含む光学積層体。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体において、
   前記表面層は、前記易接着層に接する面と反対側の面に設けられた凹凸構造を有する光学積層体。
5. 請求項４に記載の光学積層体において、
   前記表面層は、
   前記易接着層上に前記組成物Ｙを塗布して塗膜を得、
   前記塗膜に型を当てた状態で、前記基材及び前記易接着層を通して前記塗膜に光を照射して前記組成物Ｙを硬化させ、
   前記型を剥離してなるものである
   光学積層体。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体において、
   前記表面層は、粒子を含有する光学積層体。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学積層体において、
   前記易接着層は、シリカ粒子を含有する光学積層体。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学積層体において、
   前記組成物Ｘは、前記ウレタン樹脂を、水系ウレタン樹脂として含む光学積層体。
9. 有機エレクトロルミネッセンス発光素子を備える面光源装置であって、
   前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子よりも出光面側に、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学積層体をさらに備える面光源装置。

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