CN103885106A - 用于减少色移的光学膜和采用其的有机发光显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了用于减少色移的光学膜和采用其的有机发光显示装置。该光学膜和有机发光显示装置包括高折射率图案层,该高射率图案层包括彼此面对的第一表面和第二表面,其中第一表面包括具有多个凹槽的图案。多个凹槽的每个具有弯曲表面以及大于其宽度的深度。高折射率图案层由具有大于1的折射率的材料形成。该光学膜和有机发光显示装置还包括低折射率图案层,该低折射率图案层由具有比构成高折射率图案层的材料的折射率小的折射率的材料形成。低折射率图案层包括用于填充多个凹槽的填充材料。
Description
技术领域
本公开涉及用于减少色移的光学膜和/或采用该光学膜的有机发光显示装置。
背景技术
有机发光二极管(OLED)包括阳极、有机发光层和阴极。这里,当电压施加在阳极和阴极之间时,空穴从阳极注入到有机发光层内,而电子从阴极注入到有机发光层内。此时,注入到有机发光层内的空穴和电子复合并产生激子,当激子从激发态跃迁到基态时发射光。
因为这样的OLED的发光体是有机材料,所以使用寿命恶化是关于OLED发展的核心问题,许多技术正受到关注以解决该问题。
在这些技术当中,利用微腔结构的技术是用于通过使光谐振来增加特定波长的光的强度并将该特定波长的光发射到外面的技术。换句话说,微腔结构是这样的结构,其中阳极和阴极之间的距离被设计为分别对应于红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的典型波长,使得仅与其对应的波长的光谐振并被发射,其他波长的光被削弱。结果,发射到这种结构外面的光变得更强并且更锐,从而改善亮度和色纯度。此外,增加的亮度导致降低的功耗,从而引起增加的使用寿命。
然而,在微腔结构中,被放大的波长基于有机沉积材料层的厚度来确定。这里,光路的长度在横向侧改变,从而引起与有机沉积材料层的厚度的改变类似的效果。因此,要被放大的波长被改变。
换句话说,当视角从前面到侧面倾斜时,最大分辨率波长变短,因此当最大分辨率波长减小时发生色移。例如,即使在前面表现白色,在横向侧由于蓝移现象而使白色会变得带蓝色。
发明内容
提供了用于减少色移的光学膜和/或采用该光学膜的有机发光显示装置。
根据一些示例实施方式,一种光学膜包括:高折射率图案层,包括彼此面对的第一表面和第二表面,其中第一表面包括具有多个凹槽的图案,多个凹槽的每个具有弯曲表面以及大于其宽度的深度,高折射率图案层由具有大于1的折射率的材料形成;和低折射率图案层,由具有比构成高折射率图案层的材料的折射率小的折射率的材料形成,其中低折射率图案层包括用于填充多个凹槽的填充材料。
具有多个凹槽的图案可以是凹刻图案。
填充材料可以是空气或树脂材料。
填充材料可以包括透明塑料材料,该透明塑料材料包括光散射物或光吸收物。
低折射率图案层可以包括多个突起,该多个突起构成对应于多个凹槽的图案。
低折射率图案层可以包括透明塑料材料,该透明塑料材料包括光散射物或光吸收物。
每个凹槽的深宽比可以大于1并且小于3,深宽比可以是凹槽的深度相对于凹槽的宽度之间的比率。
多个凹槽可以每个具有延伸的条形。
从相对于高折射率图案层的透视图来看,多个凹槽可以构成点状图案。
弯曲表面可以是非球面表面。
多个凹槽的宽度之和可以占据高折射率图案层的宽度的约25%至约50%。
光学膜还可以包括在低折射图案层下的第一粘合层。
圆偏振层或抗反射层可以在高折射图案层上。
光学膜还可以包括第一基底层和第二粘合层,其中高折射图案层、第一基底层、第二粘合层和圆偏振层被顺序地布置。
圆偏振层可以包括顺序地布置在第二粘合层上的相位转换层、线偏振层和第二基底层。
第一基底层可以在高折射图案层和抗反射层之间。
光学膜还可以包括圆偏振层,该圆偏振层包括相位转换层和线偏振层。
第一粘合层、低折射图案层、高折射图案层、相位转换层、线偏振层、第一基底层和抗反射层可以被顺序地布置。
光学膜还可以包括第二基底层,其中高折射图案层、第二基底层、第二粘合层和相位转换层被顺序地布置。
第一基底层和第二基底层可以由光学各向同性材料形成。
第一粘合层、相位转换层、线偏振层、低折射图案层、高折射图案层、第一基底层和抗反射层可以被顺序地布置。
线偏振层、第二基底层、第二粘合层和低折射图案层可以被顺序地布置。
第一粘合层、相位转换层、低折射图案层、高折射图案层、线偏振层、第一基底层和抗反射层可以被顺序地布置。
第二基底层可以在高折射图案层和线偏振层之间。
第一粘合层、相位转换层、线偏振层、第一基底层和低折射图案层可以被顺序地布置。
光学膜还可以包括在高折射图案层和抗反射层之间的透射率调节层。
光学膜还可以包括在高折射图案层和透射率调节层之间的第一承载膜。
第二粘合层可以在第一承载膜和透射率调节层之间,第二承载膜可以在透射率调节层和抗反射层之间。
第一承载膜可以在透射率调节层和抗反射层之间。
第二粘合层可以在高折射图案层和透射率调节层之间,第二承载膜可以在第一粘合层和低折射图案层之间。
根据其它示例实施方式,一种有机发光显示装置包括:有机发光显示面板,包括发射不同波长的光的多个像素和多个有机发光层,每个有机发光层具有配置为使相应波长的光谐振并发射的微腔结构;以及光学膜,在有机发光显示面板上。
多个凹槽可以每个具有延伸的条形。
多个凹槽的延伸方向可以对应于有机发光显示面板的垂直方向。
多个像素可以沿有机发光显示面板的垂直方向和水平方向二维地布置,多个凹槽的延伸方向和多个像素被布置的垂直方向可以不平行于彼此。
从相对于高折射率图案层的透视图来看,多个凹槽可以构成点状图案。
多个凹槽的每个的深宽比可以大于1并且小于3,其中深宽比是凹槽的深度相对于凹槽的宽度之间的比率。
弯曲表面可以是非球面表面。
多个凹槽的宽度之和可以占据高折射率图案层的宽度的约25%至约50%。
有机发光显示装置还可以包括在有机发光显示面板和光学膜之间的粘合膜。
粘合膜可以由包括光吸收物和光散射物的压敏粘合剂(PSA)材料形成。
有机发光显示装置还可以包括在高折射图案层上的圆偏振层。
有机发光显示装置还可以包括在高折射图案层上的抗反射层。
有机发光显示装置还可以包括圆偏振层,该圆偏振层包括相位转换层和线偏振层,其中圆偏振层在高折射图案层和抗反射层之间。
有机发光显示装置还可以包括在高折射图案层和抗反射层之间的透射率调节层。
有机发光层和光学膜之间的距离可以小于或等于约1.5mm。
根据其它示例实施方式,一种光学膜包括折射层,该折射层由具有大于1的折射率的第一材料和具有比第一材料的折射率小的折射率的第二材料形成。第一材料和第二材料之间的界面具有带有多个凹槽的图案。多个凹槽的每个具有弯曲表面和大于其宽度的深度。第二材料填充多个凹槽。
每个凹槽的倾斜角θ可以在15°≤θ≤75°之间,其中倾斜角是直线和界面之间的角度,该直线将每个凹槽的顶点连接到相邻凹槽的沿界面的最近起始点。
弯曲表面可以具有抛物面形状。
多个凹槽可以每个通过朝向第二材料突出的两个突起限定。
附图说明
从以下结合附图的详细描述,示例实施方式将被更清楚地理解。图1至图26示出如这里描述的非限制性的示例实施方式。
图1是根据一些示例实施方式的光学膜的分解透视图;
图2是沿图1的线A-A'截取的截面图,示出垂直地入射到光学膜的光被发射的光路;
图3是沿图1的线A-A'截取的截面图,示出以倾斜角入射到光学膜的光被发射的光路;
图4是示出在图1的光学膜中根据倾斜角θ的变化的色移的计算机模拟曲线图;
图5是示出在图1的光学膜中根据图案密度的变化的透射率和色移的计算机模拟曲线图;
图6是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性分解透视图;
图7是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性分解透视图;
图8是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性分解透视图;
图9是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性截面图;
图10是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性截面图;
图11至图17是根据示例实施方式的采用圆偏振层和抗反射层的光学膜的示意性截面图;
图18至图21是根据示例实施方式的采用透射率调节层和抗反射层的光学膜的示意性截面图;
图22是根据一些示例实施方式的有机发光显示装置的截面图;
图23示意地示出图22的有机发光显示装置中粘合层的布置和有机发光显示面板的像素布置之间的关系;
图24是示出在采用根据示例实施方式的光学膜的情形下根据视角的色移与在常规光学膜中根据视角的色移之间的比较的曲线图;
图25是示出在采用根据示例实施方式的光学膜的情形下根据视角的亮度与在常规光学膜中根据视角的亮度之间的比较的曲线图;以及
图26是示出根据其它示例实施方式的有机发光显示装置的示意性截面图。
具体实施方式
现在将参照附图更全面地描述不同的示例实施方式,附图中示出了一些示例实施方式。然而,这里公开的具体结构和功能细节仅是代表性的,用于描述示例实施方式的目的。因此,本发明可以以许多备选的形式实施,而不应被解释为仅限于这里阐述的实施方式。因此,应当理解,并不旨在将示例实施方式限制为所公开的特定形式,而是相反的,示例实施方式涵盖落在该范围内的所有修改、等同和替换。
在附图中,为了清晰起见,层和区域的厚度可以被夸大,在附图的描述中,相同的附图标记始终指代相似的元件。
尽管这里可以使用术语第一、第二等来描述各种元件,但这些元件不应受到这些术语限制。这些术语仅被用于将一个元件与另一元件区别开。例如,第一元件可以被称为第二元件,类似地,第二元件可以被称为第一元件,而不背离示例实施方式的范围。如这里所用的,术语“和/或”包括一个或多个相关列举项目的任何及所有组合。
将理解,如果称一个元件“连接到”或“耦接到”另一元件,它可以直接连接到或耦接到另一元件上,或者还可以存在居间元件。相反,如果称一个元件“直接连接到”或“直接耦接到”另一元件,不存在居间元件。用于描述元件之间的关系的其他词语应当以类似的方式解释(例如,“在...之间”与“直接在...之间”、“相邻”与“直接相邻”,等等)。
这里所使用的术语仅是为了描述特定实施方式的目的,并非意欲限制示例实施方式。如这里所用的,除非上下文另有明确表述,否则单数形式“一”和“该”均同时旨在包括复数形式。将进一步理解的是,术语“包括”和/或“包含”,如果在这里使用,指明了所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在,但并不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组合的存在或增加。
为便于描述,这里可以使用空间相对性术语(例如,“在…之下”、“在...下方”、“下”、“在…上方”、“上”等)以描述如附图所示的一个元件或特征与另一个元件或特征之间的关系。将理解,空间相对性术语旨在概括除附图中所示的取向之外器件在使用或操作中的不同取向。例如,如果附图中的器件翻转过来,被描述为“在”其他元件或特征“之下”或“下面”的元件将会在其他元件或特征的“上方”。因此,例如,术语“在...下方”就能够涵盖上方和下方两种取向。器件可以采取其他取向(旋转90度或在其他取向观看或参考),这里所使用的空间相对性描述符应该做相应解释。
这里参照截面图描述示例实施方式,这些图为理想化的实施方式(和中间结构)的示意图。因而,由例如制造技术和/或公差引起的图示形状的变化是可能发生的。因此,示例实施方式不应被解释为仅限于这里示出的区域的特定形状,而是可以包括由例如制造引起的形状的偏差在内。例如,图示为矩形的注入区域可以具有圆化或弯曲的特征和/或在其边缘处的梯度(例如,注入浓度的梯度)而不是从注入区到非注入区的突然变化。类似地,通过注入形成的埋入区可以导致在埋入区和通过其可发生注入的表面之间的区域中的一些注入。因此,附图所示的区域在本质上是示意性的,它们的形状并非要展示器件的区域的实际形状,也并非要限制范围。
还应当指出,在一些备选的实施中,所提及的功能/动作可以不按照附图中所示的次序发生。例如,取决于所涉及的功能/动作,依次示出的两个附图可以实际上基本上同时地执行或者可以有时以相反的次序执行。
除非另行定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)都具有示例实施方式所属领域内的普通技术人员所通常理解的同样的含义。将进一步理解的是,诸如通用词典中所定义的术语,除非这里加以明确定义,否则应当被解释为具有与它们在相关领域的语境中的含义相一致的含义,而不应被解释为理想化的或过度形式化的意义。
为了更具体地描述示例实施方式,将参照附图详细描述各个特征。然而,所描述的示例实施方式不限于此。
图1是根据一些示例实施方式的光学膜的分解透视图。
参照图1,光学膜100包括高折射率图案层110和形成在高折射率图案层110上的低折射率图案层120,高折射率图案层110包括具有弯曲表面的多个凹槽GR。低折射率图案层120由具有比构成高折射率图案层110的材料低的折射率的材料形成,并包括用于填充多个凹槽GR的填充材料。
高折射率图案层110可以由具有大于1的折射率的材料(例如,透明塑料材料)形成。此外,光学膜100也可以由包含光散射物或光吸收物的透明塑料材料形成。光散射物可以是散射珠,光吸收物可以是黑色染料,诸如碳黑。光散射物通过平坦化在基于角度的色移处产生的峰而改善可见度特性以及通过特定凹槽而改善亮度分布。另外,光吸收物可以通过利用选择性地吸收特定波长的光的染料或吸收所有的可见光波长的光的碳黑而有助于改善对比度或色纯度。
凹槽GR形成为具有大于1的深宽比。换句话说,凹槽GR形成为具有大于宽度w的深度d,其中深宽比d/w可以大于1并且小于3,凹槽GR可以以设定(或预定)的周期C重复地布置。
在图1所示的凹槽GR的形状中,凹槽GR的顶点相对于相邻的凹槽GR的起始点的倾斜角θ可以被限定。倾斜角θ是形成在直线和顶表面之间的角度,该直线连接凹槽GR的顶点和相邻的凹槽GR在高折射图案层110的顶表面处的起始点。
倾斜角θ可以利用凹槽GR的深度d、宽度A和周期C由公式1表示:
θ=tan-1(d/(C-A/2)) 公式1。
如以上所示定义的倾斜角θ可以显著地影响光学膜100的性能,更具体地,根据视角的增大而减少色移的性能,并可以满足公式2:
A/C<0.5 公式2。
形成凹槽GR的表面是弯曲表面并可以是非球面表面。例如,构成凹槽GR的弯曲表面可以是椭圆表面、抛物面表面或双曲面表面。此外,凹槽G可以像条一样延伸。
多个凹槽GR的宽度之和可以占据高折射率图案层110的宽度的约25%至约50%。
如图1所示,低折射率图案层120可以形成为具有突起P的膜,突起P对应于多个凹槽GR。换句话说,低折射率图案层120具有不仅填充多个凹槽GR并且包括具有设定(或预定)厚度的平坦部分的形式。根据用于填充凹槽GR的材料和方法,低折射率图案层120的平坦部分的厚度和平坦度可以改变。此外,低折射率图案层120可以由具有比构成高折射率图案层110的材料低的折射率的材料形成。换句话说,低折射率图案层120可以由透明塑料材料或包含光散射物或光吸收物的透明塑料材料形成。光散射物可以是散射珠,而光吸收物可以是黑色染料,诸如碳黑。
光学膜100可以包括第一透镜图案层和第二透镜图案层,第一透镜图案层包括第一组的低折射率图案层和高折射率图案层,第二透镜图案层包括第二组的低折射率图案层和高折射率图案层。第一组中的高折射率图案层可以包括每个在Y轴方向上延伸的第一凹槽,第二组中的高折射率图案层可以包括在X轴方向上延伸的第二凹槽(未示出)。也就是说,第二凹槽可以形成为垂直地或以设定角度交叉第一凹槽。设定角度可以例如为不垂直(例如,θ<90°)并且不平行于第一凹槽延伸的第一方向。
第一透镜图案层和/或第二透镜图案层可以每个包括透镜图案区域(其中形成一组凹槽)和不具有图案(或没有凹槽的图案)的非图案区域。透镜图案区域和非图案区域可以在设定周期内交替地形成。设定周期、透镜图案区域的宽度和非图案区域的宽度可以考虑到显示面板的像素布置来确定,光学膜100附接到该显示面板。光学膜100可以附接到具有其中发射区域和非发射区域交替地设置的像素布置的显示面板。透镜图案区域和非图案区域的宽度以及设定周期可以确定为使得透镜图案区域设置为面对发射区域并且非图案区域设置为面对非发射区域的至少一部分。以下将参照图22和图26描述光学膜100和显示面板之间的布置关系。
光学膜100用于将在一方向上入射到其的光折射,并且基于入射的位置而在其它不同方向的任一个上发射光,其中光被光学膜100混合。以下将参照图2和图3给出其详细描述。
图2是沿图1的线A-A'截取的截面图,示出垂直地入射到光学膜的光被发射的光路。图3是沿图1的线A-A'截取的截面图,示出以倾斜角入射到光学膜的光被发射的光路。
参照图2和图3,高折射率图案层110和低折射率图案层120之间的界面包括构成凹槽GR的弯曲表面110a和平坦表面110b,其中弯曲表面110a用作透镜表面。
参照图2,根据光接触弯曲表面110a的位置,垂直地入射到光学膜100的光被折射到不同的方向并从光学膜100发射。换句话说,根据光束接触弯曲表面110a的相应位置,具有相同入射角的光束被折射到不同的方向,因此光被散射。
此外,参照图3,根据光束入射的相应位置,以倾斜角入射到光学膜100的光束被折射到不同的方向。具体地,透射过平坦表面110b并在高折射率图案层110处接触弯曲表面110a的光束L1被弯曲表面110a全反射并从光学膜100发射出去。在该光路中,光束L1从高折射率图案层110的顶表面发射的角度小于光束L1入射到光学膜100的角度。另外,透射过平坦表面110b而没有透射过弯曲表面110a的光束L2被折射,使得在高折射率图案层110和外部之间的界面处的折射角大于入射角,因此光束L2以大于入射角的角度从光学膜100发射。此外,在低折射率图案层120处接触弯曲表面110a的光束L3在弯曲表面110a处被折射并在高折射率图案层110的顶表面处被再次折射,因此光束L3以比光束L2大的角度从光学膜100发射,光束L2透射过平坦表面110b并从光学膜100发射而没有接触弯曲表面110a。如上所述,以相同的倾斜角入射到光学膜100的光束L1、L2和L3根据入射的相应位置以不同的折射角从光学膜100发射。
如上所述,透射过光学膜100的光是以不同的角度从光学膜100发射的光束的混合。
在以上给出的描述中,入射光被散射的具体光路仅是示例。光路可以根据高折射率图案层110和低折射率图案层120的折射率之间的差异、在高折射率图案层110处凹槽GR的深宽比、凹槽GR的弯曲表面的形状和凹槽GR的占有比率而改变;光的混合或发射的光的亮度可以基于光路而改变。
由于光混合特征,当光束入射到根据入射角而具有不同的光学特性的光学膜100时,发射的光的光学特征可以被同样地混合。例如,当光束从OLED发射出去时,可能发生色移。换句话说,色彩特性可能根据发射角度而略微地改变。然而,在这样的光束透射过具有如上所述的结构的光学膜100之后,色移被混合,因此根据视角的色移可以被减小。
图4是示出图1的光学膜中根据倾斜角θ的变化的色移(Δu'v')的计算机模拟曲线图。
计算机模拟通过利用照明光学模拟程序来进行,从对包括微腔结构的有机发光装置面板的模拟的结果,基于前方的白色(x,y)=(0.28,0.29)来计算在设定(或预定)视角处的色移(Δu'v')。
以下在表1中示出图中所示的详细数据。
表1
情形# | θ(°) | 宽度(A)(μm) | 深度(d)(μm) | 周期(C)(μm) | △u'v' |
1 | 3.95 | 10 | 2 | 34 | 0.0384 |
2 | 9.78 | 10 | 5 | 34 | 0.031 |
3 | 17.24 | 10 | 9 | 34 | 0.02 |
4 | 46.22 | 10 | 24 | 28 | 0.0125 |
5 | 55.3 | 10 | 26 | 23 | 0.0098 |
6 | 63.43 | 10 | 36 | 23 | 0.0156 |
7 | 69.4 | 10 | 12 | 9.5 | 0.019 |
8 | 74.5 | 10 | 36 | 15 | 0.023 |
参照图4所示的曲线图,随着倾斜角θ增大,色移(Δu'v')减小并再次增大。换句话说,色移(Δu'v')减小直到特定倾斜角θ(其为约60°),当倾斜角θ超过该特定倾斜角θ时色移(Δu'v')再次增大。
看起来色移(Δu'v')增大的原因是散射,该散射在倾斜角θ超过设定(或预定)值时变得细微。换句话说,如以上参照图3所述,当需要将光束例如光束L1、光束L2和光束L3适当地混合以减少色移时,光束(像光束L3)的百分比减小。
总之,色移曲线图在特定角度附近表现出如同V的形状。通常,众所周知,当横向侧色移小于约0.02时,人眼几乎不能分辨色移。因此,例如,15°<θ<75°或15°≤θ≤75°之间的范围对于改善色移可以是有效的。此外,θ越大,制造工艺会变得更加困难。因此,考虑到制造工艺中的困难,可以采用15°<θ<65°或15°≤θ≤65°之间的范围。
图5是示出在图1的光学膜中根据图案密度的变化的透射率和色移(Δu'v')的计算机模拟曲线图。
以下在表2中示出图中所示的详细数据。
表2
情形# | A/C | θ(°) | 宽度(A)(μm) | 深度(d)(μm) | 周期(C)(μm) | △u'v' | 透射率(%) |
1 | 0.18 | 55.4 | 9 | 66 | 50 | 0.0227 | 97.5% |
2 | 0.2 | 55.7 | 10 | 66 | 50 | 0.0213 | 97% |
3 | 0.22 | 55.6 | 11 | 65 | 50 | 0.02 | 96.4% |
4 | 0.435 | 55.3 | 10 | 26 | 23 | 0.0098 | 87.6% |
5 | 0.5 | 55.7 | 10 | 22 | 20 | 0.087 | 84.3% |
6 | 0.55 | 55.4 | 11 | 21 | 20 | 0.093 | 81.3% |
在图5所示的曲线图中,倾斜角θ被固定到约55°的角度,并示出根据A/C的色移和透射率。
当对于每种情形计算色移改善和正面透射率时,如图中所示,随着A/C增大,色移减小并在A/C为约0.5时再次增大。此外,随着A/C增大,正面透射率以线性方式减小。因为光学膜100是布置在显示面板的前面的膜,所以低于或等于特定水平的透射率是无意义的。因此,A/C可以小于或等于0.5,在该值处色移改善减慢或反转,以更有效地用于改善色移。
在下文将描述根据不同示例实施方式的光学膜的结构。
图6是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性透视图。
参照图6,光学膜101具有其中包括弯曲表面的多个凹槽GR被凹刻的结构,其中凹槽GR的深度大于凹槽GR的宽度。光学膜101包括高折射率图案层110和低折射率图案层121,高折射率图案层110由具有大于1的折射率的材料形成,低折射率图案层121由具有比构成高折射率图案层110的材料小的折射率的材料形成。
凹槽GR可以利用本领域中已知的技术形成。例如,高折射率层(未示出)可以利用光刻技术、湿或干化学机械抛光或类似技术来蚀刻。
与上述示例实施方式相比,根据本示例实施方式的光学膜101包括低折射率图案层121。换句话说,与图1的光学膜100相比,代替布置包括突起的膜型的低折射率图案层120,凹槽GR被低折射率材料填充。低折射率材料可以是树脂材料或空气或另外的气体介质。
图7是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性分解透视图。
参照图7,光学膜200包括高折射率图案层210和形成在高折射率图案层210上的低折射率图案层220,高折射率图案层210包括具有弯曲表面的多个凹刻的凹槽GR。低折射率图案层220由具有比构成高折射率图案层210的材料小的折射率凹槽材料形成,并包括构成对应于多个凹槽GR的图案的突起P。
根据本示例实施方式的光学膜200与图1的光学膜100相同,除了从相对于高折射率图案层210的透视图来看凹槽GR构成点状图案之外。
图8是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性分解透视图。
参照图8,根据本示例实施方式的光学膜201与图5的光学膜200相同,除了低折射率图案层221的结构之外。换句话说,代替布置包括突起P的膜型的低折射率图案层220,构成点状图案的凹槽GR被低折射率材料填充,其中低折射率材料可以是树脂材料或空气。
上述的光学膜100、101、200和201还可以包括在光学膜被应用于有机发光显示装置时会需要的粘合层以及抗反射层、圆偏振层或透射率调节层。
在下文,将详细描述根据示例实施方式的光学膜的结构。
图9是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性截面图。
参照图9,光学膜300包括高折射率图案层110和低折射率图案层120。高折射率图案层110包括多个凹槽GR,而低折射率图案层120由具有比构成高折射率图案层110的材料低的折射率的材料形成,并且包括填充形成在高折射率图案层110中的多个凹槽GR的填充材料。除了图7所示的结构,还可以应用包括高折射率图案层210和低折射率图案层121、220和221的结构。
此外,第一基底320还可以形成在高折射率图案层110上。第一基底320可以由光学各向同性材料例如三乙酰纤维素(TAC)形成。
圆偏振层340还可以布置在第一基底320上,其中圆偏振层340可以包括相位转换层342、线偏振层344和第二基底346。第二基底346可以由光学各向同性材料例如三乙酰纤维素(TAC)形成。然而,示例实施方式不限于此。例如,如果将被布置在第一基底320上的膜不是圆偏振层,则第二基底346可以由PET或PC形成。
此外,第一粘合膜330还可以形成在第一基底320和圆偏振层340之间。第一粘合膜330可以由压敏粘合剂(PSA)材料或包含光吸收物或光散射物的PSA材料形成。
此外,第二粘合膜310还可以形成在低折射率图案层120的底表面上。低折射率图案层120的底表面与低折射率图案层120的接触高折射率图案层110的表面相反。当光学膜300被应用于有机发光显示装置时,低折射率图案层120的底表面成为附接到有机发光显示面板的表面。第二粘合膜310可以由包含光吸收物或光散射物的PSA材料形成。
图10是根据其它示例实施方式的光学膜的示意性截面图。
参照图10,光学膜905具有其中抗反射层190形成在高折射图案层110上并且第一粘合层131形成在低折射图案层120下的结构,其中第一基底141还可以形成在高折射图案层110和抗反射层190之间。
抗反射层190可以具有其中具有不同折射率的无机材料被堆叠的多层结构。例如,抗反射层190可以具有包括高折射层和低折射层的双层结构。
第一粘合层131是用于粘合到有机发光面板的层,并且可以由PSA材料或包含光吸收物或光散射物的PSA材料形成。此外,高折射图案层110和/或低折射图案层120可以由包含光吸收物的透明材料形成。当包括光吸收物的材料被应用于构成光学膜的各个层时,可以减少环境光的反射,从而改善可见度。
第一基底141被用作用于形成高折射图案层110和低折射图案层120的基底,并且可以由光学各向同性材料例如TAC形成。
图11至图17是根据示例实施方式的采用圆偏振层和抗反射层的光学膜的示意性截面图。
圆偏振层可以包括相位转换层150和线偏振层160。
相位转换层150可以是λ/4相位差膜。
线偏振层160可以包括聚乙烯醇(PVA)膜,并且可以具有包括TAC膜的堆叠结构或其他不同结构中的任一种。PVA膜是用于光偏振的膜,并且可以通过将二色性的染料吸附到作为聚合物材料的聚乙烯醇而形成。
参照图11和图12,光学膜906和907包括以所述次序从下堆叠的粘合层131、低折射图案层120、高折射图案层110、相位转换层150、线偏振层160、第一基底141和抗反射层190。
包括相位转换层150和线偏振层160的圆偏振层通过减少环境光的反射而增大可见度。当非偏振的环境光入射时,环境光穿过线偏振层160并且被线偏振,然后线偏振光被相位转换层150圆偏振。接下来,圆偏振光穿过相位转换层150与高折射图案层110之间的界面、高折射图案层110、低折射图案层120和第一粘合层131,并在第一粘合层131与有机发光面板(未示出)之间的界面处被反射,而变成具有相反旋转方向的圆偏振光。接下来,圆偏振光穿过相位转换层150,变成垂直于线偏振层160的透射轴的线偏振光,没有发射到外部。
如图11和图12所示,圆偏振层布置在高折射图案层110上。因此,如果高折射图案层110由具有与圆偏振层不同的光轴的各向异性材料形成,则不发生偏振,因此入射的外部光可以再次发射到外部。结果,反射会显著地增加,因而可见度会恶化。因此,需要利用具有与圆偏振层相同的光轴的各向同性材料例如TAC或脱溶剂的聚碳酸酯(PC)来形成高折射图案层110。
与图11的光学膜906相比,图12的光学膜907还包括在高折射图案层110和相位转换层150之间的第二基底142和第二粘合层132,其中第二基底142和第二粘合层132以所述次序从高折射图案层110到相位转换层150形成。
参照图13和图14,光学膜908和909包括第一粘合层131、相位转换层150、线偏振层160、低折射图案层120、高折射图案层110、第一基底141和抗反射层190。
图14的光学膜909还包括在线偏振层160和低折射图案层120之间的第二基底142和第二粘合层132,其中第二基底142和第二粘合层132以所述次序从线偏振层160到低折射图案层120形成。
参照图15和图16,光学膜910和911包括以所述次序从下布置的第一粘合层131、相位转换层150、低折射图案层120、高折射图案层110、线偏振层160、第一基底141和抗反射层190。
图16的光学膜911还包括在高折射图案层110和线偏振层160之间的第二基底142。
参照图17,光学膜912包括以所述次序布置的第一粘合层131、相位转换层150、线偏振层160、第一基底141、低折射图案层120、高折射图案层110和抗反射层190。
图18至图20是根据示例实施方式的采用透射率调节层和抗反射层的光学膜的示意性截面图。
透射率调节层170可以是通过将用于吸收光的黑色材料例如黑色染料、黑色颜料、碳黑或涂覆有其的颗粒扩散到聚合物树脂而形成的膜。聚合物树脂不仅可以是如同PMMA的粘合剂,还可以是可UV固化的树脂诸如丙烯酸树脂。然而,示例实施方式不限于此。此外,透射率调节层170的厚度或聚合物树脂中黑色材料的浓度可以基于黑色材料的光学特性而被适当地确定。透射率调节层170的透射率可以为40%或更高,其略微地高于圆偏振层的透射率。尽管圆偏振层能够几乎完全地阻挡外部光,但是圆偏振层表现出低透射率。因此,采用透射率调节层170。
参照图18和图19,光学膜913和914包括从下面以所述次序布置的第一粘合层131、低折射图案层120、高折射图案层110、第一承载膜181、透射率调节层170和抗反射层190。
图19的光学膜914还包括在第一承载膜181和透射率调节层170之间的第二粘合层132以及在透射率调节层170和抗反射层190之间的第二承载膜182。
参照图20和图21,光学膜915和916包括从下面以所述次序布置的第一粘合层131、低折射图案层120、高折射图案层110、透射率调节层170、第一承载膜181和抗反射层190。
图21的光学膜916还包括在高折射图案层110和透射率调节层170之间的第二粘合层132以及在第一粘合层131和低折射图案层120之间的第二承载膜182。
第一承载膜181和第二承载膜182被用作用于形成高折射图案层110和低折射图案层120的基底或用于形成抗反射层190和透射率调节层170的基底。由于图16至图19的光学膜不包括线偏振层,所以不需要偏振保持功能。因此,包括TAC、PET和PC的不同材料的任一种可以被用作基底。
尽管图20和图21的光学膜915和916的高折射图案层110和低折射图案层120可以具有图1所示的形状,但是示例实施方式不限于此,高折射图案层110和低折射图案层120可以具有图6至图8所示的形状。
图22是根据一些示例实施方式的有机发光显示装置的截面图,图23示意地示出图22的有机发光显示装置中粘合层的布置和有机发光显示面板的像素布置之间的关系。
参照图22,有机发光显示装置500包括有机发光显示面板510以及布置在有机发光显示面板510上的光学膜530,有机发光显示面板510包括发射不同波长的光的多个像素并且包括具有使对应波长的光谐振的微腔结构的有机发光层。粘合层520可以进一步形成在有机发光显示面板510和光学膜530之间。此外,圆偏振层540可以进一步布置在光学膜530上。
有机发光显示面板510形成为具有微腔结构以改善亮度和色纯度。换句话说,有机发光显示面板510包括多个OLED,其每个发射红光、绿光或蓝光,其中每个OLED包括阳极13、有机发光层14和阴极15。如图7所示,在有机发光显示面板510包括布置为使得单元像素表现红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的OLED的情形下,有机发光显示面板510形成为具有微腔结构,在该微腔结构中,对应于较长波长的红色OLED的阳极13和阴极15之间的距离是最大的,对应于较短波长的蓝色OLED的阳极13和阴极15之间的距离是最短的。换句话说,有机发光显示面板510形成为使得阳极13和阴极15之间的距离分别对应于红色、绿色和蓝色的典型波长。因此,只有对应波长的光被谐振并且发射到有机发光显示面板的外面,而其他波长的光被削弱。
以下将给出有机发光显示面板510的详细说明。
有机发光显示面板510的每个子像素可以由OLED和驱动电路12形成,OLED布置在彼此面对的第一基板11和第二基板19之间并且包括阳极13、有机发光层14和阴极15,驱动电路12形成在第一基板11上并且电连接到阳极13和阴极15。
这里,阳极13可以由不透明金属诸如铝(Al)形成,而阴极15可以由透明电极诸如铟锡氧化物(ITO)形成或形成为由镍(Ni)薄膜形成的半透明电极以透射由有机发光层14发射的光。
驱动电路12可以包括至少两个薄膜晶体管(TFT)(未示出)和电容器(未示出),并且通过根据数据信号控制供应到OLED的电流来控制OLED的亮度。
驱动电路12是用于驱动有机发光显示面板510的单元像素的电路,并且可以包括栅线、垂直地交叉栅线的数据线、连接到栅线和数据线的开关TFT、连接到开关TFT和电源线之间的OLED的驱动TFT、以及使驱动TFT的栅电极和电源线互连的存储电容器。
这里,响应于来自栅线的扫描信号,开关TFT将数据线的数据信号供应到驱动TFT的栅电极和存储电容器。响应于来自开关TFT的数据信号,驱动TFT通过控制从电源线供应到OLED的电流来控制OLED的亮度。此外,存储电容器充上来自开关TFT的数据信号并且将所充的电压供应到驱动TFT,使得即使开关TFT被关断,驱动TFT也能够供应恒定的电流。
有机发光层14包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。因此,当正向电压被施加在阳极13和阴极15之间时,电子经由电子注入层和电子传输层从阴极15移动到发光层,而空穴经由空穴注入层和空穴传输层从阳极13移动到发光层。接下来,注入到发光层中的电子和空穴在发光层处复合并产生激子。当激子从激发态跃迁到基态时从发光层发射光,其中发射的光的亮度与阳极13和阴极15之间流动的电流成比例。
此外,有机发光显示面板510包括滤色器17以改善颜色效率。这里,滤色器17形成在第二基板19上,其中红色滤色器形成在红色子像素区域中,绿色滤色器形成在绿色子像素区域中,蓝色滤色器形成在蓝色子像素区域中。如果单元像素被实施为发射四种颜色(红色、绿色、蓝色和白色)的光,滤色器17可以在白色子像素区域处被省略。
此外,尽管未示出,但是用于防止漏光和混色的黑矩阵可以形成在第二基板19上在子像素之间的边界处。此外,间隔物可以形成用于阳极13和阴极15之间的电连接以及阳极13和驱动电路12之间的电连接,其中电连接可以通过经由密封件将第一基板11和第二基板19朝向彼此附接而形成。
另外,在具有微腔结构的有机发光显示装置500中,当视角倾斜时,最大谐振波长减小,因此朝向更短波长发生色移。例如,即使在前面表现白色,在横向侧由于蓝移现象而使白色会变得带蓝色。
根据本示例实施方式的有机发光显示装置500包括布置在有机发光显示面板510上的光学膜530以减少色移。光学膜530包括高折射率图案层531和形成在高折射率图案层531上的低折射率图案层532,高折射率图案层531包括具有弯曲表面的多个凹刻的凹槽GR并且由具有大于1的折射率的材料形成,低折射率图案层532由具有比构成高折射率图案层531的材料低的折射率的材料形成并且包括用于填充多个凹槽GR的填充材料。
光学膜530可以具有以上参照图1至图6所述的不同光学膜100、101、200和201中的任一个的形状。
光学膜530的凹槽GR可以像带一样延伸。在这种情况下,光学膜530可以布置在有机发光显示面板510上,使得所述条在垂直方向上跨过有机发光显示面板510延伸。此外,光学膜530可以布置在有机发光显示面板510上,使得光学膜530的凹槽GR当中整数数目的凹槽GR对应于有机发光显示面板510的每个像素。
如以上参照图2和图3所述,光学膜530将以相同的角度入射到其的光束以不同的角度发射。另外,由有机发光显示面板510发射的光束具有设定(或预定)的角度分布,其中色移特性根据角度而彼此略微地不同。当这样的光束透射过光学膜530时,以对应于相对较大色移的角度入射到光学膜530的光束与以对应于相对较小色移的角度入射到光学膜530的光束混合,因此基于视角的色移被减小。
另外,如图23所示,有机发光显示面板510的多个像素R、G和B可以在跨过有机发光显示面板的四个方向上二维地布置在有机发光显示面板上,其中由凹槽GR形成的条延伸的方向和多个像素被布置的垂直方向可以不平行于彼此。如果凹槽GR构成条图案,则由于有机发光显示面板510和光学膜530之间的相互干扰而可能出现莫尔图案(Moirépattern)。然而,如图9所示,如果设定(或预定)角度形成在由凹槽GR形成的条延伸的方向和多个像素被布置的垂直方向之间,则可以减少(或防止)莫尔图案的出现。
粘合层520可以形成在有机发光显示面板510和光学膜530之间。粘合层520可以例如由包含光吸收物和光散射物的PSA材料形成。
此外,高折射率图案层531和/或低折射率图案层532可以由包含光吸收物的透明材料形成。
如上所述,如果包含光吸收物的材料被应用于粘合层520或光学膜530,则可以减少外部光的反射率,从而改善可见度。
此外,圆偏振层540可以进一步布置在光学膜530上,其中圆偏振层540可以包括线偏振层544和相位转换层542。
线偏振层544可以包括TAC膜和聚乙烯醇(PVA)膜。例如,线偏振层544可以具有TAC膜/PVA膜/TAC膜堆叠的结构。线偏振层544的结构可以进一步改变。这里,PVA膜是用于光偏振的膜,并且可以通过将二色性染料吸收到PVA(其是聚合物材料)而形成。此外,布置在PVA膜的两个相反的表面上的TAC膜支撑PVA膜。
相位转换层542可以是λ/4相位差膜。
圆偏振层540通过减少外部光的反射率而改善可见度。当非偏振的外部光入射时,随着外部光透射过线偏振层544,外部光线偏振,并且被相位转换层542圆偏振。接下来,圆偏振光在相位转换层542和光学膜530之间的界面处或在光学膜530和有机发光显示面板510之间的界面处被反射,并且在相反的旋转方向上圆偏振。接下来,随着圆偏振光透射过相位转换层542,圆偏振光在垂直于线偏振层544的透射轴的方向上线偏振。结果,偏振光不发射到外部。
如图22所示,圆偏振层540布置在光学膜530上。因此,如果构成光学膜530的高折射率图案层531由具有不同于圆偏振层540的光轴的各向异性材料形成,则偏振可以被破坏并且入射的外部光可以再次发射到外部。结果,有机发光显示面板510的反射会显著地增加,从而使有机发光显示面板510的可见度恶化。因此,需要由具有与圆偏振层540相同的光轴的材料例如TAC或脱溶剂的聚碳酸酯(PC)来形成高折射率图案层531。
尽管图22示出相位转换层542和线偏振层544以所述次序形成在光学膜530上。然而,该结构仅是示例。例如,光学膜530可以布置在相位转换层542和线偏振层544之间。
尽管光学膜530布置为减少根据视角的色移,但是可能由此引起图像失真。因此,为尽可能减少图像失真,有机发光层14和光学膜530之间的距离可以小于或等于约1.5mm。
图24是示出在采用根据示例实施方式的光学膜的情形下根据视角的色移与在常规光学膜中根据视角的色移之间的比较的曲线图。
曲线图的水平轴表示视角,而曲线图的垂直轴表示与参考色坐标的偏差程度。
参照图24,根据视角的色移在采用根据示例实施方式的光学膜的情况下相对较小。此外,当还使用光散射物时,从表示根据视角的色移的曲线图去除了对应于特定凹槽的顶点,因此该曲线图具有平滑的形状。
图25是示出在采用根据示例实施方式的光学膜的情形下根据视角的亮度与在常规光学膜中根据视角的亮度之间的比较的曲线图。
参照图25,对应于其中采用根据示例实施方式的光学膜的情形的亮度分布类似于对应于其中采用常规光学膜的情形的亮度分布。此外,当还使用光散射物时,从表示根据视角的亮度的曲线图去除了对应于特定凹槽的顶点,因此该曲线图具有平滑的形状。
在图24和图25所示的曲线图中,根据示例实施方式的应用于有机发光显示装置的光学膜几乎不影响根据视角的亮度分布并且减少根据视角的色移。
图26是示出根据其它示例实施方式的有机发光显示装置的示意截面图。
参照图26,有机发光显示装置600包括有机发光显示面板510和光学膜300。光学膜300可以具有图9所示的结构。换句话说,光学膜300可以包括粘合膜310、低折射率图案层120、高折射率图案层110、第一基底320、粘合膜330和圆偏振层340,其中圆偏振层340可以包括相位转换层342、线偏振层344和第二基底346。
第一基底320和第二基底346可以由光学各向同性材料例如TAC形成。粘合膜310和粘合膜330可以由PSA材料或包含光吸收物和光散射物的PSA材料形成。
低折射率图案层120和高折射率图案层110还可以具有如图6至图8所示的结构。
尽管有机发光显示装置600采用的光学膜300具有图9所示的结构,但是其仅是示例,有机发光显示装置600可以采用图10至图21的光学膜905至916。
如上所述的光学膜将以垂直角度和倾斜角度入射到其的光束以不同的角度折射并发射。
因此,采用如上所述的光学膜的有机发光显示装置可以包括具有能够改善色纯度的微腔结构的有机发光层。此外,可以减少根据视角的色移,因此可以提供高品质的图像。
应当理解,这里描述的示例实施方式应当仅以描述性的含义来理解,而不是为了限制的目的。对每个示例实施方式内的特征的描述应当通常被认为可用于其它示例实施方式中的其它类似特征。
本申请要求于2012年12月21日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2012-0151338的优先权以及于2013年6月5日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2013-0064967的优先权,它们的内容通过引用整体结合于此。
Claims (50)
1.一种光学膜,包括:
高折射率图案层,包括彼此面对的第一表面和第二表面,其中所述第一表面包括具有多个凹槽的图案,所述多个凹槽的每个具有弯曲表面以及大于其宽度的深度,所述高折射率图案层由具有大于1的折射率的材料形成;和
低折射率图案层,由具有比构成所述高折射率图案层的材料的折射率小的折射率的材料形成,其中所述低折射率图案层包括用于填充所述多个凹槽的填充材料。
2.如权利要求1所述的光学膜,其中所述具有多个凹槽的图案是凹刻图案。
3.如权利要求1所述的光学膜,其中所述填充材料是空气或树脂材料。
4.如权利要求1所述的光学膜,其中所述填充材料包括透明塑料材料,所述透明塑料材料包括光散射物或光吸收物。
5.如权利要求1所述的光学膜,其中所述低折射率图案层包括多个突起,所述多个突起构成对应于所述多个凹槽的图案。
6.如权利要求5所述的光学膜,其中所述低折射率图案层包括透明塑料材料,所述透明塑料材料包括光散射物或光吸收物。
7.如权利要求1所述的光学膜,其中
每个所述凹槽的深宽比大于1并且小于3,以及
所述深宽比是所述凹槽的深度相对于所述凹槽的宽度之间的比率。
8.如权利要求1所述的光学膜,其中所述多个凹槽的每个具有延伸的条形。
9.如权利要求1所述的光学膜,其中从相对于所述高折射率图案层的透视图来看,所述多个凹槽构成点状图案。
10.如权利要求1所述的光学膜,其中所述弯曲表面是非球面表面。
11.如权利要求1所述的光学膜,其中所述多个凹槽的宽度之和占据所述高折射率图案层的宽度的25%至50%。
12.如权利要求1所述的光学膜,还包括:
第一粘合层,在所述低折射图案层下。
13.如权利要求12所述的光学膜,还包括:
圆偏振层,在所述高折射图案层上。
14.如权利要求13所述的光学膜,还包括:
第一基底层和第二粘合层,
其中所述高折射图案层、所述第一基底层、所述第二粘合层和所述圆偏振层被顺序地布置。
15.如权利要求14所述的光学膜,其中所述圆偏振层包括顺序地布置在所述第二粘合层上的相位转换层、线偏振层和第二基底层。
16.如权利要求12所述的光学膜,还包括:
抗反射层,在所述高折射图案层上。
17.如权利要求16所述的光学膜,其中所述第一基底层在所述高折射图案层和所述抗反射层之间。
18.如权利要求17所述的光学膜,还包括:
圆偏振层,包括相位转换层和线偏振层。
19.如权利要求18所述的光学膜,其中所述第一粘合层、所述低折射图案层、所述高折射图案层、所述相位转换层、所述线偏振层、所述第一基底层和所述抗反射层被顺序地布置。
20.如权利要求19所述的光学膜,还包括:
第二基底层和第二粘合层,
其中所述高折射图案层、所述第二基底层、所述第二粘合层和所述相位转换层被顺序地布置。
21.如权利要求20所述的光学膜,其中所述第一基底层和所述第二基底层由光学各向同性材料形成。
22.如权利要求18所述的光学膜,其中所述第一粘合层、所述相位转换层、所述线偏振层、所述低折射图案层、所述高折射图案层、所述第一基底层和所述抗反射层被顺序地布置。
23.如权利要求22所述的光学膜,还包括:
第二基底层和第二粘合层,
其中所述线偏振层、所述第二基底层、所述第二粘合层和所述低折射图案层被顺序地布置。
24.如权利要求18所述的光学膜,其中所述第一粘合层、所述相位转换层、所述低折射图案层、所述高折射图案层、所述线偏振层、所述第一基底层和所述抗反射层被顺序地布置。
25.如权利要求24所述的光学膜,还包括:
第二基底层,在所述高折射图案层和所述线偏振层之间。
26.如权利要求18所述的光学膜,其中所述第一粘合层、所述相位转换层、所述线偏振层、所述第一基底层和所述低折射图案层被顺序地布置。
27.如权利要求16所述的光学膜,还包括:
透射率调节层,在所述高折射图案层和所述抗反射层之间。
28.如权利要求27所述的光学膜,还包括:
第一承载膜,在所述高折射图案层和所述透射率调节层之间。
29.如权利要求28所述的光学膜,其中
所述第二粘合层在所述第一承载膜和所述透射率调节层之间,以及
第二承载膜在所述透射率调节层和所述抗反射层之间。
30.如权利要求27所述的光学膜,还包括:
第一承载膜,在所述透射率调节层和所述抗反射层之间。
31.如权利要求30所述的光学膜,其中
第二粘合层在所述高折射图案层和所述透射率调节层之间,以及
第二承载膜在所述第一粘合层和所述低折射图案层之间。
32.一种有机发光显示装置,包括:
有机发光显示面板,包括发射不同波长的光的多个像素以及多个有机发光层,每个所述有机发光层具有配置为使相应波长的光谐振并发射的微腔结构;和
根据权利要求1所述的光学膜,在所述有机发光显示面板上。
33.如权利要求32所述的有机发光显示装置,其中所述多个凹槽的每个具有延伸的条形。
34.如权利要求33所述的有机发光显示装置,其中所述多个凹槽的延伸方向对应于所述有机发光显示面板的垂直方向。
35.如权利要求34所述的有机发光显示装置,其中
所述多个像素沿所述有机发光显示面板的垂直方向和水平方向二维地布置,以及
所述多个凹槽的所述延伸方向和所述多个像素被布置的所述垂直方向不平行于彼此。
36.如权利要求32所述的有机发光显示装置,其中从相对于所述高折射率图案层的透视图来看,所述多个凹槽构成点状图案。
37.如权利要求32所述的有机发光显示装置,其中
所述多个凹槽的每个的深宽比大于1并且小于3,以及
所述深宽比是所述凹槽的深度相对于所述凹槽的宽度之间的比率。
38.如权利要求32所述的有机发光显示装置,其中所述弯曲表面是非球面表面。
39.如权利要求32所述的有机发光显示装置,其中所述多个凹槽的宽度之和占据所述高折射率图案层的宽度的25%至50%。
40.如权利要求32所述的有机发光显示装置,还包括:
粘合膜,在所述有机发光显示面板和所述光学膜之间。
41.如权利要求40所述的有机发光显示装置,其中所述粘合膜由包括光吸收物和光散射物的压敏粘合剂(PSA)材料形成。
42.如权利要求40所述的有机发光显示装置,还包括:
圆偏振层,在所述高折射图案层上。
43.如权利要求40所述的有机发光显示装置,还包括:
抗反射层,在所述高折射图案层上。
44.如权利要求43所述的有机发光显示装置,还包括:
圆偏振层,包括相位转换层和线偏振层,
其中所述圆偏振层在所述高折射图案层和所述抗反射层之间。
45.如权利要求43所述的有机发光显示装置,还包括:
透射率调节层,在所述高折射图案层和所述抗反射层之间。
46.如权利要求32所述的有机发光显示装置,其中所述有机发光层和所述光学膜之间的距离小于或等于1.5mm。
47.一种光学膜,包括:
折射层,由具有大于1的折射率的第一材料和具有比所述第一材料的折射率小的折射率的第二材料形成,
其中所述第一材料和所述第二材料之间的界面具有带有多个凹槽的图案,
所述多个凹槽的每个具有弯曲表面和大于其宽度的深度,以及
所述第二材料填充所述多个凹槽。
48.如权利要求47所述的光学膜,其中
每个所述凹槽的倾斜角θ为15°≤θ≤75°之间,
所述倾斜角是直线和所述界面之间的角度,以及
所述直线将每个所述凹槽的顶点连接到相邻凹槽的沿所述界面的最近起始点。
49.如权利要求48所述的光学膜,其中所述弯曲表面可以具有抛物面形状。
50.如权利要求47所述的光学膜,其中所述多个凹槽的每个通过朝向所述第二材料突出的两个突起限定。
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