JP2012023238A - 半導体装置、半導体装置の製造方法、及び半導体装置の設計方法 - Google Patents
半導体装置、半導体装置の製造方法、及び半導体装置の設計方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】複数の配線層200,300,400は第1TEGパターン30の上に形成されている。複数の配線層200,300,400には、それぞれ配線242,342,442及び複数のダミーパターン224,324,424が形成されている。電極パッド444は、最上層の配線層400に形成されている。そして平面視において、第1TEGパターン30は、いずれの配線242,342,442及びダミーパターン224,324,424にも重なっていない。
【選択図】図1
Description
前記第1TEGパターンの上に形成された複数の配線層と、
前記複数の配線層のそれぞれに形成された配線及び複数のダミーパターンと、
最上層の前記配線層に形成された電極パッドと、
を備え、
平面視において、前記第1TEGパターンは、いずれの前記配線及び前記ダミーパターンにも重なっていない半導体装置が提供される。
前記第1層の上に複数の配線層を形成する工程と、
を備え、
前記複数の配線層を形成する工程において複数のダミーパターンを形成し、
平面視において、前記第1TEGパターンを、いずれの前記配線及び前記ダミーパターンにも重ならないようにする半導体装置の製造方法が提供される。
前記第1TEGパターンの上に配置される複数の配線層それぞれにおいて、平面視において前記TEGパターンと重なる領域をパターン配置禁止領域に設定する工程と、
を備える半導体装置の設計方法が提供される。
本実施形態によっても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
12 拡散層
20 スクライブ領域
30 第1TEGパターン
32 第1パターン
34 コンタクト
35 コンタクト
36 第2パターン
38 第2TEGパターン
39 第1TEGパターン
40 内部領域
42 トランジスタ
44 ゲート電極
46 シールリング
50 素子分離膜
200 配線層
222 ダミーコンタクト
224 ダミーパターン
226 第1パターン
228 第2パターン
229 TEGパターン
242 配線
244 コンタクト
300 配線層
322 ダミービア
324 ダミーパターン
326 ビア
342 配線
400 配線層
422 ダミービア
424 ダミーパターン
426 検査用電極
442 配線
444 電極パッド
500 パッシベーション膜
502 開口
Claims (11)
- 第1TEG(Test Element Group)パターンと、
前記第1TEGパターンの上に形成された複数の配線層と、
前記複数の配線層のそれぞれに形成された配線及び複数のダミーパターンと、
最上層の前記配線層に形成された電極パッドと、
を備え、
平面視において、前記第1TEGパターンは、いずれの前記配線及び前記ダミーパターンにも重なっていない半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記複数のダミーパターンは、平面視において前記第1TEGパターンを挟む位置に複数設けられている半導体装置。 - 請求項1又は2に記載の半導体装置において、
第1の前記配線層と、前記第1の配線層の上に位置する第2の前記配線層の間に形成された複数のダミー接続部材を備え、
平面視で、前記複数のダミー接続部材の少なくとも一つは前記第1TEGパターンに重なっている半導体装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記第1層に形成され、前記第1TEGパターンとは異なるパターンを有している第2TEGパターンを備え、
平面視において、前記第2TEGパターンはいずれかの前記ダミーパターンと重なっている半導体装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記第1TEGパターンは、OBIRCH用のTEGパターンである半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記最上層の配線層に形成され、前記複数の配線層に形成されたパターン及びビアを介して前記第1TEGパターンに接続している検査用電極をさらに備える半導体装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の半導体装置において、
前記第1TEGパターンは、平面視により位置ずれを確認するためのTEGパターンである半導体装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の半導体装置において、
基板と、
前記基板に形成され、ゲート電極を有するトランジスタと、
を備え、
前記第1層はゲート電極が形成されている層である半導体装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の半導体装置において、
基板と、
前記基板上に形成され、前記基板に形成されたトランジスタと、
を備え、
前記第1層は、前記トランジスタより上に位置する半導体装置。 - 第1TEGパターンを形成する工程と、
前記第1TEGパターンの上に複数の配線層を形成する工程と、
を備え、
前記複数の配線層を形成する工程において複数のダミーパターンを形成し、
平面視において、前記第1TEGパターンを、いずれの前記配線及び前記ダミーパターンにも重ならないようにする半導体装置の製造方法。 - TEGパターンを配置する工程と、
前記第1TEGパターンの上に配置される複数の配線層それぞれにおいて、平面視において前記TEGパターンと重なる領域をパターン配置禁止領域に設定する工程と、
を備える半導体装置の設計方法。
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