JP2012023098A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012023098A5 JP2012023098A5 JP2010157928A JP2010157928A JP2012023098A5 JP 2012023098 A5 JP2012023098 A5 JP 2012023098A5 JP 2010157928 A JP2010157928 A JP 2010157928A JP 2010157928 A JP2010157928 A JP 2010157928A JP 2012023098 A5 JP2012023098 A5 JP 2012023098A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing apparatus
- processing chamber
- plasma
- magnetic field
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 3
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010157928A JP2012023098A (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010157928A JP2012023098A (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012023098A JP2012023098A (ja) | 2012-02-02 |
| JP2012023098A5 true JP2012023098A5 (enExample) | 2013-08-08 |
Family
ID=45777145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010157928A Pending JP2012023098A (ja) | 2010-07-12 | 2010-07-12 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012023098A (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6184838B2 (ja) * | 2013-11-01 | 2017-08-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 半導体製造方法 |
| JP6391734B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 半導体製造方法 |
| CN120453151A (zh) * | 2025-05-09 | 2025-08-08 | 欧陆分析测试技术服务(广州)有限公司 | 智能数据处理与报告生成的电感耦合等离子体质谱仪系统 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2598336B2 (ja) * | 1990-09-21 | 1997-04-09 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理装置 |
| JPH06120170A (ja) * | 1992-10-08 | 1994-04-28 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマエッチング処理方法 |
| JPH06291087A (ja) * | 1993-04-01 | 1994-10-18 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置の製造方法および製造装置 |
| JP3613817B2 (ja) * | 1994-10-05 | 2005-01-26 | 株式会社日立製作所 | プラズマ処理装置 |
| JPH09161993A (ja) * | 1995-12-12 | 1997-06-20 | Hitachi Ltd | 2重コイルを用いた多段コイルを有するプラズマ処理装置及び方法 |
| JPH09312280A (ja) * | 1996-05-22 | 1997-12-02 | Sony Corp | ドライエッチング方法 |
| JPH11251300A (ja) * | 1998-03-04 | 1999-09-17 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法および装置 |
| JPH11340200A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-10 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2000216138A (ja) * | 1999-01-20 | 2000-08-04 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2000306891A (ja) * | 1999-04-22 | 2000-11-02 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP4593402B2 (ja) * | 2005-08-25 | 2010-12-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | エッチング方法およびエッチング装置 |
-
2010
- 2010-07-12 JP JP2010157928A patent/JP2012023098A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011066033A5 (enExample) | ||
| JP2013084653A5 (enExample) | ||
| JP2011124293A5 (enExample) | ||
| JP2013055243A5 (ja) | 成膜装置、プラズマ処理装置、成膜方法及び記憶媒体 | |
| JP2017504955A5 (enExample) | ||
| JP2016127090A5 (enExample) | ||
| JP2012212728A5 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2013149722A5 (enExample) | ||
| JP2009544168A5 (enExample) | ||
| JP2012124168A5 (enExample) | ||
| JP6278414B2 (ja) | 磁化同軸プラズマ生成装置 | |
| JP2015528060A5 (enExample) | ||
| JP2010283336A5 (ja) | 熱処理装置、半導体デバイスの製造方法および基板処理方法。 | |
| JP2010135298A5 (enExample) | ||
| RU2016129486A (ru) | Система и способ для лечения плазмой с использованием энергетической системы направленного диэлектрического барьерного разряда | |
| TWI571902B (zh) | 電漿處理裝置 | |
| JP2012023098A5 (enExample) | ||
| JP2010238847A5 (enExample) | ||
| JP2019061849A5 (enExample) | ||
| JP2011096700A5 (enExample) | ||
| JP2014135305A5 (enExample) | ||
| CN103643213B (zh) | 一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置 | |
| JP2016018918A5 (enExample) | ||
| TW201348480A (zh) | 電漿產生裝置、蒸氣沈積裝置及蒸氣沈積方法 | |
| JP2013218881A5 (enExample) |