JP2012001539A - 周期的な構造をもつ有機フィルム - Google Patents

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Abstract

【課題】複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格として整列した、規則的な(周期的な)構造をもつ有機フィルムを提供する。
【解決手段】所定の構造をもつ有機フィルム(SOF)であって、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格(COF)として整列しており、このSOFの少なくとも一部分が周期的である、所定の構造をもつ有機フィルム(SOF)。さらに、所定の構造をもつ有機フィルム(SOF)を調製するプロセス。
【選択図】なし

Description

実施形態で、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格として整列した、規則的な(周期的な)構造をもつ有機フィルムが提供され、ここで、巨視的なレベルで、上述の共有結合による有機骨格は、フィルムである。
コントロール実験における混合物の生成物のフーリエ変換赤外吸収スペクトルを比較した結果をあらわす図である。 N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミンセグメントと、p−キシリルセグメントと、エーテルリンカーとを含む、自立型SOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルをあらわす図である。 N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミンセグメントと、n−ヘキシルセグメントと、エーテルリンカーとを含む、自立型SOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルをあらわす図である。 N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミンセグメントと、4,4’−(シクロヘキサン−1,1−ジイル)ジフェニルと、エーテルリンカーとを含む、自立型SOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルをあらわす図である。 トリフェニルアミンセグメントと、エーテルリンカーとを含む、自立型SOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルをあらわす図である。 トリフェニルアミンセグメントと、ベンゼンセグメントと、イミンリンカーとを含む、自立型SOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルをあらわす図である。 トリフェニルアミンセグメントと、イミンリンカーとを含む、自立型SOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルをあらわす図である。 実施例7および10で製造したSOFの2次元X線散乱データをあらわす図である。
用語「SOF」は、巨視的なレベルでフィルムである、共有結合による有機骨格(COF)を指す。句「巨視的なレベル」は、本願SOFの裸眼での見え方を指す。
用語「実質的に欠陥のないSOF」は、1平方センチメートルあたり、2個の隣接するセグメントのコア間の距離よりも大きなピンホール、孔またはギャップを実質的に含まないSOFを指し、例えば、1cmあたり、直径が約250ナノメートルより大きいピンホール、孔またはギャップが10個未満、または、1cmあたり、直径が約100ナノメートルより大きいピンホール、孔またはギャップが5個未満のSOFを指す。用語「欠陥のないSOF」は、1μmあたり、2個の隣接するセグメントのコア間の距離よりも大きなピンホール、孔またはギャップを含まないSOFを指し、例えば、1μmあたり、直径が約100オングストロームより大きいピンホール、孔またはギャップがないSOF、または、1μmあたり、直径が約50オングストロームより大きいピンホール、孔またはギャップがないSOF、または、1μmあたり、直径が約20オングストロームより大きいピンホール、孔またはギャップがないSOFを指す。
本開示のSOFは、セグメント(S)と官能基(Fg)とを含むビルディングブロック分子を含む。ビルディングブロック分子は、少なくとも2個の官能基を必要とし(x≧2)、1種類の官能基を含んでいてもよいし、2種類以上の官能基を含んでいてもよい。官能基は、SOF形成プロセス中に、化学反応に関与してセグメントに共に結合する、ビルディングブロック分子の反応性化学部分である。セグメントは、ビルディングブロック分子のうち、官能基をつなぎとめ、官能基には属していないすべての原子を含む部分である。さらに、ビルディングブロック分子のセグメントの組成は、SOFを形成した後にも変化せずに残っている。
官能基は、SOF形成プロセス中に、化学反応に関与してセグメントに共に結合する、ビルディングブロック分子の反応性化学部分である。官能基は、1個の原子で構成されていてもよく、または、官能基は、2個以上の原子で構成されていてもよい。官能基の例としては、ハロゲン、アルコール、エーテル、ケトン、カルボン酸、エステル、カーボネート、アミン、アミド、イミン、尿素、アルデヒド、イソシアネート、トシレート、アルケン、アルキンなどが挙げられる。
SOF形成プロセスにおいて、官能基の組成は、原子が失われたり、原子が付け加えられたり、または原子が失われかつ付け加えられたりすることで変わる場合があり、または、官能基が完全に失われてもよい。SOFにおいて、官能基に属していた原子が、セグメントをつなぐ化学部分であるリンカー基に属するようになる。
セグメントは、ビルディングブロック分子のうち、官能基をつなぎとめ、官能基には属さないすべての原子を含む部分である。さらに、ビルディングブロック分子のセグメントの組成は、SOFを形成した後にも変化せずに残っている。実施形態では、SOFは、第1のセグメントが第2のセグメントと同じ構造をもっていてもよく、または第2のセグメントとは異なる構造をもっていてもよい。他の実施形態では、第1のセグメントおよび/または第2のセグメントの構造は、第3のセグメント、第4のセグメント、第5のセグメントなどと同じであってもよく、異なっていてもよい。
実施形態では、SOFのセグメントは、炭素ではない元素の少なくとも1つの原子、例えば、水素、酸素、窒素、ケイ素、リン、セレン、フッ素、ホウ素、硫黄からなる群から選択される少なくとも1つの原子を含む。
SOFは、任意の適切なアスペクト比を有しており、例えば、約30:1より大きいか、約50:1より大きいか、約70:1より大きいか、約100:1より大きく、例えば、約1000:1である。SOFのアスペクト比は、SOFの平均厚み(すなわち、最も短い寸法)を基準とした、幅または直径の平均値(すなわち、厚みに対して2番目に大きな寸法)の比率であると定義される。SOFの最も長い寸法は長さであり、SOFアスペクト比の算出には考慮されない。
SOFは、以下の代表的な厚みを有する。約10オングストローム〜約250オングストローム、例えば、セグメント1個の厚みをもつ層なら、約20オングストローム〜約200オングストローム、複数のセグメントの厚みをもつ層なら、約20nm〜約5mm、約50nm〜約10mm。
実施形態では、複数層のSOFは、(1)第1の濡れた反応性層から、官能基が表面に存在している(か、または官能基がぶら下がっている)SOF基板層を形成させ、(2)この基板層の上に、SOF基板層の表面にぶら下がっている官能基と反応させることが可能な官能基を有するビルディングブロック分子を含む第2の濡れた反応性層から、第2のSOF層を形成させることによる、複数層のSOFが化学的に結合したものを調製する方法によって作られる。
ビルディングブロック分子の対称性は、ビルディングブロック分子のセグメントの周囲にある官能基(Fg)の位置に関係がある。対照的なビルディングブロック分子は、Fgの位置が、棒状の両端に属していてもよく、規則的な幾何学形状の複数の頂点に属していてもよく、または、ひずんだ棒状またはひずんだ幾何学形状の複数の頂点に属していてもよいビルディングブロック分子である。
実施形態では、1型、2型、または3型のSOFでは、セグメントは、SOFの縁には位置しておらず、このセグメントが、少なくとも3個の他のセグメントに対し、リンカーによって接続している。例えば、実施形態では、SOFは、理想的な三角形のビルディングブロック、ひずんだ三角形のビルディングブロック、理想的な四面体のビルディングブロック、ひずんだ四面体のビルディングブロック、理想的な四角形のビルディングブロック、ひずんだ四角形のビルディングブロックからなる群から選択される少なくとも1つの対照的なビルディングブロックを含んでいる。
分子を接続する化学は、分子を接続する化学によって副生成物が存在することが望ましくない用途に向けたSOFを得るために選択されてもよい。分子を接続する化学反応としては、エステル、イミン、エーテル、カーボネート、ウレタン、アミド、アセタール、シリルエーテルを製造するような縮合反応、付加/脱離反応、付加反応を挙げることができる。
分子を接続する化学は、実施形態において、分子を接続する化学による副生成物の存在が、SOFの性質に影響を与えないような用途、または、分子を接続する化学による副生成物の存在が、SOFの性質を変える可能性のある用途に向けたSOFを得るために選択されてもよい。分子を接続する化学反応としては、置換反応、メタセシス反応、金属触媒によるカップリング反応、例えば、炭素−炭素結合を作る反応を挙げることができる。
分子を接続するすべての化学について、ビルディングブロックの官能基間の化学を介した、ビルディングブロック間の反応速度および反応度を制御する性能は、本開示の重要な態様のひとつである。反応速度および反応度を制御する理由としては、異なるコーティング方法にフィルム形成プロセスを応用すること、周期的なSOFを得るためにビルディングブロックの微視的な配置を調節することを挙げることができる。SOFは、(1)SOFの約50重量%〜約99重量%が周期的なSOF;(2)周期的なSOFの一部が、SOF中に均一に分散しているようなSOF;(3)周期的なSOFの一部が、SOF中に均一に分散していないようなSOF;(4)SOFが、上側表面と下側表面を有しており、周期的なSOFの一部分である約1重量%〜約5重量%が、SOFの片方の表面に近い位置にあるようなSOF;(5)SOFの縁が、約500nm〜約5mmと測定されるようなSOF;(6)SOFが、約1〜約50セグメントの厚みであるようなSOF;および/または(7)SOFの縁が、約500nm〜約5mmと測定されるようなSOFであってもよい。
実施形態では、SOFは、高い熱安定性を有していてもよく(典型的には、大気条件で400℃より高い)、有機溶媒への溶解性が悪くてもよく(化学安定性)、多孔性であってもよい(可逆的にゲスト分子を取り込むことが可能)。
付加される機能は、その付加される機能に関与する「かたよった性質」を有するビルディングブロック分子を集合させた時に生じる場合がある。また、付加される機能は、その付加される機能に関与する「かたよった性質」を有さないビルディングブロック分子を集合させた時に、得られたSOFがSOF内の接続セグメント(S)およびリンカーがもたらす結果として付加される機能を有し、生じる場合がある。さらに、付加される機能の発生は、その付加される機能に関与する「かたよった性質」を有するビルディングブロック分子を用いた組み合わせ効果から生じる場合がある。
ビルディングブロック分子の「かたよった性質」との用語は、特定の分子組成に存在することが知られている性質、または、セグメントの分子組成を調べることによって当業者が合理的に特定可能な性質を指す。
付加される機能としては、水、またはメタノールのような他の極性種をはじく性質を指す疎水性(超疎水性);水または他の極性種、またはこのような種によって簡単に濡れる表面に引きつけられ、吸着するか、または吸収される性質を指す親水性;油または他の非極性種(例えば、アルカン、脂肪、ワックス)をはじく性質を指す疎油性(油をはじく性質);油または他の非極性種(例えば、アルカン、脂肪、ワックス)、または、このような種によって簡単に濡れる表面に引きつけられる性質を指す脂溶性(親油性);電荷(電子および/または正孔)を伝達する性質を指す電気活性を挙げることができる。
高度にフッ素化されたセグメントを用いてもよく、高度にフッ素化されたセグメントは、セグメントに存在するフッ素原子の数をセグメントに存在する水素原子の数で割った結果が1より大きいものであると定義される。上述のフッ素化されたセグメントとしては、テトラフルオロヒドロキノン、ペルフルオロアジピン酸水和物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフェノールなどを挙げることができる。
付加される機能が正孔を伝達することであるSOFは、以下の一般的な構造を有するトリアリールアミン、ヒドラゾン(Tokarskiらの米国特許第7,202,002 B2号)、エナミン(Kondohらの米国特許第7,416,824 B2号)のようなセグメントコアを選択することによって得られてもよい。
Figure 2012001539


式中、Ar、Ar、Ar、Ar、Arは、それぞれ独立して、置換アリール基または置換されていないアリール基をあらわすか、または、Arは、独立して、置換アリーレン基または置換されていないアリーレン基をあらわし、kは、0または1をあらわし、Ar、Ar、Ar、Ar、Arのうち、少なくとも2つがFg(すでに定義されている)を含む。Arは、さらに、置換フェニル環、置換フェニレンまたは置換されていないフェニレン、置換されているか、または置換されていない一価の接続した芳香族環(例えば、ビフェニル、ターフェニルなど)、または置換されているか、または置換されていない縮合した芳香族環(例えば、ナフチル、アントラニル、フェナントリル)などと定義されてもよい。
付加される機能が正孔を伝達することであるアリールアミンを含むセグメントコアとしては、アリールアミン、例えば、トリフェニルアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[p−ターフェニル]−4,4’’−ジアミン;ヒドラゾン、例えば、N−フェニル−N−メチル−3−(9−エチル)カルバジルヒドラゾン、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,2−ジフェニルヒドラゾン;オキサジアゾール、例えば、2,5−ビス(4−N,N’−ジエチルアミノフェニル)−1,2,4−オキサジアゾール、スチルベンなどが挙げられる。
正孔を伝達する性質にかたよったトリアリールアミンコアセグメントを含むビルディングブロック分子は、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
Figure 2012001539

ヒドラゾンを含むセグメントコアは、以下の一般式であらわされ、
Figure 2012001539


式中、Ar、Ar、Arは、それぞれ独立して、場合により1個以上の置換基を含むアリール基をあらわし、Rは、水素原子、アリール基、または場合により置換基を含むアルキル基をあらわし;Ar、Ar、Arのうち、少なくとも2つがFg(すでに定義されている)を含み;関連するオキサジアゾールは、以下の一般式であらわされ、
Figure 2012001539


式中、ArおよびArは、それぞれ独立して、Fg(すでに定義されている)を含むアリール基をあらわす。
正孔を伝達する性質にかたよったヒドラゾンコアセグメントおよびオキサジアゾールコアセグメントを含むビルディングブロック分子は、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
Figure 2012001539

エナミンを含むセグメントコアは、以下の一般式であらわされ、
Figure 2012001539


式中、Ar、Ar、Ar、Arは、それぞれ独立して、場合により1個以上の置換基を含むアリール基、または、場合により1個以上の置換基を含むヘテロ環基をあらわし、Rは、水素原子、アリール基、または場合により置換基を含むアルキル基をあらわし;Ar、Ar、Ar、Arのうち、少なくとも2つがFg(すでに定義されている)を含む。
正孔を伝達する性質にかたよったエナミンコアセグメントを含むビルディングブロック分子は、以下のものを含む化学構造のリストから誘導されてもよい。
Figure 2012001539

SOFは、以下の一般構造を有するニトロフルオレノン、9−フルオレニリデンマロノニトリル、ジフェノキノン、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドを含むセグメントコアを選択することによって得られてもよい。
Figure 2012001539

SOFは、以下の一般構造を有するアセン、チオフェン/オリゴチオフェン/縮合したチオフェン、ペリレンビスイミド、またはテトラチオフルバレン、これらの誘導体を含むセグメントコアを選択することによって得られてもよい。
Figure 2012001539

アセンコアセグメントを含むビルディングブロック分子としては、以下のものを挙げることができる。
Figure 2012001539

チオフェン/オリゴチオフェン/縮合したチオフェンコアセグメントを含むビルディングブロック分子としては、以下のものを挙げることができる。
Figure 2012001539

ペリレンビスイミドコアセグメントを含むビルディングブロック分子の例としては、以下のものを挙げることができる。
Figure 2012001539

テトラチオフルバレンコアセグメントを含むビルディングブロック分子としては、以下のものを挙げることができ、
Figure 2012001539


式中、Arは、それぞれ独立して、場合により1個以上の置換基を含むアリール基、または、場合により1個以上の置換基を含むヘテロ環基をあらわす。
規則的なSOFを製造するプロセスは、典型的には、任意の適切な順序で実施してもよい多くの作業または工程(以下に記載されるもの)を含むか、または、2つ以上の作業を同時に実施してもよく、または、ごく近い時間間隔で実施してもよい。規則的な(周期的な)構造をもつ有機フィルムを調製するプロセスは、
(a)セグメントと多くの官能基をそれぞれ含む複数のビルディングブロック分子とを含んでいる、液体を含有する反応混合物を調製することと;
(b)上述の反応混合物を濡れたフィルムとして堆積させることと;
(c)上述のビルディングブロック分子を含む濡れたフィルムを、複数のセグメントと複数のリンカーとを共有結合による有機骨格として整列させ、この共有結合による有機骨格が巨視的なレベルでフィルムであるような、SOFを含む乾燥フィルムに変化するように促進することと;
(d)場合により、上述のSOFをコーティング基板から取り外し、自立型SOFを得ることと;
(e)場合により、この自立型SOFをロールに加工することと;
(f)場合により、このSOFを切断し、ベルトになるようにつなぎあわせることと;
(g)場合により、SOF(上述のSOF形成プロセスで調製したもの)を次のSOF形成プロセスの基板とし、上述のSOF形成プロセスを実施することとを含んでいてもよい。
反応混合物は、液体に溶解しているか、懸濁しているか、または液体中で混合している複数のビルディングブロック分子を含む。複数のビルディングブロック分子は、1種類のビルディングブロック分子を含んでいてもよく、2種類以上のビルディングブロック分子を含んでいてもよい。
反応混合物の成分(ビルディングブロック分子、場合により液体、場合により触媒、場合により添加剤)を容器内であわせる。反応混合物の成分を加える順序はさまざまであってもよいが、典型的には、触媒は最後に加える。ビルディングブロック分子を、ビルディングブロック分子の分解を助けるような触媒が存在しない状態で、液体中で加熱してもよい。
実施形態では、反応混合物は、堆積させた濡れた層を保持するような粘度を有している必要がある。反応混合物の粘度は、約10〜約50,000cpsの範囲であり、例えば、約25〜約25,000cp、または約50〜約1000cpsである。
反応混合物中のビルディングブロック分子保持量または「保持量」は、ビルディングブロック分子と、場合により触媒とをあわせた重量を、反応混合物の合計重量で割ったものであると定義される。液体ビルディングブロック分子が、反応混合物の唯一の液体成分として用いられる場合(すなわち、さらなる液体を用いない場合)、ビルディングブロックの保持量は、約100%であろう。
場合により、前SOFを形成させるため、および/または、上述の作業Cの間のSOF形成速度を変えるために、反応混合物に触媒を加えてもよい。用語「前SOF」は、反応し、出発物質のビルディングブロック分子よりも分子量が大きく、他のビルディングブロックまたは前SOFの官能基とさらに反応してSOFを得ることが可能な複数の官能基を含むか、および/またはフィルム形成プロセス用に高められた反応性または改変された反応性を付与するビルディングブロック分子の官能基を「活性化」させることが可能な複数の官能基を含む、少なくとも2個のビルディングブロック分子を指す場合がある。
すでに反応したビルディングブロック分子の前SOFに組み込まれるような、反応混合物中のビルディングブロック分子の重量百分率は、20%未満、例えば、約15%〜約1%、または約10%〜約5%であってもよい。実施形態では、95%の前SOF分子の分子量は、5,000ダルトン未満、例えば、2,500ダルトン、または1,000ダルトンである。
実施形態では、前SOF形成の2つの方法(ビルディングブロック分子間の反応による前SOF形成、またはビルディングブロック分子の官能基の「活性化」による前SOF形成)を組み合わせて行ってもよく、前SOF構造に組み込まれたビルディングブロック分子は、活性化した官能基を含んでいてもよい。実施形態では、ビルディングブロック分子間の反応による前SOF形成と、ビルディングブロック分子の官能基の「活性化」による前SOF形成とを同時に行ってもよい。反応混合物の粘度は、約10〜約50,000cpsの範囲であり、例えば、約25〜約25,000cps、または約50〜約1000cpsである。ビルディングブロックの保持量は、約3〜100%の範囲であってもよく、例えば、約5〜約50%、または約15〜約40%であってもよい。
反応混合物中で用いられる液体は、純粋な液体(例えば溶媒)および/または溶媒混合物であってもよい。適切な液体は、沸点が約30〜約300℃であってもよく、例えば、約65℃〜約250℃、または約100℃〜約180℃であってもよい。
液体としては、アルカン;分枝型アルカン;芳香族化合物;エーテル;環状エーテル、エステル;ケトン、環状ケトン、アミン;アミド;アルコール、ハロゲン化芳香族、ハロゲン化アルカン;水のような分子種を挙げることができる。
また、第1の溶媒、第2の溶媒、第3の溶媒などを含む混合液体を反応混合物で用いてもよい。実施形態では、第2の溶媒は、沸点または蒸気圧曲線、またはビルディングブロック分子に対するアフィニティが第1の溶媒とは異なる溶媒である。実施形態では、第1の溶媒は、沸点が第2の溶媒よりも高い。実施形態では、第2の溶媒は、沸点が、約130℃以下、例えば、約100℃以下であり、例えば、約30℃〜約100℃、または約40℃〜約90℃、または約50℃〜約80℃の範囲である。
実施形態では、第1の溶媒(または沸点が高い方の溶媒)は、沸点が約65℃以上であり、例えば、約80℃〜約300℃、または約100℃〜約250℃、または約100℃〜約180℃の範囲である。
二成分系混合液体の液体比率は、容積で約1:1〜約99:1であってもよく、例えば、約1:10〜約10:1、または約1:5〜約5:1であってもよい。n種類の液体を用い、nが約3〜約6の範囲である場合、それぞれの液体の量は、それぞれの液体分布の合計が100%になるように、約1%〜約95%の範囲である。
SOFの特徴を操作する目的で、濡れた層をSOFに変換する速度を遅くするか、または速くするために、上述の混合液体を用いてもよい。例えば、縮合および付加/脱離による接続の化学において、水、一級、二級または三級のアルコール(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、tert−ブタノール)のような液体を用いてもよい。
場合により、濡れた層から乾燥SOFへの促進を補助するために、反応混合物中に触媒が存在してもよい。触媒は、均一(溶解した)状態であってもよく、不均一(溶解していないか、または部分的に溶解した)状態であってもよく、ブレンステッド酸(HCl(水溶液)、酢酸、p−トルエンスルホン酸、アミンが保護されたp−トルエンスルホン酸、例えば、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム、トリフルオロ酢酸);ルイス酸(ホウ素トリフルオロエーテラート、三塩化アルミニウム);ブレンステッド塩基(金属水酸化物、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム;一級、二級または三級のアミン、例えば、ブチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン);ルイス塩基(N,N−ジメチル−4−アミノピリジン);金属(青銅);金属塩(FeCl、AuCl);金属錯体(結合したパラジウム錯体、結合したルテニウム触媒)が挙げられる。典型的な触媒保持量は、反応混合物内のビルディングブロック分子の約0.01%〜約25%、例えば、約0.1%〜約5%の範囲である。最終的なSOF組成物中に触媒が存在していてもよく、存在していなくてもよい。
場合により、反応混合物および濡れた層に、添加剤または第2の成分が存在していてもよく、または、これらが乾燥SOFに組み込まれていてもよい。添加剤または第2の成分は、反応混合物および濡れた層の中、または乾燥SOF内で均一であってもよく、不均一であってもよい。用語「添加剤」または「第2の成分」は、SOFに共有結合してはおらず、組成物中にランダムに分布している原子または分子を指す。
反応混合物を、多くの液体堆積技術を用い、濡れたフィルムとして種々の基板に塗布してもよい。基板としては、ポリマー、紙、金属、金属合金、周期律表III族〜VI族の元素がドープした形態およびドープしていない形態、金属酸化物、金属カルコゲニド、あらかじめ調製しておいたSOFフィルムが挙げられる。
反応混合物を、スピンコーティング、ブレードコーティング、ウェブコーティング、浸漬コーティング、カップによるコーティング、ロッドによるコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷、スプレーコーティング、スタンピングなどを含む多くの液体堆積技術を用い、基板に塗布してもよい。濡れた層を堆積させるのに使用される方法は、基板の性質、大きさ、形状、濡れた層の望ましい厚みによって変わる。濡れた層の厚みは、約10nm〜約5mmの範囲であってもよく、例えば、約100nm〜約1mm、または約1μm〜約500μmであってもよい。
用語「促進」は、ビルディングブロック分子の反応を容易にするのに適した任意の技術を指す。液体を除去して乾燥フィルムを作成することが必要な場合には、「促進」は、液体を除去することも指す。ビルディングブロック分子の反応と、液体の除去とを連続的に実施してもよく、同時に実施してもよい。
また、実施形態では、用語「促進」は、ビルディングブロック分子および/または前SOFの反応(例えば、ビルディングブロックおよび/または前SOFの官能基の化学反応)を容易にするのに適した任意の技術を指していてもよい。ビルディングブロック分子および/または前SOFの反応と、液体の除去とを連続的に実施してもよく、同時に実施してもよい。
特定の実施形態では、液体は、ビルディングブロック分子の1つでもあり、SOFに組み込まれている。用語「乾燥SOF」は、実質的に乾燥したフィルムを指し、例えば、実質的に乾燥したSOFは、液体含有量が、SOFの約5重量%未満、または約2重量%未満であってもよい。
濡れた層からの乾燥SOF形成を促進することは、典型的には、乾燥器による乾燥、赤外線照射(IR)など、40〜350℃、60〜200℃、85〜160℃の温度範囲での熱処理を含む。加熱合計時間は、約4秒〜約24時間の範囲であってもよく、例えば、1分〜120分、または3分〜60分であってもよい。
濡れた層からCOFフィルムにするのをIRによって促進することは、ベルト運搬システムに取り付けたIR加熱モジュールを用いて行ってもよい。種々のIR放射体を用いてもよく、例えば、炭素IR放射体または短波長IR放射体(Heraerusから入手可能)を用いてもよい。炭素IR放射体または短波長IR放射体に関するさらなる例示的な情報を以下の表にまとめている。
Figure 2012001539

実施形態では、自立型SOFが望ましい。濡れた層の堆積物を保持するのに、適切な低接着性基板を用いて、自立型SOFを得てもよい。
実施例中のすべての割合は、他の意味であると示されていない限り、重量による。機械的な測定は、TA Instruments DMA Q800動的機械分析機で測定した。示差走査熱量分析は、TA Instruments DSC 2910示差走査熱量計で測定した。熱重量分析は、TA Instruments TGA 2950熱重量分析計で測定した。FT−IRスペクトルは、Nicolet Magna 550分光光度計で測定した。1マイクロメートル未満の厚み測定は、Dektak 6m Surface Profilerで測定した。表面エネルギーは、Fibro DAT 1100(Sweden)接触角装置で測定した。他の意味であると示されていない限り、以下の実施例で製造したSOFは、欠陥のないSOFであるか、または実質的に欠陥のないSOFであった。
本開示の一実施形態は、セグメントの微視的な配置がパターン化しているSOFを得ることである。用語「パターン化している」は、セグメントが互いに接続している配列を指す。したがって、パターン化しているSOFは、セグメントAがセグメントBのみにつながっている組成、またはその逆に、セグメントBがセグメントAのみにつながっている組成を具現化したものであろう。さらに、1種類のセグメントのみが存在する系(いわゆるセグメントA)が使用される場合、AはAのみと反応することを意味するので、これもパターン化されているものであろう。
以下の実験は、パターン化されているSOFの開発について示している。
(実施例1:2型SOF)
(作業A)液体を含む反応混合物の調製。以下のものをあわせた。ビルディングブロックであるベンゼン−1,4−ジメタノール[セグメント=p−キシリル;Fg=ヒドロキシル(−OH);(0.47g、3.4mmol)]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミン;Fg=メトキシエーテル(−OCH);(1.12g、1.7mmol)]、1−メトキシ−2−プロパノール17.9g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1−メトキシ−2−プロパノール溶液として酸触媒0.31gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。
(作業B)反応混合物を濡れたフィルムとして堆積。金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、8milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で反応混合物を塗布した。
(作業C)濡れたフィルムから乾燥SOFへの変化を促進。濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約3〜6マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は緑色であった。このSOFの一部分のフーリエ変換赤外吸収スペクトルを図1に与えている。
実施例1で調製したSOFについて、使用したビルディングブロック分子に由来するセグメントがSOF内でパターン化されていることを示すために、3種類のコントロール実験を実施した。すなわち、実施例1の作業Aに記載したのと同じ手順を用い、3種類の液体反応混合物を調製したが、これらの3種類の配合物は、それぞれ以下のように変更したものであった。
・(コントロール反応混合物1;実施例2)ビルディングブロックであるベンゼン−1,4−ジメタノールは含まれていなかった。
・(コントロール反応混合物2;実施例3)ビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミンは含まれていなかった。
・(コントロール反応混合物3;実施例4)触媒であるp−トルエンスルホン酸は含まれていなかった。
上述のコントロール実験に関するSOF形成プロセスの全容を、以下の実施例2〜4に詳しく記載している。
(実施例2:(ビルディングブロックであるベンゼン−1,4−ジメタノールが含まれなかったコントロール実験)
(作業A)液体を含む反応混合物の調製。以下のものをあわせた。ビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミン;Fg=メトキシエーテル(−OCH);(1.12g、1.7mmol)]、1−メトキシ−2−プロパノール17.9g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1−メトキシ−2−プロパノール溶液として酸触媒0.31gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。
(作業B)反応混合物を濡れたフィルムとして堆積。金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、8milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で反応混合物を塗布した。
(作業C)濡れたフィルムから乾燥SOFへの変化を促進することを試みた。濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によってフィルムは得られなかった。代わりに、ビルディングブロックの析出した粉末が基板に堆積した。
(実施例3:(ビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミンが含まれなかったコントロール実験)
(作業A)液体を含む反応混合物の調製。以下のものをあわせた。ビルディングブロックであるベンゼン−1,4−ジメタノール[セグメント=p−キシリル;Fg=ヒドロキシル(−OH);(0.47g、3.4mmol)]、1−メトキシ−2−プロパノール17.9g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1−メトキシ−2−プロパノール溶液として酸触媒0.31gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。
(作業B)反応混合物を濡れたフィルムとして堆積。金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、8milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で反応混合物を塗布した。
(作業C)濡れたフィルムから乾燥SOFへの変化を促進することを試みた。濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によってフィルムは得られなかった。代わりに、ビルディングブロックの析出した粉末が基板に堆積した。
(実施例4:(酸触媒であるp−トルエンスルホン酸が含まれなかったコントロール実験)
(作業A)液体を含む反応混合物の調製。以下のものをあわせた。ビルディングブロックであるベンゼン−1,4−ジメタノール[セグメント=p−キシリル;Fg=ヒドロキシル(−OH);(0.47g、3.4mmol)]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミン;Fg=メトキシエーテル(−OCH);(1.12g、1.7mmol)]、1−メトキシ−2−プロパノール17.9g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過し、液体を含む反応混合物を得た。
(作業B)反応混合物を濡れたフィルムとして堆積。金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、8milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で反応混合物を塗布した。
(作業C)濡れたフィルムから乾燥SOFへの変化を促進することを試みた。濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によってフィルムは得られなかった。代わりに、ビルディングブロックの析出した粉末が基板に堆積した。
実施例2〜4に記載したように、3種類のコントロール反応混合物に対し、それぞれ実施例1に概説した作業Bおよび作業Cを行った。しかし、すべての場合でSOFは形成されず、単に、基板の上にビルディングブロックが堆積した。これらの結果から、記載した処理条件では、ビルディングブロック自体が反応することはできず、促進剤(p−トルエンスルホン酸)が存在しない状態でもビルディングブロックを反応させることはできないという結論が得られる。したがって、実施例1に記載した活性は、ビルディングブロック(ベンゼン−1,4−ジメタノールと、N4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン)が、互いに反応するように促進された場合にのみ、互いに反応することができるという活性である。セグメントであるp−キシリルと、N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミンとが、お互いとだけ反応する場合に、パターン化されているSOFが得られる。フーリエ変換赤外吸収スペクトルを、SOFのコントロール実験の生成物のスペクトルと比較すると(図2)、出発物質に由来する官能基が存在しないことが示されており(特に、ベンゼン−1,4−ジメタノールに由来するヒドロキシル吸収バンドが存在しない)、さらに、セグメント間の接続が上述のように進んでいることを支持している。また、このSOFのスペクトルで、ヒドロキシル吸収バンドがまったく存在しないことは、パターン化度が非常に高いことを示している。
(実施例5:2型SOF)
(作業A)以下のものをあわせた。ビルディングブロックである1,6−n−ヘキサンジオール[セグメント=n−ヘキシル;Fg=ヒドロキシル(−OH);(0.21g、1.8mmol)]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミン;Fg=メトキシエーテル(−OCH);(0.58g、0.87mmol)]、1−メトキシ−2−プロパノール8.95g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1−メトキシ−2−プロパノール溶液として酸触媒0.16gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。(作業B)反応混合物を、金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、20milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で塗布した。(作業C)濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約4〜5マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は緑色であった。このSOFの一部分のフーリエ変換赤外吸収スペクトルを図3に与えている。
(実施例6:2型SOF)
(作業A)以下のものをあわせた。ビルディングブロックである4,4’−(シクロヘキサン−1,1−ジイル)ジフェノール[セグメント=4,4’−(シクロヘキサン−1,1−ジイル)ジフェニル;Fg=ヒドロキシル(−OH);(0.97g、6mmol)]、第2のビルディングブロックであるN4,N4,N4’,N4’−テトラキス(4−(メトキシメチル)フェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン[セグメント=N4,N4,N4’,N4’−テトラ−p−トリルビフェニル−4,4’−ジアミン;Fg=メトキシエーテル(−OCH);(1.21g、1.8mmol)]、1,4−ジオキサン7.51g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1,4−ジオキサン溶液として酸触媒0.22gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。(作業B)反応混合物を、金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、10milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で塗布した。(作業C)濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約12〜20マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は緑色であった。このSOFのフーリエ変換赤外吸収スペクトルを図4に与えている。
(実施例7:1型SOF)
(作業A)以下のものをあわせた。ビルディングである4,4’,4’’−ニトリロトリス(ベンゼン−4,1−ジイル)トリメタノール[セグメント=(4,4’,4’’−ニトリロトリス(ベンゼン−4,1−ジイル)トリメチル);Fg=アルコール(−OH);(1.48g、4.4mmol)]、1,4−ジオキサン8.3g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1,4−ジオキサン溶液として酸触媒0.15gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。(作業B)反応混合物を、金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、15milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で塗布した。(作業C)濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約6〜15マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は緑色であった。このフィルムのフーリエ変換赤外吸収スペクトルを図5に与えている。2次元X線散乱データを図8に与えている。図8からわかるように、バックグラウンドを超えるシグナルは存在せず、このことは、分子レベルでの任意の検出可能な周期性が存在しないことを示している。
(実施例8:2型SOF)
(作業A)以下のものをあわせた。ビルディングブロックであるテレフタルアルデヒド[セグメント=ベンゼン;Fg=アルデヒド(−CHO);(0.18g、1.3mmol)]、第2のビルディングブロックであるトリス(4−アミノフェニル)アミン[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=アミン(−NH);(0.26g、0.89mmol)]、テトラヒドロフラン2.5g。均一溶液が得られるまで、この混合物を振り混ぜた。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1−テトラヒドロフラン溶液として酸触媒0.045gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。(作業B)反応混合物を、金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、5milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で塗布した。(作業C)濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ120℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約6マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は赤橙色であった。このフィルムのフーリエ変換赤外吸収スペクトルを図6に与えている。
(実施例9:1型SOF)
(作業A)以下のものをあわせた。ビルディングブロックである4,4’,4’’−ニトリロトリベンズアルデヒド[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=アルデヒド(−CHO);(0.16g、0.4mmol)]、第2のビルディングブロックであるトリス(4−アミノフェニル)アミン[セグメント=トリフェニルアミン;Fg=アミン(−NH);(0.14g、0.4mmol)]、テトラヒドロフラン1.9g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。(作業B)反応混合物を、金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、5milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で塗布した。(作業C)濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ120℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約6マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は赤色であった。このフィルムのフーリエ変換赤外吸収スペクトルを図7に与えている。
(実施例10)
(作業A)以下のものをあわせた。ビルディングである4,4’,4’’−ニトリロトリス(ベンゼン−4,1−ジイル)トリメタノール[セグメント=(4,4’,4’’−ニトリロトリス(ベンゼン−4,1−ジイル)トリメチル);Fg=アルコール(−OH);(1.48g、4.4mmol)]、水0.5g、1,4−ジオキサン7.8g。この混合物を振り混ぜ、均一溶液が得られるまで、60℃まで加熱した。室温まで冷却したら、この溶液を0.45マイクロメートルのPTFE膜で濾過した。この濾過した溶液に、p−トルエンスルホン酸の10重量%1,4−ジオキサン溶液として酸触媒0.15gを加え、液体を含有する反応混合物を得た。(作業B)反応混合物を、金属化した(TiZr)MYLAR(商標)基板の反射側に、15milのギャップを有するバードバーを取り付けたドローダウンコーティング機を用い、一定速度で塗布した。(作業C)濡れた層を保持している、金属化したMYLAR(商標)基板を、あらかじめ130℃に加熱した、能動的に排気している乾燥機にすばやく移動させ、40分間放置して加熱した。これらの作業によって、厚みが約4〜10マイクロメートルの範囲のSOFが得られ、このSOFを、基板から1つの自立型SOFとして剥離することができた。SOFの色は緑色であった。2次元X線散乱データを図8に与えている。図8からわかるように、2θは約17.8であり、dは約4.97オングストロームであり、このことは、このSOFが、分子レベルで約0.5nmの周期性を有していることを示している。

Claims (2)

  1. 所定の構造をもつ有機フィルム(SOF)であって、複数のセグメントと複数のリンカーとが共有結合による有機骨格(COF)として整列しており、このSOFの少なくとも一部分が周期的である、所定の構造をもつ有機フィルム(SOF)。
  2. 所定の構造をもつ有機フィルム(SOF)を調製するプロセスであって、
    (a)
    第1の溶媒、
    第2の溶媒、および
    セグメントと官能基とをそれぞれ含む複数のビルディングブロック分子
    を含む、液体を含有する反応混合物を調製することと;
    (b)前SOFを作成することと;
    (c)前記反応混合物を濡れたフィルムとして堆積させることと;
    (d)前記濡れたフィルムの変化を促進し、乾燥SOFを形成させることとを含み、この乾燥SOFの少なくとも一部分が周期的である、プロセス。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012031406A (ja) * 2010-07-28 2012-02-16 Xerox Corp キャッピングされた規則的な構造の有機膜組成物
JP2013017996A (ja) * 2011-07-13 2013-01-31 Xerox Corp ガス分離のための多孔質構造化有機フィルムの適用

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8377999B2 (en) 2011-07-13 2013-02-19 Xerox Corporation Porous structured organic film compositions
US8410016B2 (en) 2011-07-13 2013-04-02 Xerox Corporation Application of porous structured organic films for gas storage
US9523928B2 (en) 2014-09-26 2016-12-20 Xerox Corporation Fluorinated structured organic film photoreceptor layers
CN108034322B (zh) * 2018-01-11 2020-09-08 长春顺风新材料有限公司 一种防火涂料及其制备方法
CN110563907A (zh) * 2019-09-09 2019-12-13 济南大学 一种共价有机骨架材料的制备方法
CN113461889B (zh) * 2021-06-11 2022-06-07 西安交通大学 一种具有混合离子骨架结构的有机多孔材料、膜材料及制备方法
CN114957591B (zh) * 2022-03-24 2024-04-09 万华化学集团股份有限公司 一种用于药物缓释的cof基聚氨酯多孔膜的制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5133185A (ja) * 1974-01-29 1976-03-22 Givaudan & Cie Sa
JPH0299529A (ja) * 1988-10-07 1990-04-11 Asahi Chem Ind Co Ltd 規則性網目状ポリエステルの製法
JPH10137564A (ja) * 1996-11-08 1998-05-26 Nitto Denko Corp 高透過性複合逆浸透膜
JP2008509259A (ja) * 2004-08-11 2008-03-27 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 高度に分岐したポリアミドの製造方法
JP2009030024A (ja) * 2007-06-29 2009-02-12 Toray Ind Inc 複合半透膜の製造方法

Family Cites Families (124)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2324550A (en) 1939-03-08 1943-07-20 American Can Co Lithographic printing ink and the method of making the same
US3430418A (en) 1967-08-09 1969-03-04 Union Carbide Corp Selective adsorption process
US3801315A (en) 1971-12-27 1974-04-02 Xerox Corp Gravure imaging system
US4078927A (en) 1973-12-13 1978-03-14 Xerox Corporation Photoconductive printing master
CA1098755A (en) 1976-04-02 1981-04-07 Milan Stolka Imaging member with n,n'-diphenyl-n,n'-bis (phenylmethyl)-¬1,1'-biphenyl|-4,4'-diamine in the charge transport layer
US4081274A (en) 1976-11-01 1978-03-28 Xerox Corporation Composite layered photoreceptor
US4265990A (en) 1977-05-04 1981-05-05 Xerox Corporation Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin
US4304829A (en) 1977-09-22 1981-12-08 Xerox Corporation Imaging system with amino substituted phenyl methane charge transport layer
US4306008A (en) 1978-12-04 1981-12-15 Xerox Corporation Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin
US4299897A (en) 1978-12-15 1981-11-10 Xerox Corporation Aromatic amino charge transport layer in electrophotography
US4257699A (en) 1979-04-04 1981-03-24 Xerox Corporation Metal filled, multi-layered elastomer fuser member
US4233384A (en) 1979-04-30 1980-11-11 Xerox Corporation Imaging system using novel charge transport layer
US4291110A (en) 1979-06-11 1981-09-22 Xerox Corporation Siloxane hole trapping layer for overcoated photoreceptors
CA1158706A (en) 1979-12-07 1983-12-13 Carl H. Hertz Method and apparatus for controlling the electric charge on droplets and ink jet recorder incorporating the same
US4387980A (en) 1979-12-25 1983-06-14 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Charging device for electronic copier
US4286033A (en) 1980-03-05 1981-08-25 Xerox Corporation Trapping layer overcoated inorganic photoresponsive device
US4338387A (en) 1981-03-02 1982-07-06 Xerox Corporation Overcoated photoreceptor containing inorganic electron trapping and hole trapping layers
DE3369751D1 (en) 1982-04-06 1987-03-12 Nec Corp Development apparatus of latent electrostatic images
US4489593A (en) 1982-09-09 1984-12-25 Omicron Technology Corporation Method and apparatus for determining the amount of gas adsorbed or desorbed from a solid
US4464450A (en) 1982-09-21 1984-08-07 Xerox Corporation Multi-layer photoreceptor containing siloxane on a metal oxide layer
US4457994A (en) 1982-11-10 1984-07-03 Xerox Corporation Photoresponsive device containing arylmethanes
US5707916A (en) 1984-12-06 1998-01-13 Hyperion Catalysis International, Inc. Carbon fibrils
US5165909A (en) 1984-12-06 1992-11-24 Hyperion Catalysis Int'l., Inc. Carbon fibrils and method for producing same
US6375917B1 (en) 1984-12-06 2002-04-23 Hyperion Catalysis International, Inc. Apparatus for the production of carbon fibrils by catalysis and methods thereof
US4664995A (en) 1985-10-24 1987-05-12 Xerox Corporation Electrostatographic imaging members
US4871634A (en) 1987-06-10 1989-10-03 Xerox Corporation Electrophotographic elements using hydroxy functionalized arylamine compounds
US4855203A (en) 1987-08-31 1989-08-08 Xerox Corporation Imaging members with photogenerating compositions obtained by solution processes
JPH01164402A (ja) 1987-10-14 1989-06-28 Exxon Res & Eng Co ポリ尿素膜及び芳香族化合物と非芳香族化合物との分離のためのその用途
US4917711A (en) 1987-12-01 1990-04-17 Peking University Adsorbents for use in the separation of carbon monoxide and/or unsaturated hydrocarbons from mixed gases
JP2666314B2 (ja) 1988-01-07 1997-10-22 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体
US5017432A (en) 1988-03-10 1991-05-21 Xerox Corporation Fuser member
US4921769A (en) 1988-10-03 1990-05-01 Xerox Corporation Photoresponsive imaging members with polyurethane blocking layers
US4921773A (en) 1988-12-30 1990-05-01 Xerox Corporation Process for preparing an electrophotographic imaging member
US5231162A (en) 1989-09-21 1993-07-27 Toho Rayon Co. Ltd. Polyamic acid having three-dimensional network molecular structure, polyimide obtained therefrom and process for the preparation thereof
US5110693A (en) 1989-09-28 1992-05-05 Hyperion Catalysis International Electrochemical cell
ZA907803B (en) 1989-09-28 1991-07-31 Hyperion Catalysis Int Electrochemical cells and preparing carbon fibrils
EP0476109A1 (en) 1990-04-04 1992-03-25 Sri International Electrographic gravure printing system
US5061965A (en) 1990-04-30 1991-10-29 Xerox Corporation Fusing assembly with release agent donor member
US5126310A (en) 1990-08-23 1992-06-30 Air Products And Chemicals, Inc. Highly dispersed cuprous compositions
US5166031A (en) 1990-12-21 1992-11-24 Xerox Corporation Material package for fabrication of fusing components
US5139910A (en) 1990-12-21 1992-08-18 Xerox Corporation Photoconductive imaging members with bisazo compositions
US5141788A (en) 1990-12-21 1992-08-25 Xerox Corporation Fuser member
US5569635A (en) 1994-05-22 1996-10-29 Hyperion Catalysts, Int'l., Inc. Catalyst supports, supported catalysts and methods of making and using the same
JPH06340081A (ja) 1993-04-19 1994-12-13 Xerox Corp 全幅インクジェットプリンタ用プリントヘッドメンテナンス装置
US5455136A (en) 1993-05-03 1995-10-03 Xerox Corporation Flexible belt with a skewed seam configuration
US5370931A (en) 1993-05-27 1994-12-06 Xerox Corporation Fuser member overcoated with a fluoroelastomer, polyorganosiloxane and copper oxide composition
US5366772A (en) 1993-07-28 1994-11-22 Xerox Corporation Fuser member
US5368913A (en) 1993-10-12 1994-11-29 Fiberweb North America, Inc. Antistatic spunbonded nonwoven fabrics
US5368967A (en) 1993-12-21 1994-11-29 Xerox Corporation Layered photoreceptor with overcoat containing hydrogen bonded materials
JP2827937B2 (ja) 1994-11-22 1998-11-25 富士ゼロックス株式会社 下引き層を有する電子写真感光体および電子写真装置
JPH0987849A (ja) 1995-09-29 1997-03-31 Fujitsu Ltd 共役有機高分子膜の製造方法および共役有機高分子膜
US6939625B2 (en) 1996-06-25 2005-09-06 Nôrthwestern University Organic light-emitting diodes and methods for assembly and enhanced charge injection
US6046348A (en) 1996-07-17 2000-04-04 Fuji Xerox Co., Ltd. Silane compound, method for making the same, and electrophotographic photoreceptor
US5702854A (en) 1996-09-27 1997-12-30 Xerox Corporation Compositions and photoreceptor overcoatings containing a dihydroxy arylamine and a crosslinked polyamide
US6020426A (en) 1996-11-01 2000-02-01 Fuji Xerox Co., Ltd. Charge-transporting copolymer, method of forming charge-transporting copolymer, electrophotographic photosensitive body, and electrophotographic device
US6107117A (en) 1996-12-20 2000-08-22 Lucent Technologies Inc. Method of making an organic thin film transistor
FR2758739B1 (fr) 1997-01-24 1999-02-26 Ceca Sa Perfectionnement dans les procedes psa de purification de l'hydrogene
US5853906A (en) 1997-10-14 1998-12-29 Xerox Corporation Conductive polymer compositions and processes thereof
US6783849B2 (en) 1998-03-27 2004-08-31 Yissum Research Development Company Of The Hebrew University Of Jerusalem Molecular layer epitaxy method and compositions
JP3899733B2 (ja) 1998-07-03 2007-03-28 株式会社豊田中央研究所 多孔材料及び多孔材料の製造方法
US5976744A (en) 1998-10-29 1999-11-02 Xerox Corporation Photoreceptor overcoatings containing hydroxy functionalized aromatic diamine, hydroxy functionalized triarylamine and crosslinked acrylated polyamide
US6002907A (en) 1998-12-14 1999-12-14 Xerox Corporation Liquid immersion development machine having a reliable non-sliding transfusing assembly
US6107439A (en) 1998-12-22 2000-08-22 Xerox Corporation Cross linked conducting compositions
US6340382B1 (en) 1999-08-13 2002-01-22 Mohamed Safdar Allie Baksh Pressure swing adsorption process for the production of hydrogen
FR2811241B1 (fr) 2000-07-07 2002-12-13 Ceca Sa Procede pour la purification de melanges gazeux a base d'hydrogene utilisant une zeolite x au calcium
GB0026121D0 (en) 2000-10-25 2000-12-13 Lsi Logic Europ Ltd Apparatus and method for detecting a predetermined pattern of bits in a bitstream
US6505921B2 (en) 2000-12-28 2003-01-14 Eastman Kodak Company Ink jet apparatus having amplified asymmetric heating drop deflection
US6819244B2 (en) 2001-03-28 2004-11-16 Inksure Rf, Inc. Chipless RF tags
WO2002086913A1 (fr) 2001-04-17 2002-10-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Film mince organique conducteur et son procede de production, electrode et cable electrique utilisant ce film
DE60213579T2 (de) 2001-04-30 2007-08-09 The Regents Of The University Of Michigan, Ann Arbor Isoretikuläre organometallische grundstrukturen, verfahren zu deren bildung und systematische entwicklung von deren porengrösse und funktionalität, mit anwendung für die gasspeicherung
US6713643B2 (en) 2001-05-24 2004-03-30 Board Of Trustees Of Michigan State University Ultrastable organofunctional microporous to mesoporous silica compositions
DE10155935A1 (de) 2001-11-14 2003-05-28 Infineon Technologies Ag Intelligentes Etikett
FR2832141B1 (fr) 2001-11-14 2004-10-01 Ceca Sa Procede de purification de gaz de synthese
KR20030094099A (ko) 2002-06-03 2003-12-11 쉬플리 캄파니, 엘.엘.씨. 전자 디바이스 제조
JP4185341B2 (ja) 2002-09-25 2008-11-26 パイオニア株式会社 多層バリア膜構造、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及び製造方法
KR100503076B1 (ko) 2002-11-28 2005-07-21 삼성전자주식회사 오버코트층 형성용 조성물 및 이를 채용한 유기감광체
JP3580426B1 (ja) 2003-05-12 2004-10-20 シャープ株式会社 有機光導電性材料、それを用いた電子写真感光体および画像形成装置
JP4461215B2 (ja) 2003-09-08 2010-05-12 独立行政法人産業技術総合研究所 低誘電率絶縁材料とそれを用いた半導体装置
US7202002B2 (en) 2004-04-30 2007-04-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Hydrazone-based charge transport materials
US7179324B2 (en) 2004-05-19 2007-02-20 Praxair Technology, Inc. Continuous feed three-bed pressure swing adsorption system
US7177572B2 (en) 2004-06-25 2007-02-13 Xerox Corporation Biased charge roller with embedded electrodes with post-nip breakdown to enable improved charge uniformity
US20060182993A1 (en) 2004-08-10 2006-08-17 Mitsubishi Chemical Corporation Compositions for organic electroluminescent device and organic electroluminescent device
JP4642447B2 (ja) 2004-08-27 2011-03-02 株式会社リコー 芳香族ポリエステル樹脂及びそれを用いた電子写真用感光体
MX2007004679A (es) 2004-10-22 2007-10-03 Univ Michigan Estructuras y poliedros organicos covalentemente enlazados.
JP2006169276A (ja) 2004-12-13 2006-06-29 Seiko Epson Corp 導電性材料、導電性材料用組成物、導電層、電子デバイスおよび電子機器
US20060135737A1 (en) 2004-12-22 2006-06-22 Davis Gary C Polycarbonates with fluoroalkylene carbonate end groups
US7404846B2 (en) 2005-04-26 2008-07-29 Air Products And Chemicals, Inc. Adsorbents for rapid cycle pressure swing adsorption processes
CN101203546B (zh) 2005-06-24 2012-02-01 旭硝子株式会社 交联性含氟芳香族预聚物及其用途
US7560205B2 (en) 2005-08-31 2009-07-14 Xerox Corporation Photoconductive imaging members
US7384717B2 (en) 2005-09-26 2008-06-10 Xerox Corporation Photoreceptor with improved overcoat layer
US7714040B2 (en) 2005-11-30 2010-05-11 Xerox Corporation Phase change inks containing curable amide gellant compounds
US8883384B2 (en) 2005-12-13 2014-11-11 Xerox Corporation Binderless overcoat layer
WO2007090864A1 (de) 2006-02-10 2007-08-16 Basf Se Verfahren zur herstellung poröser organischer gerüstmaterialien
US8258197B2 (en) 2006-02-24 2012-09-04 University Of South Carolina Synthesis of a highly crystalline, covalently linked porous network
JP4331256B2 (ja) 2006-04-12 2009-09-16 パナソニック株式会社 有機分子膜構造体の形成方法
KR101304697B1 (ko) 2006-06-07 2013-09-06 삼성전자주식회사 적층 유도 화합물을 사용한 유기 반도체 소재, 이를포함하는 조성물, 이를 이용한 유기 반도체 박막 및 유기전자 소자
US7645548B2 (en) * 2006-11-06 2010-01-12 Xerox Corporation Photoreceptor overcoat layer masking agent
US20100143693A1 (en) 2007-01-24 2010-06-10 The Regents Of The University Of California Crystalline 3d- and 2d covalent organic frameworks
US7999160B2 (en) 2007-03-23 2011-08-16 International Business Machines Corporation Orienting, positioning, and forming nanoscale structures
US8367152B2 (en) 2007-04-27 2013-02-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of light-emitting device
US8065904B1 (en) 2007-06-18 2011-11-29 Sandia Corporation Method and apparatus for detecting an analyte
US7628466B2 (en) 2007-06-20 2009-12-08 Xerox Corporation Method for increasing printhead reliability
SG182962A1 (en) 2007-06-27 2012-08-30 Georgia Tech Res Inst Sorbent fiber compositions and methods of temperature swing adsorption
US7591535B2 (en) 2007-08-13 2009-09-22 Xerox Corporation Maintainable coplanar front face for silicon die array printhead
GB2451865A (en) 2007-08-15 2009-02-18 Univ Liverpool Microporous polymers from alkynyl monomers
US8309285B2 (en) * 2007-11-07 2012-11-13 Xerox Corporation Protective overcoat layer and photoreceptor including same
KR100832309B1 (ko) 2007-11-21 2008-05-26 한국과학기술원 금속 양이온이 도핑된 수소저장용 유기물질 골격구조 물질유도체 및 그의 사용방법
US20090149565A1 (en) 2007-12-11 2009-06-11 Chunqing Liu Method for Making High Performance Mixed Matrix Membranes
US7776499B2 (en) 2008-02-19 2010-08-17 Xerox Corporation Overcoat containing fluorinated poly(oxetane) photoconductors
DE102008011840B4 (de) 2008-02-20 2011-07-21 Technische Universität Dresden, 01069 Mikroporöses hydrophobes Polyorganosilan, Verfahren zur Herstellung und Verwendung
DE102008011189A1 (de) 2008-02-26 2009-08-27 Merck Patent Gmbh Polykondensationsnetzwerke zur Gasspeicherung
US7799495B2 (en) 2008-03-31 2010-09-21 Xerox Corporation Metal oxide overcoated photoconductors
WO2009127896A1 (en) 2008-04-18 2009-10-22 Universite D'aix-Marseille I Synthesis of an ordered covalent monolayer network onto a surface
US7881647B2 (en) 2008-04-30 2011-02-01 Xerox Corporation Xerographic imaging modules, xerographic apparatuses, and methods of making xerographic imaging modules
JP5487583B2 (ja) 2008-09-16 2014-05-07 株式会社リコー 電子写真感光体、及びそれを用いた電子写真方法、電子写真装置、電子写真装置用プロセスカートリッジ
EP2384237A1 (en) 2009-02-02 2011-11-09 The Regents of The University of California Reversible ethylene oxide capture in porous frameworks
US8389060B2 (en) 2009-03-04 2013-03-05 Xerox Corporation Process for preparing structured organic films (SOFs) via a pre-SOF
US8241400B2 (en) 2009-07-15 2012-08-14 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Process for the production of carbon dioxide utilizing a co-purge pressure swing adsorption unit
US7939230B2 (en) 2009-09-03 2011-05-10 Xerox Corporation Overcoat layer comprising core-shell fluorinated particles
JP2011070023A (ja) 2009-09-25 2011-04-07 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、および画像形成装置。
US8318892B2 (en) 2010-07-28 2012-11-27 Xerox Corporation Capped structured organic film compositions
US8119314B1 (en) 2010-08-12 2012-02-21 Xerox Corporation Imaging devices comprising structured organic films
US8119315B1 (en) 2010-08-12 2012-02-21 Xerox Corporation Imaging members for ink-based digital printing comprising structured organic films
US8313560B1 (en) 2011-07-13 2012-11-20 Xerox Corporation Application of porous structured organic films for gas separation

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5133185A (ja) * 1974-01-29 1976-03-22 Givaudan & Cie Sa
JPH0299529A (ja) * 1988-10-07 1990-04-11 Asahi Chem Ind Co Ltd 規則性網目状ポリエステルの製法
JPH10137564A (ja) * 1996-11-08 1998-05-26 Nitto Denko Corp 高透過性複合逆浸透膜
JP2008509259A (ja) * 2004-08-11 2008-03-27 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 高度に分岐したポリアミドの製造方法
JP2009030024A (ja) * 2007-06-29 2009-02-12 Toray Ind Inc 複合半透膜の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012031406A (ja) * 2010-07-28 2012-02-16 Xerox Corp キャッピングされた規則的な構造の有機膜組成物
JP2013017996A (ja) * 2011-07-13 2013-01-31 Xerox Corp ガス分離のための多孔質構造化有機フィルムの適用

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