JP2011522117A - 真空コーティングチャンバからアルカリ金属又はアルカリ土類金属を除去するための装置及び方法 - Google Patents
真空コーティングチャンバからアルカリ金属又はアルカリ土類金属を除去するための装置及び方法 Download PDFInfo
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4405—Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases
Abstract
Description
Li+H2O→LiOH+1/2H2
2 基板
3 真空コーティングチャンバ
4 側壁
5 側壁
6 マスキング
7 蒸気供給システム
8 蒸発器るつぼ
9 バルブ
10 蒸気入口
11 蒸気入口
12 蒸気入口
13 蒸気入口
14 直線分配器
15 カバー
16 カバー
20 ガス容器
21 ガス容器
22 ガス容器
23 供給管
24 供給管
25 供給管
26 バルブ
27 バルブ
28 バルブ
30 ポンプ
31 抽出フィッティング
32 ガスセンサ
33 評価装置
35 フィードパイプ
Claims (24)
- コーティング設備(1)の真空コーティングチャンバ(3)内でアルカリ金属又はアルカリ土類金属を蒸発させることによって基板をコーティングし、及び前記真空コーティングチャンバ(3)からアルカリ金属又はアルカリ土類金属を除去するための装置であって、
前記真空コーティングチャンバ(3)は、供給管(23−25)を介して前記真空コーティングチャンバ(3)に接続される少なくとも1つのガス容器(20−22)を有し、
前記ガス容器はN2、O2又は空気の群からの気体を含む装置。 - 前記少なくとも1つのガス容器(20−22)と前記真空コーティングチャンバ(3)との間にバルブ(26−28)が提供されることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記真空コーティングチャンバ(3)は、H2O用のフィードパイプ(35)を含み、前記フィードパイプ(35)を介してH2Oを前記真空コーティングチャンバ(3)内に導入可能であることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記真空コーティングチャンバ(3)は、前記真空コーティングチャンバ(3)が超音波にさらされることを可能とする手段を含むことを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記真空コーティングチャンバ(3)は、少なくとも1つのガスセンサ(32)を含むことを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記ガスセンサ(32)は、質量分析計であることを特徴とする請求項5記載の装置。
- 前記ガスセンサ(32)は、ラムダプローブであることを特徴とする請求項5記載の装置。
- 前記真空コーティングチャンバ(3)は、ポンプ(30)に接続された抽出フィッティング(31)を底部に含むことを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記ガスセンサ(32)は、IR又はNIR分光計であることを特徴とする請求項5記載の装置。
- 前記金属は、リチウムであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- コーティング設備(1)の真空コーティングチャンバ(3)からアルカリ金属又はアルカリ土類金属を除去するための方法であって、
a)前記コーティング処理が完了した後に、前記真空コーティングチャンバ(3)が真空下に設定され、
b)N2、O2又は空気の群からなる気体が前記真空コーティングチャンバ(3)内に導入され、前記ガスはアルカリ金属又はアルカリ土類金属と前記真空コーティングチャンバ(3)内で反応して固体化合物を形成し、
c)前記固体化合物は前記真空コーティングチャンバ(3)から除去されるステップを特徴とする方法。 - 前記金属はリチウムであることを特徴とする請求項11記載の方法。
- H2Oが前記真空コーティングチャンバ(3)内に追加的に導入されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記空気はO2が豊富であることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記反応中の前記ガス容積はガスセンサ(32)によって決定されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記ガス容積は質量分析計によって決定されることを特徴とする請求項15記載の方法。
- 前記酸素容積はラムダプローブによって決定されることを特徴とする請求項15記載の方法。
- 前記処理の初めに30℃〜200℃の温度に設定されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記温度は80℃であることを特徴とする請求項18記載の方法。
- 100mbarの圧力に設定することを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記固体化合物は、ポンプ(30)に接続された抽出フィッティング(31)によって前記真空コーティングチャンバ(3)から除去されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 前記固体化合物は、集塵機によって前記真空コーティングチャンバ(3)から除去されることを特徴とする請求項11記載の方法。
- 形成された前記固体化合物は、前記真空コーティングチャンバ(3)から除去される前に、前記真空コーティングチャンバ(3)の前記壁から超音波によって取り外されることを特徴とする請求項21又は22記載の方法。
- 前記ガス容積はIR又はNIR分光計によって決定されることを特徴とする請求項15記載の方法。
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