TWI495754B - Vacuum coating equipment vacuum measurement device - Google Patents

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真空鍍膜設備之真空度量測裝置
本發明與真空鍍膜設備有關，特別是指一種真空鍍膜設備之真空度量測裝置。
簡單來說，所謂的真空鍍膜是將一待蒸鍍物(例如基板)放到一真空腔體內，接著將一蒸鍍源加熱至汽化昇華的狀態，使蒸鍍源之氣體附著至待蒸鍍物之表面而形成一層薄膜。
為了在整個製程中確保真空腔體的內部都能維持在真空狀態，通常會在真空腔體內設置一真空計，用以量測真空腔體內的真空度，但是因為真空計是長期暴露在蒸鍍源之氣體中，所以真空計的內部零件很容易遭到腐蝕損壞而時常需要維修，一旦真空計進行維修時會造成整個製程受到延宕，進而連帶影響生產效率。
本發明之主要目的在於提供一種真空鍍膜設備之真空度量測裝置，其能延長維修週期及使用壽命，並具有良好的維修便利性。
為了達成上述目的，該真空鍍膜設備包含有一真空腔體，該真空腔體具有一貫穿內、外壁面之安裝孔，本發明之真空度量測裝置包含有一真空計及一開關閥，該開關閥安裝於該真空腔體之安裝孔且位於該真空腔體之外壁面， 並與該真空計連接在一起，當該開關閥開啟時，該真空腔體與該真空計之間經由該開關閥之一通道而相互連通，使該真空計能藉由量測氣體的物理性質而換算成壓力值，以獲得該真空腔體的真空度，當該開關閥關閉時，該真空腔體與該真空計之間互不相通，使該真空計可以減少接觸到化學腐蝕氣體的機會，以達到延長維修週期及使用壽命且便於維修操作的目的。
為了詳細說明本發明之結構、特徵及功效所在，茲列舉一較佳實施例並配合下列圖式說明如後。
請參閱第一圖，為本發明一較佳實施例所提供之真空度量測裝置20，主要使用在一真空鍍膜設備，真空鍍膜設備包含有一真空腔體10，真空腔體10的內部界定出一腔室12，用以供一待蒸鍍物(圖中未示)進行鍍膜製程，此外，真空腔體10具有一貫穿內、外壁面之安裝孔14，使得腔室12能夠經由安裝孔14與外界相通。請再參閱第一及二圖，本發明之真空度量測裝置20設置於真空腔體10的上方，並且包含有一真空計30及一開關閥40。
真空計30在本實施例中為一冷陰極電離真空計，主要是在低壓狀態下利用放電電流與氣體壓力之間的關係進行真空度的測量。由於冷陰極電離真空計為習知技術，為了節省篇幅，在此容不贅述其詳細結構及工作原理。
開關閥40在本實施例中為一角閥而具有呈90度相位 差之一進氣端42及一出氣端44，並於進氣端42與出氣端44之間形成一通道46。開關閥40位於真空腔體10之外壁面且藉由進氣端42及出氣端44分別螺接真空腔體10之安裝孔14及真空計30，用以控制真空腔體10與真空計30之間是否能夠經由通道46而相互連通。
在鍍膜製程開始之前，先將開關閥40打開，使真空腔體10與真空計30之間經由通道46而相互連通，此時的真空計30會藉由量測氣體的物理性質而換算成壓力值，以確保真空腔體10的內部處於真空狀態，如第二圖所示，接著將開關閥40關閉，使真空腔體10與真空計30之間互不相通，此時就可以開始進行鍍膜製程。在整個鍍膜製程中，蒸鍍源之氣體會因為通道46之關閉而無法進入真空計30內，如此便能讓真空計30之內部零件減少接觸到化學腐蝕氣體的機會，以達到延長維修週期及使用壽命的目的。另外在對真空計30進行維修時，只需將開關閥40關閉，即可將真空計30拆下，此過程無需破壞真空腔體10內之固有真空度，以達到維修便利性的目的。
在此需要加以補充說明的是，本發明之真空度量測裝置20可以在真空腔體10的上方設置兩組真空計30及兩組開關閥40，當其中一組真空計30進行維修時，操作人員還是可以使用另外一組真空計30進行鍍膜製程，如第三圖所示，以避免鍍膜製程受到延宕而提升生產效率，而且，本發明之真空度量測裝置20也可以在真空腔體10的上方設置其中一組真空計30及開關閥40，並且在真空腔體10 的側邊設置另外一組真空計30及開關閥40，如第四圖所示，同樣可以達到相同的目的。
最後，本發明於前揭實施例中所揭露的構成元件，僅為舉例說明，並非用來限制本案之範圍，其他等效元件的替代或變化，亦應為本案之申請專利範圍所涵蓋。
10‧‧‧真空腔體
12‧‧‧腔室
14‧‧‧安裝孔
20‧‧‧真空度量測裝置
30‧‧‧真空計
40‧‧‧開關閥
42‧‧‧進氣端
44‧‧‧出氣端
46‧‧‧通道
第一圖為本發明第一較佳實施例之立體分解圖。
第二圖為本發明第一較佳實施例之剖視示意圖。
第三圖為本發明第二較佳實施例之剖視示意圖。
第四圖類同於第三圖，主要顯示不同的安裝位置。
10‧‧‧真空腔體
12‧‧‧腔室
14‧‧‧安裝孔
20‧‧‧真空度量測裝置
30‧‧‧真空計
40‧‧‧開關閥
42‧‧‧進氣端
44‧‧‧出氣端

Claims (5)

  1. 一種真空鍍膜設備之真空度量測裝置，該真空鍍膜設備具有一真空腔體，該真空腔體具有一貫穿內、外壁面之安裝孔，該真空度量測裝置包含有：至少一真空計；以及至少一開關閥，安裝於該真空腔體之安裝孔且位於該真空腔體之外壁面，該開關閥連接該真空計且具有一通道，當該開關閥開啟時，該真空腔體與該真空計之間經由該通道相互連通，當該開關閥關閉時，該真空腔體與該真空計之間互不相通。
  2. 如請求項1所述之真空鍍膜設備之真空度量測裝置，其中該真空計及該開關閥同時位於該真空腔體的上方。
  3. 如請求項1所述之真空鍍膜設備之真空度量測裝置，包含有二該真空計及二該開關閥。
  4. 如請求項3所述之真空鍍膜設備之真空度量測裝置，其中各該真空計及各該開關閥同時位於該真空腔體的上方。
  5. 如請求項3所述之真空鍍膜設備之真空度量測裝置，其中一該真空計及其中一該開關閥同時位於該真空腔體的上方，另外一該真空計及另外一該開關閥同時位於該真空腔體的側邊。
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