JP2011518104A - ルテニウム酸化物を有する、鉛を含有しない抵抗組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明によって、特定の酸化物の分類、ならびに本発明によってそれらがペースト組成物中に混入される方法が定義された。アルファ酸化物(α酸化物)は、CuO、Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せのグループであると定義される。α酸化物CuOがペースト組成物中に別個に、またはホウケイ酸ガラス組成物中にのどちらかに、もしくは両方において存在する。α酸化物Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せがホウケイ酸ガラス組成物中に存在する。デルタ酸化物(δ酸化物)は、BaO、CaO、ZnO、SrO、MgOおよびそれらの組合せのグループであると定義される。デルタ酸化物(δ酸化物)がホウケイ酸ガラス組成物中に存在する。ベータ酸化物(β酸化物)は、TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せのグループであると定義される。β酸化物TiO2、Ta2O5およびNb2O5およびそれらの組合せがペースト組成物中に別個に、またはホウケイ酸ガラス組成物中にのどちらかに、もしくは両方において存在する。
表1において、所望の抵抗体の特性を達成するために本発明によるペースト調合物中で使用されてもよいガラス材料の具体例として一連の本発明によるガラス組成物が記載される。これらのガラス材料は、一つまたは複数のガラス組成物の混合物として使用されてもよい。基板に適用するために適したペーストを形成するために、有機媒体中に配合されたルテニウム酸化物などの導電材料と、最終ガラス混合物と、付加的な酸化物と、酸化物化合物とを含む本発明によるペースト組成物の達成に適した最終組成物を達成するためにより多くの酸化物の一つを少量添加することが任意選択により必要とされることがある。
典型的に、抵抗体ペーストは、導電性粒子、ガラス粉末、およびスクリーン印刷可能なペーストを製造するための有機媒体中に分散された任意の添加剤からなる。このようなペーストを製造するための手順は本技術分野に公知である。導電材料としてRuO2および表1のガラス組成物を用いて、1キロオーム・パー・スクエア〜500キロオーム・パー・スクエアの抵抗が厚膜ペーストの約4〜18重量%の導電性配合物の量によって達成される。本発明の実施形態において、(ペーストは、表1の導電性組成物およびガラス組成物を60重量%で含有する。
実施例1は、表1のガラス6およびガラス9と組み合わせられた24.6m2/グラムの表面積を有するRuO2を使用し、それをテルピネオール+エチルセルロースビヒクルに混合し、100psiの圧力において2回、200psiにおいて2回、次に400psiにおいて2回、1ミルの間隙を通してロール練りした。ペーストのバッチサイズの合計は50グラムであった。ペーストを400メッシュのスクリーンによってスクリーン印刷し、約14.7ミクロンの乾燥厚さを有する0.5×0.5mmの抵抗体を製造した。印刷を10分間150℃において乾燥させ、次に、850℃のピーク温度に10分間維持する、30分のプロファイルにおいて焼成した。実施例1の抵抗体の終端部を形成するために用いられた導体は、Pbを含有しないAg/Pt LF171であった。
実施例2は、RuO2と組み合わせられた単一のガラス10を使用した。アルファ酸化物はCuO、Na2OおよびK2Oであり、CuOはガラス中に存在した。ベータ酸化物はTa2O5であり、それもまた、ガラス中に存在した。抵抗率およびHTCRおよびCTCRを表5に記載する。
実施例3および4のアルファ酸化物は、ガラス9に存在するNa2OおよびLi2Oであり、ペーストに別個の酸化物として添加されたCuOであった。実施例3のベータ酸化物はNb2O5であり、実施例4の場合はTiO2であり、両方とも、それらのそれぞれのペーストに別個の酸化物として添加された。
実施例5のアルファ酸化物は、ガラス4および9に存在するNa2O、ガラス4のK2O、ガラス9のLi2O、およびガラス4のCuOであった。ベータ酸化物は、ガラス4に存在するTa2O5であった。
実施例6は、RuO2と組み合わされた単一のガラス5を使用した。アルファ酸化物はCuOおよびNa2Oであり、CuOはガラス中に存在した。ベータ酸化物TiO2はガラス中に存在した。
実施例7および8は単一のガラス9を使用した。Na2OおよびLi2Oの両方がこのガラスからのアルファ酸化物であった。また、実施例7は、ペーストに別個に添加されたアルファ酸化物としてCuOを使用したが、実施例8はCuOを全く使用しなかった。実施例7および8のベータ酸化物は、両方のペーストに別個に添加されたTa2O5であった。
実施例9のアルファ酸化物はガラス4および9に存在するNa2Oであり、ガラス4のK2O、ガラス9のLi2O、およびガラス4のCuOであった。ベータ酸化物Ta2O5はガラス4に存在した。
実施例10は4つのガラス+RuO2の混合物を使用した。アルファ酸化物Na2Oはガラス7、8および9に存在し、K2Oはガラス4および8に、Li2Oはガラス9に、およびCuOはガラス4に存在した。ベータ酸化物Ta2O5はガラス4に存在し、TiO2はガラス8に存在した。表1の複数のガラス、この場合は4つのガラスを本発明によって用いて所望の範囲内の全組成物を得ることができる。
実施例11のアルファ酸化物はガラス9および11に存在するNa2Oであり、ガラス11のK2O、ガラス9のLi2O、およびガラス11のCuOであった。ベータ酸化物Ta2O5はガラス11に存在した。また、ガラス11はガラス成分としてZrO2を有するが、それは実施例1〜10には存在していなかった。
実施例12〜15は、抵抗体調合物の一部として、添加された酸化物充填剤を有した。実施例12においてアルミニウム酸化物充填剤を使用し、実施例13において非晶質シリカ、実施例14においてジルコン、実施例15においてジルコニアを使用した。以下のアルファ酸化物を使用した。実施例11:ガラス4および11からのNa2O、K2OおよびCuO、実施例12〜15:ガラス4からのNa2O、K2OおよびCuO、およびガラス9からのNa2OおよびLi2O。ベータ酸化物は実施例12においてガラス4および10に存在するTa2O5であり、実施例13〜15においてガラス4に存在するTa2O5であった。
アルカリを含有しない単一のガラス1を実施例16において使用したので、唯一のアルファ酸化物はペーストに添加されたCuOであった。ベータ酸化物は、同じくペーストに添加されたTa2O5であった。
実施例17は実施例1〜16と同じテルピネオール+エチルセルロースビヒクルを使用したが、1%の添加されたトリデシルホスフェートを有した。ペーストを0psiにおいて2回、次いで400psiにおいて8回ロール練りした。アルファ酸化物はガラス12および13に存在するCuO、Na2OおよびK2Oであり、ベータ酸化物は同じくガラス12および13に存在するTa2O5であった。組成物は、低減されたRuO2レベルにおいて本発明による抵抗率およびTCR値を有した。
実施例18〜22の有機ビヒクルおよびロール練り機のプロトコルは実施例1〜16と同じであった。実施例18のアルファ酸化物は、ガラス12に存在するCuO、Na2OおよびK2Oであった。ベータ酸化物は、同じくガラス12に存在するTa2O5であった。
実施例19のアルファ酸化物はガラス9および14に存在するNa2O、ガラス14のK2O、ガラス9のLi2O、およびガラス14のCuOであった。ベータ酸化物Ta2O5はガラス14に存在した。
比較例20〜22は、ベータ酸化物成分を有さないので本発明に拠らない。また、実施例20はB2O3を有さない。TCR値は非常に高く、約450〜1500ppm/Cの範囲である。+100/−100ppm/℃のTCRが抵抗体の工業製造元によって予想される受け入れ基準であるので、これらの組成物は有用な抵抗体を製造しない。
Claims (15)
- 有機ビヒクル中に分散された抵抗体組成物を含有する実質的に鉛を含有しない厚膜抵抗体ペースト組成物であって、
(a)RuO2導電材料と、
(b)CuO、Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せからなる群から選択されたα酸化物と、
(c)ホウケイ酸ガラス組成物であって、(i)B2O3、(ii)SiO2、(iii)BaO、CaO、ZnO、SrO、MgOおよびそれらの組合せからなる群から選択されたδ酸化物を含み、任意選択により(iv)P2O5、(v)ZrO2および(vi)Al2O3のいずれかを含有し、前記α酸化物CuOがペースト組成物中に別個に、またはホウケイ酸ガラス組成物中にのどちらかに、もしくは両方において存在し、前記α酸化物Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せがホウケイ酸ガラス組成物中に存在する、ホウケイ酸ガラス組成物と、
(d)TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せからなる群から選択されたβ酸化物と、を含み、
前記β酸化物TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せがペースト組成物中に別個に、または前記ホウケイ酸ガラス組成物中にのどちらかに、もしくは両方において存在する、実質的に鉛を含有しない厚膜抵抗体ペースト組成物。 - 前記抵抗体ペーストが30〜80重量%の抵抗体組成物と、70〜20重量%の有機ビヒクルとを有し、前記導電性組成物が約5〜約30重量%のRuO2導電材料と、50〜92重量%のα酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物と、0〜30%のセラミック充填剤とを含み、前記セラミック充填剤がSiO2、Al2O3、ZrO2、ZrSiO4およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- 前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物が前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物の重量に基づいて、
α酸化物として前記CuO 0.1〜14重量%および/または前記Na2O+前記K2O+前記Li2Oの合計0.1〜12重量%と、
ホウケイ酸ガラス組成物として10〜60重量%のSiO2、5〜40重量%のB2O3、10〜45重量%のδ酸化物、0〜20重量%のAl2O3、0〜5重量%のZrO2および0〜15重量%のP2O5と、
β酸化物として前記TiO2+前記Ta2O5+前記Nb2O5の合計0.4〜8重量%とを含む、請求項2に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。 - 前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物が前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物の重量に基づいて、
α酸化物として前記CuO 0.3〜8重量%および/または前記Na2O+前記K2O+前記Li2Oの合計1〜8重量%を含む、請求項3に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。 - 前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物が前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物の重量に基づいて、
α酸化物として前記CuO 0.3〜8重量%を含む、請求項3に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。 - 前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物が前記α酸化物+ホウケイ酸ガラス組成物+β酸化物の重量に基づいて、
α酸化物として前記Na2O 4〜11重量%および/または前記K2O 0.4〜2重量%および/または前記Li2O 0.1〜2.0重量%を含む、請求項3に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。 - 前記CuOまたはその前駆物質が、ホウケイ酸ガラス組成物中に混入されるのではなく抵抗体ペースト中に別個に添加される、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せまたはその前駆物質からなる群から選択された前記β酸化物が、前記ホウケイ酸ガラス組成物中に混入されるのではなく抵抗体ペースト中に別個に添加される、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- 前記CuOまたはその前駆物質と、TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せまたはその前駆物質からなる群から選択された前記β酸化物とが、前記ホウケイ酸ガラス組成物中に混入されるのではなく抵抗体ペースト中に別個に添加される、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- 前記β酸化物がTa2O5を含む、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- 前記ホウケイ酸ガラス組成物が、前記ホウケイ酸ガラス組成物の重量に基づいて(i)5〜15重量%のB2O3、(ii)40〜55重量%のSiO2、(iii)BaO、CaO、ZnO、SrO、およびそれらの組合せからなる群から選択されたδ酸化物15〜35重量%を含み、前記ホウケイ酸ガラス組成物中、前記α酸化物CuOが2〜8重量%であり、前記β酸化物Ta2O5が2〜8%であり、前記α酸化物Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せが1〜8重量%であり、前記ホウケイ酸ガラス組成物が任意選択により(v)0〜6重量%のZrO2および(vi)0〜8重量%のAl2O3のいずれかを含有する、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- 前記CuOの、TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せまたはその前駆物質からなる群から選択された前記β酸化物に対する比[CuO/(TiO2+Ta2O5+Nb2O5)]が約0〜約3である、請求項1に記載の厚膜抵抗体ペースト組成物。
- 有機ビヒクル中に分散された抵抗体組成物を含有する実質的に鉛を含有しない厚膜抵抗体ペースト組成物から形成された厚膜抵抗体であって、前記抵抗体組成物が、
(e)RuO2導電材料と、
(f)CuO、Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せからなる群から選択されたα酸化物と、
(g)ホウケイ酸ガラス組成物であって、(i)B2O3、(ii)SiO2、(iii)BaO、CaO、ZnO、SrO、MgOおよびそれらの組合せからなる群から選択されたδ酸化物を含み、任意選択により(iv)P2O5、(v)ZrO2および(vi)Al2O3のいずれかを含有し、前記α酸化物CuOがペースト組成物中に別個に、またはホウケイ酸ガラス組成物中にのどちらかに、もしくは両方において存在し、前記α酸化物Na2O、K2O、Li2Oおよびそれらの組合せがホウケイ酸ガラス組成物中に存在する、ホウケイ酸ガラス組成物と、
(h)TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せからなる群から選択されたβ酸化物と、を含み、
前記β酸化物TiO2、Ta2O5、Nb2O5およびそれらの組合せがペースト組成物中に別個に、またはホウケイ酸ガラス組成物中にのどちらかに、もしくは両方において存在する、厚膜抵抗体。 - +/−100ppm/℃の範囲のTCRを有する、請求項13に記載の厚膜抵抗体。
- 約100オーム〜10メガオーム・パー・スクエアのR値を有する、請求項13に記載の厚膜抵抗体。
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