JP2011507266A - ハブを有するウエハキャリア - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2007年12月12日に出願された「ハブを有するウエハキャリア」という表題の米国出願第12/001,761号の一部継続出願であり、この米国出願の開示内容は、参照することによって、ここに含まれるものとする。
本発明は、化学蒸着装置に関する。
CVD反応器のスピンドルに係合するように適合されたスピンドル接続部を有している。ハブのスピンドル接続部は、好ましくは、スピンドルに取外し可能に係合するように適合されている。ハブは、少なくとも部分的に、プレートの材料以外の一種又は複数種の材料から形成されていてもよい。例えば、ハブは、金属元素を含んでいてもよい。又はブは、スピンドル接続部を画定する、黒鉛のような比較的軟質の材料から形成されたインサートを備えていてもよい。他の例では、プレートが中心領域に開口を備え、インサートがこの開口に入れ込まれるようになっていてもよい。一例では、インサートは、開口内に圧入されていてもよい。また、好ましくは炭化ケイ素から形成されたキャップが、プレートの中心領域の上流面の一部を部分的に覆うように設けられていてもよい。他の例では、キャップは、インサートに固定されていてもよい。例えば、キャップ及びインサートは、各々、互いに係合するように作られたネジ山を備えていてもよい。運転時に、ハブは、損傷をもたらす可能性のある集中負荷をプレートに加えることなく、プレートをスピンドルに機械的に接続することになる。望ましくは、ハブは、プレートに取外し可能に取り付けられている。
Claims (42)
- (a)互いに向き合っている上流面及び下流面を有している非金属耐熱材料のプレートであって、中心領域及び周辺領域を有しており、複数のウエハを前記プレートの前記周辺領域の前記上流面に露出させて保持するように適合されたウエハ保持特徴部を有している、プレートと、
(b)前記プレートと分離されて形成されているハブであって、前記プレートの前記中心領域に取り付けられており、前記プレートをCVD反応器のスピンドルに機械的に接続するために、前記スピンドルに係合するように適合されたスピンドル接続部を有している、ハブと
を備える、CVD反応器用のウエハキャリア。 - 前記非金属耐熱材料は、炭化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アルミニウム、アルミナ、サファイア、水晶、黒鉛及びそれらの組合せからなる群から選択されるようになっていることを特徴とする請求項1に記載のウエハキャリア。
- 前記非金属耐熱材料は、本質的に炭化ケイ素を含んでいることを特徴とする請求項1に記載のウエハキャリア。
- 前記プレートは、前記非金属耐熱材料から全体が形成されている単一平板であることを特徴とする請求項1に記載のウエハキャリア。
- 前記非金属耐熱材料は、炭化ケイ素であることを特徴とする請求項4に記載のウエハキャリア。
- 前記プレートは、前記プレートの少なくとも上流面において前記非金属耐熱材料を覆っている被膜を備えていることを特徴とする請求項1に記載のウエハキャリア。
- 前記被膜は、炭化タンタル及び炭化モリブデンからなる群から選択される材料から形成されていることを特徴とする請求項6に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、少なくとも部分的に、前記プレートの前記非金属耐熱材料以外の一種又は複数種の材料から形成されていることを特徴とする請求項1に記載のウエハキャリア。
- 反応チャンバと、上流から下流に向かう方向に概して延在している軸を中心として回転可能になるように前記反応チャンバ内に取り付けられたスピンドルと、一種又は複数種の反応ガスを前記反応チャンバ内に導入するための注入ヘッドと、前記スピンドルを取り囲んでいる1つ又は複数の加熱要素とを備えている化学蒸着装置において、前記装置は、請求項1に記載のウエハキャリアをさらに備えており、前記ウエハキャリアの前記接続部は、前記プレートの前記上流面を前記注入ヘッドの方に向けて、かつ前記プレートの前記下流面を前記1つ又は複数の加熱要素の方に向けて、前記ウエハキャリアを前記スピンドルに取り付けるように適合されていることを特徴とする化学蒸着装置。
- 前記ウエハキャリアが前記スピンドルに取り付けられたとき、前記プレートの前記周辺領域の前記下流面は、前記加熱要素と直接向き合うようになっていることを特徴とする請求項9に記載の装置。
- (a)ハブ及び前記ハブに取外し可能に取り付けられたプレートを各々が備えている複数のウエハキャリアを、各ウエハキャリアの前記ハブを加工装置のスピンドルに係合させ、前記スピンドル及び前記ウエハキャリアを回転させながら、前記プレート上に保持されたウエハを処理することによって、加工するステップと、
(b)前記ウエハキャリアが加工された後、各ウエハキャリアからウエハを取り外すステップと、
(c)各ウエハキャリアが新しいウエハを用いることによって、前記ステップ(a)及び(b)を繰り返すステップと、
(d)前記ハブを前記プレートから取り外し、前記プレートを洗浄し、前記プレートを同じ又は別のハブと再組立することによって、各ウエハキャリアを更新するステップと
を含む、ウエハを加工する方法。 - 前記プレートを洗浄する前記ステップは、前記プレートをエッチングすることを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記ウエハを処理する前記ステップは、化学蒸着プロセスを行うことを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- CVD反応器用のウエハキャリアにおいて、互いに向き合っている上流面及び下流面を有している非金属耐熱材料のプレートであって、中心領域及び周辺領域を有しており、複数のウエハを前記プレートの前記周辺領域の前記上流面に露出させて保持するように適合されたウエハ保持特徴部を有している、プレートを備えており、前記プレートは、本質的に炭化ケイ素を含んでいる単一平板であることを特徴とするウエハキャリア。
- 前記ウエハキャリアは、前記プレートをCVD反応器のスピンドルに機械的に接続するため、前記スピンドルに係合するように適合されたスピンドル接続部を有していることを特徴とする請求項14に記載のウエハキャリア。
- 前記スピンドル接続部は、前記スピンドルに取外し可能に係合するように適合されていることを特徴とする請求項15に記載のウエハキャリア。
- 前記下流面は、下流方向を向いており、前記スピンドル接続部は、前記下流方向を向いている開端を備える孔を有するソケットを備えていることを特徴とする請求項1又は16のいずれか一項に記載のウエハキャリア。
- 前記上流面は、上流方向を向いており、前記孔には、前記孔の直径が前記上流方向に徐々に減少するテーパが付けられていることを特徴とする請求項17に記載のウエハキャリア。
- 前記プレートとは別に形成されたハブをさらに備えており、前記ハブは、前記プレートの前記中心領域に取り付けられており、前記ハブは、前記プレートをCVD反応器のスピンドルに機械的に接続するために、前記スピンドルに係合するように適合されたスピンドル接続部を有していることを特徴とする請求項14に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、少なくとも部分的に、炭化ケイ素以外の材料から形成されていることを特徴とする請求項19に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、少なくとも部分的に、一種又は複数種の金属から形成されていることを特徴とする請求項8又は20に記載のウエハキャリア。
- 前記一種又は複数種の金属は、モリブデン、タングステン、レニウム、それらの組合せ及びそれらの合金からなる群から選択されるようになっていることを特徴とする請求項21に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、前記スピンドル接続部を少なくとも部分的に画定しているインサートを備えており、前記インサートは、前記一種又は複数種の金属よりも軟質のインサート材料から形成されていることを特徴とする請求項21に記載のウエハキャリア。
- 前記インサート材料は、本質的に黒鉛を含んでいることを特徴とする請求項23に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、前記スピンドル接続部を少なくとも部分的に画定しているインサートから構成されており、前記プレートは、前記中心領域に開口を有しており、前記インサートが前記開口に入れ込まれるようになっていることを特徴とする請求項8又は20に記載のウエハキャリア。
- 前記インサートは、前記開口内に圧入されていることを特徴とする請求項25に記載のウエハキャリア。
- 前記インサートは、黒鉛から形成されていることを特徴とする請求項25に記載のウエハキャリア。
- 前記中心領域の前記開口は、前記上流面と前記下流面との間に延在していることを特徴とする請求項25に記載のウエハキャリア。
- 前記プレートの前記中心領域の前記上流面の一部に少なくとも部分的に重なっているキャップをさらに備えていることを特徴とする請求項28に記載のウエハキャリア。
- 前記キャップは、炭化ケイ素から形成されていることを特徴とする請求項29に記載のウエハキャリア。
- 前記キャップは、前記インサートに固定されていることを特徴とする請求項29に記載のウエハキャリア。
- 前記キャップ及び前記インサートは各々、ネジ山を備えており、前記キャップの前記ネジ山は、前記インサートの前記ネジ山に係合するように作られていることを特徴とする請求項31に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、前記プレートに取外し可能に取り付けられていることを特徴とする請求項1又は19のいずれか一項に記載のウエハキャリア。
- 前記ハブは、上流側ハブ要素であって、その少なくとも一部が前記プレートの前記中心領域の前記上流面の一部に重なっている、上流側ハブ要素と、下流側ハブ要素であって、その少なくとも一部が前記プレートの前記中心領域の前記下流面の一部に重なっている、下流側ハブ要素とを備えており、前記プレートの前記中心領域の少なくとも一部が、前記上流側ハブ要素と前記下流側ハブ要素との間に締め付けられていることを特徴とする請求項1又は19のいずれか一項に記載のウエハキャリア。
- 前記プレートは、前記中心領域において前記上流面と前記下流面との間に延在している中心孔を有しており、前記ハブ要素の少なくとも1つは、前記中心孔内に突出していることを特徴とする請求項34に記載のウエハキャリア。
- 前記プレートは、実質的に円形であることを特徴とする請求項1又は14に記載のウエハキャリア。
- (a)互いに向き合っている上流面及び下流面を有しているプレートであって、中心領域及び周辺領域を有しており、複数のウエハを前記プレートの前記周辺領域の前記上流面に露出させて保持するように適合されたウエハ保持特徴部を有している、プレートと、
(b)前記プレートの前記中心領域の前記上流面から突出しているガス流促進要素と
を備える、CVD反応器用のウエハキャリア。 - 前記プレートは、中心軸を有しており、前記ガス流促進要素は、前記中心軸を中心とする回転面の形態にある周辺表面を有していることを特徴とする請求項37に記載のウエハキャリア。
- 前記ガス流促進要素は、略凹状輪郭を有する周辺表面を有していることを特徴とする請求項37に記載のウエハキャリア。
- 前記ガス流促進要素は、略凸状輪郭を有する周辺表面を有していることを特徴とする請求項37に記載のウエハキャリア。
- 前記ガス流促進要素は、1cm未満の高さを有していることを特徴とする請求項37に記載のウエハキャリア。
- 反応チャンバと、上流から下流に向かう方向に概して延在している軸を中心として回転可能となるように、前記反応チャンバ内に取り付けられたスピンドルと、一種又は複数種の反応ガスを前記反応チャンバ内に導入するための注入ヘッドとを備えている化学蒸着装置において、請求項37に記載のウエハキャリアをさらに備えており、前記ウエハキャリアは、前記プレートの前記上流面を前記注入ヘッドの方に向けて、かつ前記ガス流促進要素を前記軸に沿って位置させて、前記スピンドルに取り付けられるように適合されており、前記装置が、前記一種又は複数種の反応ガスを前記ウエハキャリア及び前記ガス流促進要素に向けて下流方向に導くように、構成されていることを特徴とする化学蒸着装置。
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