JP2011256086A - 半導体単結晶棒の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】FZ法による半導体単結晶棒の製造方法であって、少なくとも、前記半導体単結晶棒等のパラメータの値を検出する段階と、該検出値から誘導加熱コイルへの電力や原料結晶棒の移動速度の制御値を計算する段階と、上記電力や移動速度を制御する段階を、周期的に自動実施してフィードバック制御して半導体単結晶棒を成長させるときに、成長中に、検出段階、制御値計算段階および制御段階の少なくとも1つの段階の周期を変更し、フィードバック制御しつつ、半導体単結晶棒を製造する半導体単結晶棒の製造方法。
【選択図】図2
Description
しかしながら、このような従来法では結晶成長が安定せず、有転位化してしまうことがあった。
また、溶融帯域のゾーン長や半導体単結晶棒の結晶径が回転方向により変化したり、反転時の反動で大きく変化してしまうが、回転方向の変化に応じた上記周期の変更により、それらのパラメータをより安定して制御することが可能になる。
従来、半導体単結晶棒の結晶径等をフィードバック制御しつつ、FZ法で半導体単結晶棒を製造する場合、結晶成長が安定せずに有転位化してしまうことがあった。
本発明者らが鋭意研究を重ねたところ、そのフィードバック制御は、結晶の成長状態に変化があるにも関わらず、それぞれの制御機器の処理速度に応じて任意の一定の周期で演算・制御をさせていたことに問題があることを見出した。
しかしながら、コーン工程と直胴工程では適する周期の長さが異なるため、一方の工程に適していても他方の工程にとっては不適切であり、結晶成長がかえって不安定になり、有転位化してしまう。
結晶径等のパラメータをフィードバック制御しつつ結晶を成長させている間に、フィードバック制御の各段階(パラメータの値を検出する段階、該検出値から制御機器における制御値を計算する段階、該計算された制御値に基づいて制御機器を制御する段階)のうち、少なくとも1つの段階の周期を変更し、フィードバック制御の条件(例えば、制御値やフィードバック制御全体における周期など)を変更する。それによって結晶成長状態に応じたフィードバック制御を行うことができ、安定した結晶成長が可能になり、有転位化率を大幅に低減することができる。
本発明者らは、これらのことを見出して本発明を完成させた。
晶出側の半導体単結晶棒6の結晶径Ds、溶融帯域4におけるゾーン長Lやネック径Dn等のパラメータに基づいてフィードバック制御が可能な構成となっている。この他、さらにこの例では晶出側の融液肩部の直径Dmのフィードバック制御を行う構成となっている。
なお、晶出側の融液肩部の直径は、融液部と単結晶の界面から一定距離離れた位置における融液直径とすることができる。また、溶融帯域4のゾーン長は、誘導加熱コイル5の下面と晶出界面との距離とすることができる。
画像処理装置8は、CCDカメラ7により撮影された映像信号の処理を行い、各パラメータの値を検出するためのものである。
上記高周波発振機10から誘導加熱コイル5へ高周波電力が供給されて原料結晶棒2の一部が加熱溶融され、原料結晶棒2と半導体単結晶棒6との間に溶融帯域4が形成される。
ここで、半導体単結晶棒6は、不図示の下軸によって鉛直に配置されており、昇降用可変速モーター12により下軸を移動させることで、下方へVsで移動可能である。また図示されない回転用可変速モーターにより回転可能である。
一方、原料結晶棒2は、不図示の上軸によって鉛直に配置されており、昇降用可変速モーター11により上軸を移動させることで、下方へVpで移動可能である。また図示されない回転用可変速モーターにより、回転可能である。
そして、制御コンピュータ9は、内部のプログラムにより、以下に詳述する本発明でのフィードバック制御における各段階の周期のコントロールも兼ねており、それぞれの段階を同時平行的に処理可能になっている。
さらには、制御コンピュータ9によって、晶出側の半導体単結晶棒6の長さや結晶径が監視・算出され、それらがあらかじめ設定された値になると、コーン工程や直胴工程といった成長工程の切り替え、あるいは晶出側の半導体単結晶棒6の成長速度や結晶回転などの制御も合わせて行うことが可能である。
ここで、まず、FZ法による半導体単結晶の製造方法の全体の工程について説明する。
上軸に取り付けた原料結晶棒2の先端を誘導加熱コイル5で溶融した後、下軸に取り付けた種結晶に融着させる。そして融着の際に結晶に生じた転位を抜くために絞りを行う(種付け・絞り工程)。
そして、上軸および下軸を回転させながら下降させ、溶融帯域4を原料結晶棒2に対して相対的に移動させながら半導体単結晶棒6を成長させる。この時、絞り後、所望の直径まで半導体単結晶棒6の直径を徐々に拡大させてコーン部を形成する(コーン工程)。
所望直径まで達した後はその所望直径で一定に保ったまま結晶成長を行い、直胴部を形成する(直胴工程)。
そして所望の長さの直胴部を得た後は、原料の供給を止め、半導体単結晶棒6の直径を縮小させて、原料結晶棒2から切り離す(切り離し工程)。
以下では、このフィードバック制御に関して詳しく述べる。
まず、制御すべき半導体単結晶棒6等のパラメータを検出する。このパラメータとしては、少なくとも半導体単結晶棒6の結晶径Ds、溶融帯域4のネック径Dn、溶融帯域4のゾーン長Lが挙げられる。所望の直径や結晶品質を有する半導体単結晶棒を得るにあたって、これらのパラメータを制御することは有効である。
なお、必要に応じて融液肩部の直径Dmなど他のパラメータも検出し、同様にフィードバック制御に用いることができる。フィードバック制御するパラメータを追加するにあたっては、その種類、数等は特に限定されず、所望とする結晶品質やコスト面等に応じて適宜決定することができる。
次に、上記のようにして得られたパラメータの検出値から、製造装置1における制御機器を適切に制御して所望の半導体単結晶棒が得られるように、制御機器へ送る適切な制御値を計算する。
図1の例では、この計算は制御コンピュータ9によって行われる。より具体的には、パラメータの検出値と、パターン設定器13中に格納され、所望の半導体単結晶棒6が得られるように予め設定されたパラメータの値とを比較器14によって比較演算する。そして、調節器15において、上記得られた比較演算結果を基にして、各制御機器の制御値を計算する。その後、この計算によって得られた制御値を各制御機器へ送る。
なお、制御機器の制御値の計算方法は上記例に限定されず、適宜決定することができる。
この制御段階では、制御コンピュータ9から送られてきた制御値に基づいて各制御機器の制御を実際に行う。制御機器としては、高周波発振機10を介しての誘導加熱コイル5や、可変速モーター11、12が挙げられる。当然、これら以外にも、所望の半導体単結晶棒6を得ることができるように必要な制御機器を使用することができる。例えば、原料結晶棒2や半導体単結晶棒6を回転させるための回転用可変速モーターが挙げられる。
また、移動速度調整・駆動回路17、18に送られた制御値に基づき、可変速モーター11、12によって、原料結晶棒2や半導体単結晶棒6が所望の速度で移動するように制御する。
従来法では、半導体単結晶棒の成長中、上記のようなフィードバック制御を一定の周期で繰り返し行っていた。しかも、上記検出段階、制御値計算段階、制御段階の各段階は、図6に示すように同じ周期で行っていた。すなわち、従来法では、成長中のどの時点においても、同様の手順でフィードバック制御を行っていたことになる。したがって、例えば工程毎の結晶の成長状態の変化等を考慮できていない制御であった。
なお、検出段階の周期をTd、制御値計算段階の周期をTc、制御段階の周期をToで示す。
(フィードバック制御全体における周期について)
フィードバック制御全体における所定周期を変更しなくとも(制御段階の周期を変えなくとも)、検出段階や制御値計算段階の周期を変更することでフィードバック制御の実質的な内容を変えることができる。具体的には、フィードバック制御に使用するサンプルデータを変えることにより、検出段階や制御値計算段階の周期を変更することができ、これにより、制御値を変えることができる。また、制御値計算段階のみを変えるのであれば、プログラムなどソフト面での変更に留めることができ、コスト面で有効である。
図2に示す例では、検出段階、制御値計算段階、制御段階のいずれの周期(Td、Tc、To)も2倍に変更する例である。実際に制御機器を制御する段階を2倍にしているため、フィードバック制御全体における所定周期は2倍になる。制御段階の周期を変更することにより、フィードバック制御の所定周期の変更を行うことができる。制御機器等の可能な処理速度の範囲で、各段階の周期を長くも短くも変更することができる。
一方、パラメータの検出・制御値の計算(比較器14における検出値と設定パターンとの比較を含む)を、制御段階と同様に周期を2倍にすることなく、そのままの周期で行っておけば、結晶の状態変化については短周期で監視することができ、イレギュラーな変動を漏れなく検出することができ、対応が取りやすい。すなわち、計算まではそれまで通りの頻度で行われ、実際の制御は半分の頻度で行われることになる。
本発明においては、結晶の成長中に、その成長状態等に応じて適宜各段階の周期を変更することができる。例えば、種付け・絞り工程、コーン工程、直胴工程、切り離し工程等の工程が変わるときに合わせて各段階の周期を変更することができる。
このような場合、コーン工程から直胴工程に移るとき、各段階を実施する周期を長くするように変更することで、変化の少ない直胴工程において、むやみに、パラメータの検出を行ったり、制御機器へ出力したりするのを防ぐことができ、効率的である。
例えば、半導体単結晶棒6の回転数や回転方向を変化させるときが挙げられる。
半導体単結晶棒6の回転数の変化に応じて周期を変更させることにより、晶癖線の影響によるパラメータの変動を排除することができる。
変更後の周期は特には限定されず、結晶成長状態等に応じてその都度決定することが可能である。
一例を挙げると、上述したように、コーン工程から直胴工程に移るときに周期を変更するのであれば、より長周期となるように変更するのが好ましい。コーン工程ではパラメータの変化が激しいものの、直胴工程ではその変化は少ないからである。
そこで、制御すべきパラメータに応じて変更後の周期を決定することもできる。半導体単結晶棒6の結晶径の制御は主に誘導加熱コイル5に供給される電力によるが、その電力の変化は、溶融帯域4のメルト容量の影響を受けるため、その変化が結晶径に反映されるまで、時間遅れがある。特に大口径結晶成長ではその影響が顕著である。
一方、溶融帯域4のネック径やゾーン長は原料結晶棒の移動速度により制御可能であるが、その移動速度の変化が敏感にネック径やゾーン長の変化として現れる。
こういった、制御機器への制御値の変化に対する、パラメータの時定数を加味し、それぞれの制御すべきパラメータにより各段階の周期を変えることも有効である。
(実施例1)
図1のFZ法による半導体結晶棒の製造装置1を用いて、本発明の製造方法を実施し、直径205mmのシリコン単結晶棒を製造した。すなわち、このシリコン単結晶棒の成長は、上軸に固定した原料結晶棒を溶融して下軸の種結晶に融着させ、さらにこの種付けの際に結晶に生じた転位を抜くための絞りを行う工程(種付け・絞り工程)の後、シリコン単結晶棒を205mmの直径まで拡げながら成長させる工程(コーン工程)、シリコン単結晶棒を205mmの一定の直径に制御しつつ成長させていく工程(直胴工程)を経ながら結晶成長させた。この際、検出段階、制御値計算段階、制御段階からなるフィードバック制御を行いつつ、シリコン単結晶棒を製造した。
その条件は、コーン工程においては、検出段階の周期Td、制御値計算段階の周期Tc、制御段階の周期Toを2秒に設定し、直胴工程においては、検出段階の周期Td、制御値計算段階の周期Tcはコーン工程と同様に2秒、制御段階の周期Toのみを2分とした。すなわち、コーン工程から直胴工程にかわるとき、図3に示すように、制御段階の周期だけを長周期に変更した。
実施例1の製造方法に対して、コーン工程、直胴工程ともに検出段階の周期Td、制御値計算段階の周期Tc、制御段階の周期Toを2秒に設定し、結晶成長を行った。すなわち、本発明の製造方法は実施せず、従来法のように、各段階の周期をいずれの工程でも同じ周期とし、周期の変更は行わずにフィードバック制御してシリコン単結晶棒を製造した。
図1のFZ法による半導体結晶棒の製造装置1を用いて、本発明の製造方法を実施し、直径205mmのシリコン単結晶棒を製造した。シリコン単結晶棒の製造においては、晶出側のシリコン単結晶棒を交互に回転させて成長を行った。
ただし、晶出側のシリコン単結晶棒の回転方向を制御コンピュータにて検出しつつ、右回転時のみ制御パラメータの検出を行うよう検出段階の周期を変えた。
まず、直胴工程中の結晶棒の有転位化率は45%であった。
また、図4(A)に実施例2におけるゾーン長Lと原料結晶棒の移動速度Vpの関係を示す。なお、実際にゾーン長Lを検出したのは、図4(A)を拡大した図4(B)に示すように、右回転時の場合のみである。結晶交互回転によりパラメータである溶融帯域のゾーン長が大きく変動するが(図4(A)参照)、右回転時のみ検出することで(図4(B)参照)、直胴工程中の原料結晶棒の下降速度Vpの変動は抑えられ、変動率は0.7%と非常に安定していた。このように原料結晶棒の移動速度が安定して制御されることにより、より適切にパラメータを安定して制御することができる。
実施例2の製造方法に対して、コーン工程、直胴工程ともに、検出段階の周期Td、制御値計算段階の周期Tc、制御段階の周期Toを2秒に設定し、かつ、結晶交互回転時においても、回転方向によらず、一定の検出段階の周期とした。
また、図5に比較例2におけるゾーン長と原料結晶棒の移動速度の関係を示す。原料結晶棒の下降速度Vpの変動率は2.2%であり、実施例2と比較して3倍ものバラツキがあった。このように変動が激しいと、パラメータを安定して制御できず、安定した結晶成長を行うのは難しい。
4…溶融帯域、 5…誘導加熱コイル、 6…半導体単結晶棒、
7…CCDカメラ、 8…画像処理装置、 9…制御コンピュータ、
10…高周波発振機、 11、12…可変速モーター、
13…パターン設定器、 14…比較器、 15…調節器、
16…発振機制御回路、 17、18…移動速度調整・駆動回路。
Claims (6)
- 原料結晶棒の一部分を誘導加熱コイルで溶融して溶融帯域を形成し、前記誘導加熱コイルに対し上側の原料結晶棒および下側の晶出側半導体単結晶棒を軸方向へ移動させることにより溶融帯域を軸方向に移動させて、半導体単結晶棒を成長させて製造するFZ法による半導体単結晶棒の製造方法であって、
少なくとも、前記半導体単結晶棒の結晶径、前記溶融帯域のネック径および前記溶融帯域のゾーン長の少なくとも1つのパラメータの値を検出する段階と、
該検出値から、前記誘導加熱コイルに供給する電力および/または前記原料結晶棒の移動速度の制御値を計算する段階と、
該計算された制御値に基づいて、前記誘導加熱コイルに供給する電力および/または前記原料結晶棒の移動速度を制御する段階を、周期的に自動実施することにより、前記パラメータを所定周期でフィードバック制御して半導体単結晶棒を成長させるときに、
該半導体単結晶棒の成長中に、前記検出段階、前記制御値計算段階および前記制御段階の少なくとも1つの段階を実施する周期を変更し、前記フィードバック制御しつつ、半導体単結晶棒を製造することを特徴とする半導体単結晶棒の製造方法。 - 前記実施する周期を変更する少なくとも1つの段階を、少なくとも前記制御段階とすることによって、前記フィードバック制御の所定周期も変更することを特徴とする請求項1に記載の半導体単結晶棒の製造方法。
- 前記少なくとも1つの段階を実施する周期の変更を、
前記原料結晶棒を溶融して種結晶に融着させて、該融着の際に結晶に生じた転位を抜くための絞りを行う種付け・絞り工程と、半導体単結晶棒を所望の直径まで拡げながら成長させるコーン工程と、半導体単結晶棒を所望の一定の直径に制御しつつ成長させていく直胴工程と、半導体単結晶棒の直径を縮小させて、原料結晶棒から切り離す切り離し工程の各工程に応じて行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体単結晶棒の製造方法。 - 前記直胴工程で前記少なくとも1つの段階を実施する周期を変更するとき、該変更後の周期を、前記コーン工程における周期よりも長周期となるように変更することを特徴とする請求項3に記載の半導体単結晶棒の製造方法。
- 前記少なくとも1つの段階を実施する周期を変更するとき、該変更後の周期を、前記制御するパラメータに応じて決定することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体単結晶の製造方法。
- 前記半導体単結晶棒を回転させながら成長させるとき、前記少なくとも1つの段階を実施する周期の変更を、該半導体単結晶棒の回転数または回転方向の変化に応じて行うことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の半導体単結晶棒の製造方法。
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