JP2011243577A5 - - Google Patents
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- 薄膜電池(10)の製造方法であって、
前記薄膜電池(10)の積層体を形成するために、基板(14)の基板表面に複数の層(16,18,20,36,38)を連続的に設け、
設けた前記層のうち少なくとも1つの層(18,20,38)の複数の異なる領域(24,26,28;30,32,34;42,44,46)を横方向に相互に分離する製造方法において、
前記複数の異なる領域をレーザビームによって分離することを特徴とする、製造方法。 - 前記複数の層のうち1つの層(20,38)はカソード層であり、該複数の層のうち1つの層(38,20)はアノード層である、請求項1記載の製造方法。
- ・第1の層(18)を前記基板表面上に設けるか、または、該基板表面上に設けられた絶縁層(16)上に設け、第2の層(20)を該第1の層(18)に設けるステップと、
・前記第2の層(20)の複数の領域(24,26,28)を横方向に相互に分離するか、または、前記第1の層(18)の複数の領域(30,32,34)を横方向に相互に分離しかつ該第2の層(20)の複数の領域(24,26,28)を横方向に相互に分離するステップと、
・前記第2の層(20)に第3の層(36)を設け、該第3の層(36)に第4の層(38)を設けるステップと、
・前記第4の層(38)の複数の領域(42,44,46)を横方向に相互に分離するか、または、前記第3の層(36)の複数の領域を横方向に分離しかつ該第4の層(38)の複数の領域を横方向に相互に分離するステップ
とを有する、請求項1または2記載の製造方法。 - 前記カソード層および/または前記アノード層は、前記積層体の埋め込み層(18,20,36)として設け、該カソード層および/または該アノード層と外部とのコンタクトのためにスルーコンタクト(48)を作製する、請求項2または3記載の製造方法。
- さらに、前記複数の層(16,18,20,36,38)を完全または部分的にカバーするカバー層を設ける、請求項1から4までのいずれか1項記載の製造方法。
- 前記複数の層のうち少なくとも1つの層の複数の領域(24,26,28;30,32,34;42,44,46)の分離は、該少なくとも1つの層(18,20,38)の分離すべき領域(24,24,28;30,32,34;42,44,46)を相互に電気的に分離する絶縁分離である、請求項1から5までのいずれか1項記載の製造方法。
- 前記複数の層(16,18,20,36,38)のうち少なくとも1つの層を気相成膜設備で設け、前記複数の層のうち少なくとも1つの層(18,20,38)の複数の領域(18,20,38)の分離も該気相成膜設備で行う、請求項1から6までのいずれか1項記載の製造方法。
- 3次元パターニングされた基板表面を設け、該基板表面に前記複数の層(16,18,20,36,38)を設ける、請求項1から7までのいずれか1項記載の製造方法。
- 設けられた層(16,18,20,36,38)のうち少なくとも1つの層をレーザビームによって、少なくとも局所的に除去する、請求項1から8までのいずれか1項記載の製造方法。
- 請求項1から9までのいずれか1項記載の製造方法により製造された薄膜電池(10)。
- 基板(12)と、前記基板(12)の基板表面(14)上に連続的に設けられた複数の層(16,18,20,36,38)を有する薄膜電池(10)の積層体とを有する薄膜電池(10)において、
設けられた層(18,20,38)のうち少なくとも1つの層の複数の異なる領域(24,24,28;30,32,34;42,44,46)は、レーザビームによって該少なくとも1つの層(18,20,38)に切り込み(22,40)を入れることによって形成された少なくとも1つの分離パターン部(22,40)によって相互に横方向に分離されている
ことを特徴とする、薄膜電池(10)。 - 前記複数の層のうち1つの層(20,38)はカソード層であり、該複数の層のうち1つの層(38,20)はアノード層である、請求項11記載の薄膜電池。
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