JP2011243577A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 薄膜電池（１０）の製造方法であって、
   前記薄膜電池（１０）の積層体を形成するために、基板（１４）の基板表面に複数の層（１６，１８，２０，３６，３８）を連続的に設け、
   設けた前記層のうち少なくとも１つの層（１８，２０，３８）の複数の異なる領域（２４，２６，２８；３０，３２，３４；４２，４４，４６）を横方向に相互に分離する製造方法において、
   前記複数の異なる領域をレーザビームによって分離することを特徴とする、製造方法。
2. 前記複数の層のうち１つの層（２０，３８）はカソード層であり、該複数の層のうち１つの層（３８，２０）はアノード層である、請求項１記載の製造方法。
3. ・第１の層（１８）を前記基板表面上に設けるか、または、該基板表面上に設けられた絶縁層（１６）上に設け、第２の層（２０）を該第１の層（１８）に設けるステップと、
   ・前記第２の層（２０）の複数の領域（２４，２６，２８）を横方向に相互に分離するか、または、前記第１の層（１８）の複数の領域（３０，３２，３４）を横方向に相互に分離しかつ該第２の層（２０）の複数の領域（２４，２６，２８）を横方向に相互に分離するステップと、
   ・前記第２の層（２０）に第３の層（３６）を設け、該第３の層（３６）に第４の層（３８）を設けるステップと、
   ・前記第４の層（３８）の複数の領域（４２，４４，４６）を横方向に相互に分離するか、または、前記第３の層（３６）の複数の領域を横方向に分離しかつ該第４の層（３８）の複数の領域を横方向に相互に分離するステップ
   とを有する、請求項１または２記載の製造方法。
4. 前記カソード層および／または前記アノード層は、前記積層体の埋め込み層（１８，２０，３６）として設け、該カソード層および／または該アノード層と外部とのコンタクトのためにスルーコンタクト（４８）を作製する、請求項２または３記載の製造方法。
5. さらに、前記複数の層（１６，１８，２０，３６，３８）を完全または部分的にカバーするカバー層を設ける、請求項１から４までのいずれか１項記載の製造方法。
6. 前記複数の層のうち少なくとも１つの層の複数の領域（２４，２６，２８；３０，３２，３４；４２，４４，４６）の分離は、該少なくとも１つの層（１８，２０，３８）の分離すべき領域（２４，２４，２８；３０，３２，３４；４２，４４，４６）を相互に電気的に分離する絶縁分離である、請求項１から５までのいずれか１項記載の製造方法。
7. 前記複数の層（１６，１８，２０，３６，３８）のうち少なくとも１つの層を気相成膜設備で設け、前記複数の層のうち少なくとも１つの層（１８，２０，３８）の複数の領域（１８，２０，３８）の分離も該気相成膜設備で行う、請求項１から６までのいずれか１項記載の製造方法。
8. ３次元パターニングされた基板表面を設け、該基板表面に前記複数の層（１６，１８，２０，３６，３８）を設ける、請求項１から７までのいずれか１項記載の製造方法。
9. 設けられた層（１６，１８，２０，３６，３８）のうち少なくとも１つの層をレーザビームによって、少なくとも局所的に除去する、請求項１から８までのいずれか１項記載の製造方法。
10. 請求項１から９までのいずれか１項記載の製造方法により製造された薄膜電池（１０）。
11. 基板（１２）と、前記基板（１２）の基板表面（１４）上に連続的に設けられた複数の層（１６，１８，２０，３６，３８）を有する薄膜電池（１０）の積層体とを有する薄膜電池（１０）において、
    設けられた層（１８，２０，３８）のうち少なくとも１つの層の複数の異なる領域（２４，２４，２８；３０，３２，３４；４２，４４，４６）は、レーザビームによって該少なくとも１つの層（１８，２０，３８）に切り込み（２２，４０）を入れることによって形成された少なくとも１つの分離パターン部（２２，４０）によって相互に横方向に分離されている
    ことを特徴とする、薄膜電池（１０）。
12. 前記複数の層のうち１つの層（２０，３８）はカソード層であり、該複数の層のうち１つの層（３８，２０）はアノード層である、請求項１１記載の薄膜電池。