JP2011216473A5 - 有機電界発光素子の製造方法、有機電界発光素子、有機el照明、及び有機el表示装置 - Google Patents
有機電界発光素子の製造方法、有機電界発光素子、有機el照明、及び有機el表示装置 Download PDFInfo
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本発明の第一の要旨は、陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、該成膜工程を、硫黄酸化物濃度が2.2μg/m3以下、且つ酸素濃度が18〜22体積%の環境下で行うことを特徴とする有機電界発光素子の製造方法、に存する。
本発明の第二の要旨は、陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、該成膜工程を、窒素酸化物濃度が3.1μg/m3以下、且つ酸素濃度が18〜22体積%の環境下で行うことを特徴とする有機電界発光素子の製造方法、に存する。
本発明の第三の要旨は、陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、該成膜工程が、酸素濃度が18〜22体積%の環境下、且つ下記(1)〜(3)の少なくとも2つを満たす環境下で行うことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法、に存する。
(1)二酸化炭素濃度が0.7g/m3以下
(2)硫黄酸化物濃度が2.2μg/m3以下
(3)窒素酸化物濃度が3.1μg/m3以下
(1)二酸化炭素濃度が0.7g/m3以下
(2)硫黄酸化物濃度が2.2μg/m3以下
(3)窒素酸化物濃度が3.1μg/m3以下
本発明の第四の要旨は、陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、該成膜工程が、酸素濃度が18〜22体積%で、絶対湿度が15g/kg(DA)以下の環境下、且つ上記(2)及び(3)の少なくとも1つを満たす環境下で行うことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法、に存する。
Claims (10)
- 陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、
該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、
該成膜工程を、硫黄酸化物濃度が2.2μg/m3以下、且つ酸素濃度が18〜22体積%の環境下で行うことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。 - 陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、
該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、
該成膜工程を、窒素酸化物濃度が3.1μg/m3以下、且つ酸素濃度が18〜22体積%の環境下で行うことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。 - 陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、
該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、
該成膜工程が、酸素濃度が18〜22体積%の環境下、且つ下記(1)〜(3)の少なくとも2つを満たす環境下で行うことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
(1)二酸化炭素濃度が0.7g/m3以下
(2)硫黄酸化物濃度が2.2μg/m3以下
(3)窒素酸化物濃度が3.1μg/m3以下 - 陽極と陰極との間に有機層を有する有機電界発光素子の製造方法において、
該有機層に含まれる少なくとも一層を形成する工程が、有機電界発光素子材料及び溶剤を含有する有機電界発光素子用組成物を用いて、湿式成膜法で膜形成する成膜工程と、成膜された膜を乾燥する乾燥工程とを含む方法であって、
該成膜工程が、酸素濃度が18〜22体積%で、絶対湿度が15g/kg(DA)以下の環境下、且つ下記(2)及び(3)の少なくとも1つを満たす環境下で行うことを特徴とする、有機電界発光素子の製造方法。
(2)硫黄酸化物濃度が2.2μg/m3以下
(3)窒素酸化物濃度が3.1μg/m3以下 - 前記成膜工程及び乾燥工程を経て得られる層が、発光層であることを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記成膜工程及び乾燥工程を経て得られる層が、正孔輸送層であることを特徴とする、請求項1ないし5のいずれか一項に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記有機電界発光素子材料が、有機金属錯体、芳香族アミン系化合物、及びアントラセン誘導体よりなる群から選ばれる少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 請求項1ないし7のいずれか一項に記載の有機電界発光素子の製造方法で製造されたことを特徴とする、有機電界発光素子。
- 請求項8に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする、有機EL表示装置。
- 請求項8に記載の有機電界発光素子を有することを特徴とする、有機EL照明。
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