JP2011211141A5 - 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに超音波デバイス - Google Patents

液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに超音波デバイス Download PDF

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本発明は、ノズル開口に連通する圧力発生室に圧力変化を生じさせる第１電極、圧電体層及び第２電極からなる圧電素子を具備する液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに超音波デバイスに関する。
本発明はこのような事情に鑑み、環境負荷が小さく、強誘電体からなる圧電素子を有する液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに超音波デバイスを提供することを目的とする。
上記課題を解決する本発明の態様は、粉末Ｘ線回折パターンにおいて、強誘電性を示す相に帰属される回折ピークと、反強誘電性を示す相に帰属される回折ピークが同時に観測されることを特徴とする圧電材料にある。
かかる態様では、反強誘電相と強誘電相を同時に示すため、歪み量の大きな圧電素子とすることができる。
ここで、粉末Ｘ線回折パターンにおいて４５＜２θ＜５０°にＡＢＯ 3 型構造由来の回折ピークが観測され、前記ＡＢＯ 3 型構造由来の回折ピークにおける強誘電性を示す相に帰属される回折ピークの面積強度Ａ F と反強誘電性を示す相に帰属される回折ピークの面積強度Ａ AF との比Ａ AF ／Ａ F が、０．１以上であることが好ましい。これによれば、より確実に歪み量の大きな圧電素子とすることができる。
また、Ｂｉ、Ｌａ、Ｆｅ及びＭｎを含むペロブスカイト型複合酸化物の圧電材料であることが好ましい。これによれば、鉛の含有量を抑えられるため環境への負荷を低減でき、且つ歪み量の制御が容易な圧電材料を提供することができる。
本発明の他の態様は、上述した態様の圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層に設けられた複数の電極と、を具備することを特徴とする圧電素子にある。
かかる態様では、反強誘電相と強誘電相を同時に示すため、歪み量の大きな圧電素子とすることができる。
また、本発明の他の態様は、上述した態様の圧電素子を備えることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。かかる態様では、歪み量の大きな圧電素子を具備する液体噴射ヘッドを実現できる。
また、本発明の他の態様は、上述した態様の圧電素子を備えることを特徴とする液体噴射装置にある。かかる態様では、歪み量の大きな圧電素子を具備する液体噴射装置を実現できる。
また、本発明の他の態様は、上述した態様の圧電素子を備えることを特徴とする超音波デバイスにある。かかる態様では、歪み量の大きな圧電素子を具備する超音波デバイスを実現できる。
さらに、本発明は、以下に示す態様を包含する。
かかる態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室と、第１電極と、前記第１電極上に形成された圧電体層と、前記圧電体層上に形成された第２電極と、を備えた圧電素子と、を具備し、前記圧電体層は、Ｂｉ、Ｌａ、Ｆｅ及びＭｎを含むペロブスカイト型複合酸化物からなり、強誘電体であることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、Ｂｉ、Ｌａ、Ｆｅ及びＭｎを含むペロブスカイト型複合酸化物であって、強誘電体である圧電材料を用いることにより、鉛の含有量を抑えられるため環境への負荷を低減でき、歪み量の制御が容易となり、例えば、吐出する液滴サイズの制御が容易な圧電素子を有する液体噴射ヘッドとすることができる。

Claims (7)

  1. 粉末Ｘ線回折パターンにおいて、強誘電性を示す相に帰属される回折ピークと、反強誘電性を示す相に帰属される回折ピークが同時に観測されることを特徴とする圧電材料。
  2. 粉末Ｘ線回折パターンにおいて４５＜２θ＜５０°にＡＢＯ 3 型構造由来の回折ピークが観測され、前記ＡＢＯ 3 型構造由来の回折ピークにおける強誘電性を示す相に帰属される回折ピークの面積強度Ａ F と反強誘電性を示す相に帰属される回折ピークの面積強度Ａ AF との比Ａ AF ／Ａ F が、０．１以上であることを特徴とする請求項１に記載の圧電材料。
  3. Ｂｉ、Ｌａ、Ｆｅ及びＭｎを含むペロブスカイト型複合酸化物の圧電材料であることを特徴とする請求項１又は２に記載の圧電材料。
  4. 請求項１〜３の何れか一項に記載の圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層に設けられた複数の電極と、を具備することを特徴とする圧電素子。
  5. 請求項４の圧電素子を備えることを特徴とする液体噴射ヘッド。
  6. 請求項４の圧電素子を備えることを特徴とする液体噴射装置。
  7. 請求項４の圧電素子を備えることを特徴とする超音波デバイス。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5556182B2 (ja) * 2010-01-05 2014-07-23 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5660288B2 (ja) * 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに液体噴射ヘッドの製造方法
JP5660274B2 (ja) * 2010-01-05 2015-01-28 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法、圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子
JP5641185B2 (ja) * 2010-01-05 2014-12-17 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP5672433B2 (ja) 2010-03-12 2015-02-18 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、圧電素子、焦電素子及びｉｒセンサー
JP2011211143A (ja) * 2010-03-12 2011-10-20 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子
JP6264525B2 (ja) 2013-03-25 2018-01-24 セイコーエプソン株式会社 赤外線センサー、熱検知素子及びそれを用いた熱検知方法
JP2014185982A (ja) 2013-03-25 2014-10-02 Seiko Epson Corp 赤外線センサー及び熱検知素子
US9503656B2 (en) 2013-12-11 2016-11-22 Seiko Epson Corporation Solid state imaging device and image acquisition method using solid state imaging elements having a PN junction
JP2015198155A (ja) 2014-04-01 2015-11-09 セイコーエプソン株式会社 熱電変換素子、光検出装置、電子機器
US11121139B2 (en) * 2017-11-16 2021-09-14 International Business Machines Corporation Hafnium oxide and zirconium oxide based ferroelectric devices with textured iridium bottom electrodes
JP2022152144A (ja) * 2021-03-29 2022-10-12 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04266036A (ja) 1991-02-21 1992-09-22 Toppan Printing Co Ltd プラスチックパッケージされてなる半導体装置
JPH0817245A (ja) 1994-06-30 1996-01-19 Tdk Corp 強誘電体薄膜およびその製造方法
JPH1052071A (ja) 1996-07-31 1998-02-20 Ricoh Co Ltd 反強誘電−強誘電相転移膜型アクチュエータ及びインクジェットプリンタヘッド
JP2000127392A (ja) 1998-10-29 2000-05-09 Ricoh Co Ltd 鉛系誘電体セラミックス及び該セラミックスを用いたアクチュエータ
JP4051654B2 (ja) 2000-02-08 2008-02-27 セイコーエプソン株式会社 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッド及びこれらの製造方法並びにインクジェットプリンタ
JP2001335362A (ja) 2000-05-26 2001-12-04 Tdk Corp 圧電セラミックスおよびこれを用いた圧電デバイス
JP2003267796A (ja) * 2002-03-15 2003-09-25 Akio Ikesue ペロブスカイト構造を有する酸化物及びその製造方法
JP4842520B2 (ja) * 2003-05-30 2011-12-21 日本碍子株式会社 セル駆動型圧電／電歪アクチュエータ及びその製造方法
JP4165347B2 (ja) 2003-06-25 2008-10-15 セイコーエプソン株式会社 圧電素子の製造方法
JP2006176366A (ja) 2004-12-22 2006-07-06 Fujitsu Ltd 強誘電体材料、その製造方法及び強誘電体メモリ
JP5121186B2 (ja) * 2005-08-23 2013-01-16 キヤノン株式会社 圧電体、圧電体素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置
JP4237208B2 (ja) 2005-09-26 2009-03-11 富士フイルム株式会社 圧電素子及びその駆動方法、圧電装置、液体吐出装置
JP2007194429A (ja) 2006-01-19 2007-08-02 Fujitsu Ltd 強磁性・強誘電性材料及び半導体装置
JP5035504B2 (ja) 2006-04-12 2012-09-26 セイコーエプソン株式会社 インクジェット式記録ヘッドおよびインクジェットプリンタ
JP2008192868A (ja) 2007-02-06 2008-08-21 Fujifilm Corp 圧電体膜及びそれを用いた圧電素子、液体吐出装置
JP2008265289A (ja) 2007-03-26 2008-11-06 Canon Inc 液体吐出ヘッド及び液体吐出装置
EP1986245B1 (en) 2007-04-26 2015-08-26 FUJIFILM Corporation Piezoelectric body, piezoelectrc device, and liquid discharge apparatus
JP4266036B2 (ja) 2007-04-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 圧電体、圧電素子、及び液体吐出装置
JP5307986B2 (ja) 2007-05-07 2013-10-02 富士フイルム株式会社 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置
JP2008311634A (ja) 2007-05-14 2008-12-25 Fujifilm Corp 圧電素子及びその駆動方法、圧電装置、液体吐出装置
JP5095315B2 (ja) * 2007-09-05 2012-12-12 富士フイルム株式会社 ペロブスカイト型酸化物、強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
JP4276276B2 (ja) * 2007-09-07 2009-06-10 富士フイルム株式会社 圧電素子の製造方法
JP5507097B2 (ja) 2008-03-12 2014-05-28 富士フイルム株式会社 ペロブスカイト型酸化物とその製造方法、圧電体、圧電素子、液体吐出装置
JP5267971B2 (ja) 2008-03-21 2013-08-21 国立大学法人金沢大学 強誘電体材料及び圧電体
JP2009245893A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Toshiba Corp 発光装置封止構造及びその製造方法
JP5248168B2 (ja) 2008-04-01 2013-07-31 セイコーエプソン株式会社 圧電材料および圧電素子
JP5110703B2 (ja) 2008-05-28 2012-12-26 富士フイルム株式会社 ペロブスカイト型酸化物膜、強誘電体、圧電素子、液体吐出装置
JP5534179B2 (ja) * 2010-03-09 2014-06-25 セイコーエプソン株式会社 圧電体膜、圧電素子、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置

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