JP2011194337A - ハイドロフルオロカーボン除去剤、およびハイドロフルオロカーボンの除去方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 バインダレスX型ゼオライトを含む除去剤にHFCを含むガスを接触させることによって、HFCを吸着除去する。
【選択図】 なし
Description
まず、ステンレス製カラム(内径72.5mm;断面積41cm2)に、CH3F吸着剤(除去剤)としてバインダレスX型ゼオライト(東ソー株式会社製、ゼオラムF−9HA)を1000ml充填した。次いで、CH3Fが5.7容量%のN2希釈ガス(N2:94.3容量%)を、ガス流量2120ml/min(CH3F:120ml/min、N2:2000ml/min)、常圧下、25℃で吸着剤を充填したカラムへ供給した。ガスの供給流量の制御には、STEC製のマスフローコントローラーを使用した。処理条件は線速度0.9cm/sec、接触時間28sec、空間速度127.2hr−1である。そして、カラム出口側でCH3Fの濃度を株式会社堀場製作所製のFT−IR分光器(型番:FT−730G、セル光路:10m、分解能:2cm−1)で測定し、CH3Fを検出した時点を破過とし、この破過までのCH3Fの供給量[CH3F導入ガス流量(120ml/min)×破過までの時間]を求め、破過能力を示す破過流通量(mol/L)を次式から算出した。
その結果を表1に示す。
CH3F吸着剤を、バインダを含むX型ゼオライト(東ソー株式会社製、ゼオラムF−9)とした以外は、実施例1と同様にしてCH3Fの吸着除去を行った。その結果を表1に示す。
ステンレス製カラム(内径54.5mm;断面積23cm2)に、CHF3吸着剤(除去剤)としてバインダレスX型ゼオライト(東ソー株式会社製、ゼオラムF−9HA)を400ml充填した。次いで、CHF3が2.0容量%のN2希釈ガス(N2:98.0容量%)を、ガス流量1020ml/min(CHF3:20ml/min、N2:1000ml/min)、常圧下、25℃で吸着剤を充填したカラムへ供給した。ガスの供給流量の制御には、STEC製のマスフローコントローラーを使用した。処理条件は線速度0.7cm/sec、接触時間24sec、空間速度153hr−1である。そして、カラム出口側でCHF3の濃度を株式会社堀場製作所製のFT−IR分光器(型番:FT−730G、セル光路:10m、分解能:2cm−1)で測定し、CHF3を検出した時点を破過とし、この破過までのCHF3の供給量[CHF3導入ガス流量(20ml/min)×破過までの時間]を求め、破過能力を示す破過流通量(mol/L)を次式から算出した。
その結果を表2に示す。
CHF3吸着剤を、バインダを含むX型ゼオライト(東ソー株式会社製、ゼオラムF−9)とした以外は、実施例2と同様にしてCHF3の吸着除去を行った。その結果を表2に示す。
Claims (3)
- ハイドロフルオロカーボン(HFC)を除去するために用いる除去剤であって、バインダレスX型ゼオライトを含むことを特徴とするHFC除去剤。
- 前記HFCが、CH3Fおよび/またはCHF3である請求項1記載のHFC除去剤。
- バインダレスX型ゼオライトを含む除去剤にHFCを含むガスを接触させることによって、HFCを吸着除去することを特徴とするHFCの除去方法。
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