JP2011145649A - 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】より容易に、かつ、高い生産性で屈折率傾斜ハードコート層を備える光学フィルムを提供すること。
【解決手段】（ｉ）光透過性基材を準備する工程、（ｉｉ）第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓの第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物並びに平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子、第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓの第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、（ｉｉｉ）光透過性基材の一面側に、光透過性基材側から、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して同時塗布し、塗膜とする工程、（ｉｖ）（ｉｉｉ）工程で得られた塗膜に光照射を行い硬化させ屈折率傾斜ハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）又はプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等のディスプレイ（画像表示装置）の前面等に設置される光学フィルム、当該光学フィルムを備える偏光板及び画像表示装置に関する。

上記のようなディスプレイにおいては、ディスプレイの画像表示面に取扱い時に傷がつかないように耐擦傷性を付与することが要求される。これに対して、基材フィルム上にハードコート（以下、単に「ＨＣ」ということがある。）層を設けた光学フィルムやＨＣフィルムを利用することにより、ディスプレイの画像表示面に耐擦傷性を付与することが一般になされている（例えば、特許文献１）。

また、上記のようなディスプレイにおいては、その表示面の視認性を高めるために、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射が少ないことが求められる。外部光の反射を抑える方法として、表示面最表面に最も屈折率の低い低屈折率層を設け、かつ、低屈折率層のディスプレイ側に屈折率の高い高屈折率層を隣接して設けた反射防止フィルムをディスプレイの前面に設ける方法が一般に知られている。また、ディスプレイ側から屈折率が中程度の層、屈折率が高い層及び屈折率が低い層を設けた反射防止フィルムも知られている。
このような屈折率が中程度乃至高い層を形成するために、高屈折率微粒子を含有する屈折率層を低屈折率層に隣接して設けたり、低屈折率層に隣接するＨＣ層や帯電防止層等の機能層に高屈折率微粒子を含有させることが一般になされている（例えば、特許文献２）。

しかし、中屈折率層又は高屈折率層とＨＣ層等の機能層を別々に、一層ずつ順に（逐次に）形成する場合、工程数が増えて製造コストが上昇してしまう問題及び当該高屈折率層とＨＣ層等の密着性が低いという問題があった。

また、特許文献２の発明では、高屈折率微粒子がハードコート層の低屈折率層側の界面付近に偏在しスキン層を形成しているが、ハードコート層内のスキン層とそれ以外の部分の境界が明瞭であるためその境界において干渉縞が生じることがあるという問題があった。

特許文献３の発明においては、低反射化が可能で、かつ干渉縞の発生を防止することができる光学フィルムの提供を意図して、基材上にハードコート層、高屈折率傾斜ハードコート層及び低屈折率層を順に積層した光学フィルムであって、特定の製法によりハードコート層と高屈折率傾斜ハードコート層が一体となって高屈折率傾斜ハードコート層を形成し、干渉縞が防止される光学フィルムを提案している。

しかし、特許文献３の発明においても屈折率傾斜ハードコート層を効率良く得るのは難しく、より容易に、かつ、高い生産性で屈折率傾斜ハードコート層を得られる方法が要求されていた。

特開２００８−１６５０４０号公報 特開２００９−０８６３６０号公報 特開２００９−２６５６５８号公報

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、より容易に、かつ、高い生産性で屈折率傾斜ハードコート層を備える光学フィルムを提供することを目的とする。
また、本発明は、そのような光学フィルムを備える偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らが鋭意検討した結果、特定の粘度を有する高屈折率微粒子を含む組成物と特定の粘度を有する高屈折率微粒子を含まない組成物の２つの組成物を用意し、基材側から当該高屈折率微粒子を含まない組成物及び高屈折率微粒子を含む組成物を塗布することにより、高屈折率微粒子の拡散を制御し、容易に、かつ、高い生産性で屈折率傾斜ハードコート層を備える光学フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、上記問題点を解決する本発明に係る光学フィルムの製造方法は、（ｉ）光透過性基材を準備する工程、（ｉｉ）第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓの第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物並びに平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子、第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓの第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、（ｉｉｉ）当該光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から、当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び当該第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して、当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物が当該第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物よりも当該光透過性基材側に位置するように同時塗布し、塗膜とする工程、（ｉｖ）前記（ｉｉｉ）工程で得られた塗膜に光照射を行い硬化させ屈折率傾斜ハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする。

高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓの第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物（以下、単に「第一の組成物」ということがある。）と、平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓの第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物（以下、単に「第二の組成物」ということがある。）を、当該第一の組成物が光透過性基材側になるように隣接して同時塗布し、硬化させることにより、屈折率傾斜ハードコート層が容易に、かつ、高い生産性で得られる。
なお、屈折率の傾斜とは、屈折率傾斜ＨＣ層内において、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側の界面に向けて屈折率が連続的に変化していることを意味する。
屈折率の傾斜は、Ｘ線光電子分光装置（ＸＰＳ）を用い、形成した屈折率傾斜ＨＣ層をアルゴン・スパッタリングすることによりエッチングし、深さ方向の高屈折率微粒子の含有分布を測定し、そして、屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率とそのＸＰＳの測定結果から求めることができる。
また、光学フィルムを熱硬化性樹脂を用いて包埋し、その包埋した光学フィルムからＬＥＩＣＡ社製ウルトラミクロトームを用いて８０ｎｍ厚みの超薄切片を作製し、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察することにより測定することも出来る。
高屈折率微粒子とは、屈折率が１．５０〜２．８０の微粒子を意味する。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び／又は第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物がさらに増粘剤を含むことが、屈折率傾斜ハードコート層内の高屈折率微粒子の分布を制御しやすい点から好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の粘度と前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の粘度の差の絶対値が、３０以下であることが、屈折率傾斜ハードコート層内の高屈折率微粒子の分布を制御しやすい点から好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記光透過性基材が、トリアセチルセルロース基材であり、前記第一の溶剤が当該トリアセチルセルロース基材への浸透性を有することが、光学フィルムにおける干渉縞を抑制する観点から好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記（ｉｖ）工程の後に、さらに（ｖ）前記屈折率傾斜ハードコート層上に、直接又は高屈折率層を介して低屈折率層を形成する工程、を含むことも可能である。このように屈折率傾斜ＨＣ層上に直接又は高屈折率層を介して低屈折率層を設けることにより、光学フィルムの反射防止性をより高めることができる。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含むことが、光学フィルムに優れた反射防止性を付与できるため好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、金属フッ化物及び硬化性フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料を含む場合であっても、十分な反射防止性を有する光学フィルムを得ることができる。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含まず、金属フッ化物及び硬化性フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料を含むことが、十分な反射防止性と耐ケン化性を両立する観点から好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記（ｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間に、さらに（ｖｉ）前記光透過性基材の屈折率傾斜ハードコート層を設ける面に帯電防止層を形成する工程、を含むことも可能である。帯電防止層により光学フィルムの帯電防止性が高まる。

本発明に係る光学フィルムは、上記いずれかの製造方法により得られる光学フィルムである。

本発明に係る光学フィルムは、光透過性基材の一面側に、少なくとも屈折率傾斜ハードコート層が設けられている光学フィルムであって、当該屈折率傾斜ハードコート層は、平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子を含み、当該屈折率傾斜ハードコート層において、当該屈折率傾斜ハードコート層の膜厚方向では、当該高屈折率微粒子の存在量が、当該光透過性基材側に近いほど少ないことを特徴とする。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記屈折率傾斜ハードコート層において、前記光透過性基材とは反対側の界面から当該屈折率傾斜ハードコート層の膜厚の７０％までの領域に、前記高屈折率微粒子の全量の９０％以上を存在させることも可能である。このように、高屈折率微粒子を分布させることにより、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の界面側の屈折率を効率的に高めることができる。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記屈折率傾斜ハードコート層には増粘剤が含まれている態様とすることも可能である。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記光透過性基材が、トリアセチルセルロース基材であり、前記屈折率傾斜ハードコート層を構成しているマトリクスが、当該トリアセチルセルロース基材の屈折率傾斜ハードコート層側の界面にも存在することが、光学フィルムにおける干渉縞を抑制する観点から好ましい。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記屈折率傾斜ハードコート層の光透過性基材とは反対側の面に、さらに低屈折率層又は当該屈折率傾斜ハードコート層側から高屈折率層及び低屈折率層が設けられていることが、光学フィルムの反射防止性をより高めることができるため好ましい。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記低屈折率層が、中空シリカ微粒子を含むことが、光学フィルムに優れた反射防止性を付与できるため好ましい。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記低屈折率層が、金属フッ化物及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率成分を含む場合であっても、十分な反射防止性を有する。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記低屈折率層が、中空シリカ微粒子を含まず、金属フッ化物及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率成分を含むことで、十分な反射防止性と耐ケン化性を両立することができる。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記光透過性基材と前記屈折率傾斜ハードコート層の間に、さらに帯電防止層が設けられていることが、光学フィルムの帯電防止性をより高めることができるため好ましい。

本発明に係る光学フィルムにおいては、当該光学フィルムを、５５℃に保たれた２規定の水酸化ナトリウム水溶液に入れ、２分浸漬させ、次いで、水洗した後、７０℃で５分乾燥させ、次いで、＃００００番のスチールウールを用いて摩擦荷重０．９８Ｎにて低屈折率層表面を１０往復摩擦した時、低屈折率層に傷及び剥がれがないとすることも可能である。

本発明に係る偏光板は、偏光素子の一面側に、上記光学フィルムを、当該光学フィルムの光透過性基材側を当該偏光素子に向けて配置してなることを特徴とする。

本発明に係る画像表示装置は、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、高屈折率微粒子を含まない特定の粘度の第一の組成物と高屈折率微粒子を含む特定の粘度の第二の組成物の２つの組成物を隣接して、当該第一の組成物が光透過性基材側に位置するように同時塗布して屈折率傾斜ＨＣ層を形成することにより、屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向における高屈折率微粒子の分布を制御し易くなる。そのため、本発明に係る光学フィルムの製造方法を用いると、容易に、かつ、高い生産性で屈折率傾斜ＨＣ層を備える光学フィルムが得られる。
本発明に係る偏光板及び画像表示装置は、上記屈折率傾斜ＨＣ層を有する光学フィルムを備えるため、傷付きにくい。

図１は、本発明に係る光学フィルムの製造方法の一例を模式的に示した図である。 図２は、エクストルージョン型のダイコーターを用いた同時塗布方法の一例を示した模式図である。 図３は、本発明に係る光学フィルムの層構成及び屈折率傾斜ＨＣ層内の膜厚方向における高屈折率微粒子の分布の一例を模式的に示した断面図である。 図４は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。 図５は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。 図６は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。

以下、まず本発明に係る光学フィルムの製造方法について説明し、次いで光学フィルムについて説明する。

本発明において、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを表す。
また、本発明の光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
本発明において、微粒子の平均粒径とは、硬化膜の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値を意味し、１次粒径及び２次粒径のいずれであっても良い。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ＴＨＦを溶剤とするゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
本発明において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で、「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。
なお、フィルムとシートのＪＩＳ−Ｋ６９００での定義では、シートとは薄く一般にその厚さが長さと幅の割りには小さい平らな製品をいい、フィルムとは長さ及び幅に比べて厚さが極めて小さく、最大厚さが任意に限定されている薄い平らな製品で、通例、ロールの形で供給されるものをいう。従って、シートの中でも厚さの特に薄いものがフィルムであるといえるが、シートとフィルムの境界は定かではなく、明確に区別しにくいので、本発明では、厚みの厚いもの、および薄いものの両方の意味を含めて、「フィルム」と定義する。
屈折率は、分光光度計（（株）島津製作所製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定した。得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めた。
Ｒ（％）＝（１−ｎ^２）／（１＋ｎ^２）
乾燥膜厚の測定は（（株）ミツトヨ製のＩＤＦ−１３０）を用いて行った。

（光学フィルムの製造方法）
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、（ｉ）光透過性基材を準備する工程、（ｉｉ）第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓの第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物並びに平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子、第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓの第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、（ｉｉｉ）当該光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から、当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び当該第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して、当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物が当該第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物よりも当該光透過性基材側に位置するように同時塗布し、塗膜とする工程、（ｉｖ）前記（ｉｉｉ）工程で得られた塗膜に光照射を行い硬化させ屈折率傾斜ハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする。

高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓの第一の組成物と、平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓの第二の組成物を、当該第一の組成物が光透過性基材側になるように隣接して同時塗布し、硬化させることにより、屈折率傾斜ＨＣ層が容易に、かつ、高い生産性で得られる。
なお、第一の組成物及び第二の組成物の粘度は、Ａｎｔｏｎ Ｐａａｒ社製のＭＣＲ３０１を用いて、測定治具はＰＰ５０とし、測定温度は２５℃、せん断速度は１００００［１／ｓ］の条件にて測定対象の組成物（インキ）を適量、ステージに滴下し測定する。

第一の組成物と第二の組成物の粘度が上記範囲を満たさない場合、屈折率傾斜ＨＣ層内において、当該屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向での高屈折率微粒子の分布を制御することが難しく、高屈折率微粒子が屈折率傾斜ＨＣ層内で均一に分布しやすくなる。
高屈折率微粒子が層内で均一に分布してしまうと、屈折率傾斜ＨＣ層と隣接する光透過性基材や帯電防止層との界面において、屈折率差が大きくなる。そして、当該界面において干渉縞が生じて光学フィルムの外観が悪化する問題が生じる。また、高屈折率微粒子の含有量が多くなり、製造コストも増加する。
この他、第一の組成物と第二の組成物の粘度が上記範囲を満たさない場合、屈折率傾斜ＨＣ層表面に塗工スジが生じて外観が悪化する問題もある。

これに対して、第一の組成物と第二の組成物の粘度が上記特定の範囲であることにより、これら２種の組成物が同時塗布されても、高屈折率微粒子の拡散又は沈降が適度に制御され、屈折率傾斜ＨＣ層を容易に、かつ、高い生産性で得ることができる。

第一の組成物及び第二の組成物の粘度は、それぞれ、３〜１００ｍＰａ・ｓ及び１０〜１００ｍＰａ・ｓであるが、第一の組成物の粘度は３〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜３０ｍＰａ・ｓがより好ましい。第二の組成物の粘度は１０〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、１５〜３０ｍＰａ・ｓがより好ましい。第一の組成物と第二の組成物の粘度をそれぞれ、上記範囲に調節することで容易に高屈折率微粒子の拡散又は沈降を制御でき、屈折率傾斜ＨＣ層を形成し易い。また、第一の組成物の粘度が５〜３０ｍＰａ・ｓ、かつ、第二の組成物の粘度が２０〜３０ｍＰａ・ｓであることが、より容易に高屈折率微粒子の拡散又は沈降を制御でき、屈折率傾斜ＨＣ層を形成し易いため好ましい。
第一の組成物と第二の組成物の粘度は上記範囲内であれば所望の高屈折率微粒子の分布に応じて適宜調節すれば良いが、第一の組成物の粘度よりも、硬化して屈折率傾斜ＨＣ層の上層側となる第二の組成物の粘度が大きいことが生産性の点から好ましい。
また、第一の組成物と第二の組成物の粘度の差の絶対値が３０以下であることが、より容易に高屈折率微粒子の拡散又は沈降を制御でき、屈折率傾斜ＨＣ層を形成し易いため好ましい。

図１は、本発明に係る光学フィルムの製造方法の一例を模式的に示した図である。
図１の（ａ）に示すように、光透過性基材１０を準備する。そして、光透過性基材１０に上記第一の組成物と第二の組成物を、第一の組成物が光透過性基材１０側に位置するように隣接させて同時塗布し、塗膜とし、光照射を行い硬化させ、図１の（ｂ）に示すように、層内において光透過性基材側に近いほど高屈折率微粒子３０の存在量が少ない屈折率傾斜ハードコート層２０を形成し、光学フィルム１を得る。

以下、本発明に係る光学フィルムの製造方法において用いられる、光透過性基材並びに第一の組成物及び第二の組成物を説明する。

（光透過性基材）
本発明の光透過性基材は、光学フィルムの光透過性基材として用い得る物性を満たすものであれば特に限定されることはなく、従来公知のハードコートフィルムや光学フィルムに用いられているトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等を適宜選択して用いることができる。
可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光透過性基材の平均光透過率は５０％以上が好ましく、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８５％以上である。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計（例えば、（株）島津製作所製 ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
また、光透過性基材にケン化処理やプライマー層を設ける等の表面処理が施されていても良い。また、光透過性基材には帯電防止剤等の添加剤が含まれていても良い。
光透過性基材の厚さは特に限定されず、通常２０〜３００μｍ程度であり、好ましくは４０〜２００μｍである。

従来のような高屈折率微粒子を含むＨＣ層を１種類の組成物を用いて１回で形成する方法（以下、「単層１回塗工法」という。）では、光透過性基材がＴＡＣ基材の場合、組成物に含まれる溶剤やバインダー成分がＴＡＣ基材に浸透したとしても、高屈折率微粒子がＨＣ層内で均一に分布し、ＨＣ層のＴＡＣ基材側の界面やその近傍にも存在しやすくなる。そして、当該界面において、ＴＡＣ基材（屈折率：１．４９）と高屈折率微粒子（屈折率：１．５０〜２．８０）の屈折率差により、干渉縞が発生し、外観が悪化していた。
これに対して、本発明に係る光学フィルムの製造方法によれば、屈折率傾斜ＨＣ層において、屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向では、高屈折率微粒子の存在量が光透過性基材側に近いほど少なく、屈折率傾斜ＨＣ層と光透過性基材の界面やその近傍に高屈折率微粒子が存在しない乃至少ない。そのため、ＴＡＣ基材を用いた場合でも第一の溶剤や第一のバインダー成分がＴＡＣ基材に浸透しやすく、屈折率傾斜ＨＣ層とＴＡＣ基材の界面において干渉縞が発生せず、良好な外観の光学フィルムを得ることができる。

（第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物）
本発明の光学フィルムの製造方法において用いる第一の組成物は、第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓである。そして第一の組成物は、後述する第二の組成物よりも光透過性基材側に位置するように隣接して同時塗布される。

高屈折率微粒子を含まない第一の組成物が高屈折率微粒子を含む第二の組成物よりも光透過性基材側に同時塗布されることで、これら２種の組成物により形成される屈折率傾斜ＨＣ層において、当該屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向では、高屈折率微粒子が光透過性基材側に近いほど存在量が少なくなる。また、第一の組成物と第二の組成物を同時塗布する場合は、当該２種の組成物を別々に塗布、硬化させる逐次塗布の場合に比べて、第一の組成物と第二の組成物が一体となって膜を形成し、第二の組成物に含まれる高屈折率微粒子が当該一体となった膜に光透過性基材側に近いほど少なくなるように適度に分布する。これにより、第一の組成物は、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材側界面において、高屈折率微粒子と光透過性基材又は帯電防止層等の下層の屈折率差により干渉縞が発生することを抑制し、光学フィルムの外観が悪化することを防止する働きを有する。

以下、第一の組成物に含まれる第一のバインダー成分及び第一の溶剤並びに必要に応じて含まれていても良いその他の光重合開始剤、増粘剤、微粒子、帯電防止剤及びレベリング剤について説明する。

（第一のバインダー成分）
第一のバインダー成分は、硬化して屈折率傾斜ＨＣ層のマトリクスとなる成分である。
第一のバインダー成分としては、例えば、（ｉ）光に感応して硬化する反応性バインダー成分（以下、単に「光硬化性バインダー成分」ということがある。）、（ｉｉ）熱に感応して硬化する反応性バインダー成分（以下、単に「熱硬化性バインダー成分」ということがある。）及び（ｉｉｉ）光及び熱に感応することなく乾燥又は冷却により固化する非反応性バインダー成分が挙げられる。
また、光硬化性バインダー成分及び熱硬化性バインダー成分は、光及び熱に感応して硬化する光及び熱硬化性バインダー成分であっても良い。
光硬化性バインダー成分のなかでも、特に電離放射線により硬化するバインダー成分（以下、単に「電離放射線硬化性バインダー成分」ということがある。）は、塗工適性に優れたコーティング組成物を調製することができ、均一な大面積塗膜を形成しやすい。また、塗膜中の電離放射線により硬化するバインダー成分を塗工後に光重合により硬化させることにより比較的強度の高い硬化膜が得られる。
電離放射線硬化性バインダー成分としては、従来公知の電離放射線により重合等の反応を起こす重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー又はポリマーを用いることができる。
重合性官能基は、例えば、アクリロイル基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合であることが好ましい。重合性官能基は、この他、エポキシ基であっても良い。
電離放射線硬化性バインダー成分は、硬化時のバインダー成分同士の架橋を増やす点から重合性官能基を１分子中に２個以上有するバインダー成分であることが好ましい。
電離放射線硬化性バインダー成分としては、例えば、特開２００４−３００２１０号公報に記載の単官能（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレート及び多官能（メタ）アクリレート及びこれらのＥＯ変性品等の誘導体、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴマー並びにエチレン性不飽和結合を有するポリマー等が挙げられる。また、エポキシ基含有化合物のような光カチオン重合性のモノマーやオリゴマーを用いても良い。
熱硬化性バインダー成分としては、例えば、エポキシ基を有する化合物及び特開２００６−１０６５０３号公報に記載のバインダー性エポキシ化合物等が挙げられる。
非反応性バインダー成分としては、例えば、特開２００４−３００２１０号公報に記載のポリアクリル酸、ポリイミド及びポリビニルアルコール等が挙げられる。
上記（ｉ）〜（ｉｉｉ）のバインダー成分は１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。

（第一の溶剤）
第一の溶剤は、第一の組成物の粘度を調整し、第一の組成物に塗工性を付与する働きを有する。
第一の溶剤は、特に限定されず、使用する光透過性基材に応じて適宜選択して用いることができる。
第一の溶剤としては、例えば、特開２００５−３１６４２８号公報記載のアルコール類、ケトン類、エステル類、ハロゲン化炭化水素類、芳香族炭化水素類、エーテル類等が挙げられる。
第一の溶剤としては、この他、例えば、テトラヒドロフラン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン及びジイソプロピルエーテル等のエーテル類等を用いることができる。
干渉縞の発生を防止するためには、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤（浸透性溶剤）を使用（又は併用）するのが好ましい。
なお、本発明において浸透性とは、光透過性基材に対する浸透する性質の他、光透過性基材を膨潤又は湿潤させる概念を含む意味である。
浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール及びエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸ブチル等のエステル類、ハロゲン化炭化水素、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素並びにフェノール類が挙げられる。
光透過性基材がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）の場合に使用する溶剤及び光透過性基材がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の場合に使用する溶剤は、特開２００５−３１６４２８号公報記載の溶剤が挙げられる。
特に、光透過性基材がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）の場合に使用する溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンが好ましい。
光透過性基材がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の場合に使用する溶剤は、フェノール、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、クロロフェノール及びヘキサフルオロイソプロパノールが好ましい。
また、上記ケトン類の溶剤は、浸透性の他に、第一の組成物を光透過性基材表面に容易に均一に塗布することができ、かつ、塗布後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いという効果を有する。このため、均一な厚さの大面積塗膜を容易に得ることができる。
第一の溶剤は、上記溶剤を１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
第一の溶剤として浸透性溶剤及び非浸透性溶剤を組み合わせて用いる場合、第一の溶剤の全質量に対して、浸透性溶剤の割合が５０質量％以上とすることが好ましく、８０質量％以上とすることがより好ましい。

（第一の組成物のその他の成分）
第一の組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、第一のバインダー成分の硬化促進、粘度調整、硬度又は帯電防止性の付与等を目的として、光重合開始剤、増粘剤、微粒子、帯電防止剤及びレベリング剤等のその他の成分が含まれていても良い。

（光重合開始剤）
光重合開始剤としては、例えば、特開２００７−２７２１３２号公報記載のアセトフェノン類及びベンゾフェノン類等の光開始剤を用いることができる。
なかでも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及び２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、少量でも光重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。
光カチオン重合性のバインダー成分を用いる場合には、必要に応じて例えば、特開２０１０−１０７８２３号公報記載のカチオン重合開始剤を用いることができる。
上記光重合開始剤は、１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
上記光重合開始剤は市販品を用いても良く、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンはイルガキュアー １８４（ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４）の商品名でチバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）から入手できる。
上記光重合開始剤は、１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
光重合開始剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して０．１〜２０質量％で用いることが好ましい。

（増粘剤）
第一の組成物には粘度の調整を目的として、有機化合物及び／又は無機化合物の増粘剤が含まれていても良い。増粘剤が含まれることにより、第一の組成物と第二の組成物の混合を適度に制御することができ、第二の組成物に含まれる高屈折率微粒子の分布を制御しやすくなる。
有機化合物の増粘剤としては、例えば、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、アクリル樹脂、脂肪酸アマイドワックス、酸化ポリエチレン、高分子ポリエステルのアミン塩、直鎖ポリアミノアミドと高分子酸ポリエステルの塩、ポリカルポン酸のアミド溶液、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸塩、コロイダル系エステル、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂及びポリイミド樹脂等並びにこれらを粉砕したものが挙げられる。
無機化合物の増粘剤としては、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、ガラス、けいそう土、酸化チタン、酸化ジルコニウム、二酸化珪素、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト及びサポナイト等）、有機ベントナイト並びに有機スメクタイト等が挙げられる。
増粘剤は市販品を用いても良い。有機化合物の増粘剤の市販品としては、例えば、日本曹達（株）製のセルニーＨＰＣ−Ｈ、ＨＰＣ−Ｍ、ＨＰＣ−Ｌ、ＨＰＣ−ＳＬ及びＨＰＣ−ＳＳＬ、三菱レイヨン（株）製のダイヤナールＢＲシリーズ、楠本化成（株）製のディスパロン＃６９００−２０Ｘ、ディスパロン＃４２００、デイスパロンＫＳ−８７３Ｎ及びディスパロン＃１８５０、ビック・ケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−４０５及びＢＹＫ−４１０、ローム・アンド・ハース社製のプライマルＲＷ−１２Ｗ、伊藤製油（株）製のＡ−Ｓ−ＡＴ−２０Ｓ、Ａ−Ｓ−ＡＴ−３５０Ｆ、Ａ−Ｓ−ＡＤ−１０Ａ及びＡ−Ｓ−ＡＤ−１６０等が挙げられる。
無機化合物の増粘剤の市販品としては、例えば、白石工業（株）のクラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ及びオプチホワイト、土屋カオリン工業（株）製のカオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー及びハードシル、エンジェルハード（株）製のＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７及びハイドラスデラミＮＣＤ、丸尾カルシウム（株）製のＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー及びＭＣハードクレー、コープケミカル社製のルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ及びルーセンタイトＳＰＮ、クニミネ工業社製のスメクトン、ホージュン（株）製のベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト及びオルガナイトＴ、ウイルバー・エリス社製の穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４及びベントン３８、日本シリカ工業（株）製のラポナイト、ラポナイトＲＤ及びラポナイトＲＤＳ等が挙げられる。
透明性の観点から好ましい増粘剤は上記有機化合物系の増粘剤で、これらの中でもヒドロキシプロピルセルロース、アクリル樹脂が好ましい。
上記増粘剤を１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
増粘剤を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の全固形分に対して０．１〜１０質量％で用いることが好ましい。
また、後述する第二の組成物にも増粘剤が含まれていても良い。この場合、第一の組成物及び第二の組成物の増粘剤は、同じであっても良いし、異なっていても良い。

（微粒子）
微粒子は、屈折率傾斜ＨＣ層の硬度向上を目的として用いられる。
このような硬度向上のための微粒子としては、例えば、特許文献１に記載の反応性官能基を表面に有するシリカ微粒子等が挙げられる。
硬度付与のための微粒子を用いる場合、その含有量は、第一の組成物の第一のバインダー成分の質量に対して５〜８０質量％で用いることが好ましい。

（帯電防止剤）
帯電防止剤は、屈折率傾斜ＨＣ層に帯電防止性を付与するための成分である。
帯電防止剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。
帯電防止剤としては、例えば、特許文献３に記載の陰イオン性帯電防止剤、陽イオン性帯電防止剤、両性帯電防止剤、非イオン性帯電防止剤、電解質及びイオン性液体等が挙げられる。
帯電防止剤の含有量は、特に限定されず適宜調節して用いれば良い。例えば、屈折率傾斜ＨＣ層の表面抵抗率は、１．０×１０^１３Ω／□以下であることが好ましく、１．０×１０^１１Ω／□以下であることがより好ましく、１．０×１０^９Ω／□以下であることがさらに好ましく、１．０×１０^８Ω／□以下であることが特に好ましいため、屈折率傾斜ＨＣ層の表面抵抗率がこの範囲になるように用いれば良い。

（レベリング剤）
レベリング剤は、屈折率傾斜ＨＣ層の形成時にその表面に対して、塗工性及び／又は平滑性を付与するはたらきを有する。
レベリング剤としては、従来公知の反射防止フィルムに用いられているフッ素系、シリコーン系及びアクリル系等のレベリング剤を用いることができる。例えば、ＤＩＣ（株）製メガファックシリーズ（ＭＣＦ３５０−５）等の電離放射線硬化性基を有しないレベリング剤、信越化学工業（株）製のＸ−２２−１６３Ａ等の電離放射線硬化性基を有するレベリング剤のいずれも使用することができる。
レベリング剤を用いる場合、その含有量は、第一のバインダー成分の質量に対して５．０質量％以下で用いることが好ましく、０．１〜３．０質量％で用いることがより好ましい。

第一の組成物は、通常、第一の溶剤に第一のバインダー成分及び光重合開始剤等の任意に用いることができる成分を一般的な調製法に従って、混合し分散処理することにより調製される。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を用いることができる。
後述する第二の組成物も同様に調製することができる。

（第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物）
本発明の光学フィルムの製造方法において用いる第二の組成物は、平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子、第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓである。そして上記第一の組成物が当該第二の組成物よりも光透過性基材側に位置するように隣接して同時塗布される。

第二の組成物は、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の界面及びその近傍を、効率的に高屈折率化するはたらきも有する。これにより、図３に示すように、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材と反対側の面（屈折率傾斜ＨＣ層上）に低屈折率層を設けた場合や、図４に示すように、屈折率傾斜ＨＣ層上に当該屈折率傾斜ＨＣ層側から高屈折率層及び低屈折率層を設けることにより、光学フィルムの反射防止性をより高めることができる。

以下、第二の組成物に含まれる、高屈折率微粒子、第二のバインダー成分及び第二の溶剤並びに必要に応じて含まれていても良いその他の光重合開始剤、増粘剤、微粒子、帯電防止剤及びレベリング剤について説明する。

（高屈折率微粒子）
本発明の第二の組成物に含まれる高屈折率微粒子は、平均粒径が１〜１００ｎｍである。
高屈折率微粒子の平均粒径は、透明性の点から１００ｎｍ以下であり、分散性の制御の点から１ｎｍ以上である。
高屈折率微粒子の平均粒径は、透明性の点から５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
これに対して、本発明に係る光学フィルムの製造方法では、第一の組成物と第二の組成物の粘度を特定の範囲とすることにより、これら２種の組成物を同時塗布しても第二の組成物に含まれる高屈折率微粒子が塗膜中で均一に分散することを抑制することができる。

高屈折率微粒子の平均粒径は、硬化膜（屈折率傾斜ＨＣ層）の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値を意味し、１〜１００ｎｍであれば１次粒径及び２次粒径のいずれであっても良い。
高屈折率微粒子の形状は、特に限定されず、球状、鎖状及び針状等のものを用いることができる。

高屈折率微粒子としては、屈折率が１．５０〜２．８０であれば特に限定されず、従来公知の高屈折率微粒子を用いることができる。
上記高屈折率微粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２、屈折率：２．１０、）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ_２、屈折率：２．００、）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。
上記金属酸化物微粒子の中でも酸化錫（ＳｎＯ_２）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、燐錫化合物（ＰＴＯ）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６）は、導電性金属酸化物であり、粒子の拡散状態を制御し、導電パスを形成することで、帯電防止性を付与できるという利点がある。

本発明に係る光学フィルムの製造方法において、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の面に設ける低屈折率層又は高屈折率層に応じて、第二の組成物に含まれる高屈折率微粒子の種類及び含有量を選択又は調整し、屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率を調整すれば良い。
具体的には例えば、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の面に低屈折率層を設ける場合、屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率は１．５０〜２．８０であることが好ましい。
屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の面に屈折率傾斜ＨＣ層側から、高屈折率層及び低屈折率層を設ける場合、屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率は、高屈折率層よりも低く、かつ、低屈折率層よりも高くする。この場合は例えば、屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率は、１．５０〜２．００とすることができる。
なお、屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率は、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の界面の屈折率を意味する。

第二の組成物に含まれる高屈折率微粒子は、平均粒径、形状、屈折率及び材料等が異なるものを１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。

（第二のバインダー成分）
第二のバインダー成分は、硬化して屈折率傾斜ＨＣ層のマトリクスとなる成分である。
第二のバインダー成分は、第一のバインダー成分で挙げたものを用いることができる。
この他、特許文献３に記載の芳香環を含む樹脂、フッ素以外の塩素、臭素及びヨウ素等のハロゲン元素を含む樹脂並びに硫黄原子、窒素原子及びリン原子等の原子を含む樹脂等の高屈折率バインダー成分を用いることもできる。
第一のバインダー成分と第二のバインダー成分は同じであっても良いし、異なっていても良い。
第二のバインダー成分も、１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。

（第二の溶剤）
第二の溶剤は、第一の溶剤で挙げたものを用いることができる。
第一の溶剤と第二の溶剤は同じであっても良いし、異なっていても良い。
第二の溶剤も、１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。

（第二の組成物のその他の成分）
第二の組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、第二のバインダー成分の硬化促進、硬度又は帯電防止性の付与等を目的として、光重合開始剤、増粘剤、微粒子、分散剤、帯電防止剤、防汚剤及びレベリング剤等のその他の成分が含まれていても良い。

第二の組成物に含まれていても良い光重合開始剤、増粘剤及び帯電防止剤は、上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
第一及び第二の組成物に含まれる光重合開始剤、増粘剤及び帯電防止剤は、それぞれ、同じであっても良いし、異なっていても良い。

（微粒子）
屈折率傾斜ＨＣ層の硬度向上を目的として第二の組成物に含まれる微粒子は、シリカ（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）等を用いることができる。

（分散剤）
高屈折率微粒子の分散性を制御するために、分散剤を用いても良い。
分散剤としては、例えば、特許文献３に記載のビッグケミー・ジャパン（株）製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋシリーズ等のアニオン性の極性基を有する分散剤が挙げられる。

（防汚剤）
防汚剤は、光学フィルムの最表面の汚れを防止し、さらに屈折率傾斜ＨＣ層に耐擦傷性を付与することもできる。
防汚剤としては、従来公知のフッ素系化合物又はケイ素系化合物等の防汚剤（防汚染剤）を用いて良い。
防汚剤としては、例えば、特開２００７−２６４２７９号公報に記載の防汚染剤が挙げられる。
市販品の防汚剤を用いることも好ましい。このような市販品の防汚剤（非反応性）としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ、例えば、商品名ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４４５、Ｆ４５５、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８及びＦ１７８Ｋ等、東芝シリコーン（株）製のＴＳＦシリーズ等、信越化学工業（株）製のＸ−２２シリーズ及びＫＦシリーズ等並びにチッソ（株）製のサイラプレーンシリーズ等が挙げられる。
市販品の防汚剤（反応性）としては、新中村化学工業（株）製の商品名ＳＵＡ１９００Ｌ１０及び商品名ＳＵＡ１９００Ｌ６、ダイセルユーシービー（株）製の商品名Ｅｂｅｃｒｙｌ３５０、商品名Ｅｂｅｃｒｙｌ１３６０及び商品名ＫＲＭ７０３９、日本合成化学工業（株）製のＵＴ３９７１、ＤＩＣ（株）製の商品名ディフェンサＴＦ３００１、商品名ディフェンサＴＦ３０００及び商品名ディフェンサＴＦ３０２８、共栄社化学（株）製の商品名ライトプロコートＡＦＣ３０００、信越化学工業（株）製の商品名ＫＮＳ５３００、ＧＥ東芝シリコーン（株）製の商品名ＵＶＨＣ１１０５及びＵＶＨＣ８５５０並びに日本ペイント（株）製の商品名ＡＣＳ−１１２２等が挙げられる。

（レベリング剤）
第二の組成物に用いるレベリング剤としては、上記第一の組成物で挙げたものを用いることができる。
レベリング剤を用いる場合、その含有量は、第二のバインダー成分の質量に対して５．０質量％以下で用いることが好ましく、０．１〜３．０質量％で用いることがより好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記（ｉｖ）工程の後に、さらに（ｖ）前記屈折率傾斜ハードコート層上に、直接又は高屈折率層を介して低屈折率層を形成する工程、を含むことも可能である。
このように低屈折率層を積層することで、光学フィルムの反射防止性をより高めることができる。

高屈折率層は、屈折率傾斜ＨＣ層よりも屈折率が高い層であり、屈折率傾斜ＨＣ層と低屈折率層との間に設けられることで、光学フィルムの反射防止性をより高めるはたらきを有する。
高屈折率層は、従来公知の反射防止フィルムにおいて用いられている高屈折率層とすることができる。
例えば、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げた高屈折率微粒子、バインダー成分及び溶剤を含む組成物を用いて形成することができる。
高屈折率層の屈折率は、当該高屈折率層の光透過性基材側に設けられる屈折率傾斜ＨＣ層よりも高ければ良い。
また、上記高屈折率微粒子の中で、導電性金属酸化物を使用することで、帯電防止性を付与することが可能となる。
高屈折率層の膜厚は、適宜設定すれば良く、例えば、１０〜３００ｎｍであることが好ましい。

（低屈折率層）
低屈折率層は、屈折率傾斜ＨＣ層又は高屈折率層の光透過性基材とは反対側の面に設けられることで、光学フィルムの反射防止性をより高める働きを有する。
低屈折率層の屈折率は、屈折率傾斜ＨＣ層及び高屈折率層よりも低ければよく、例えば、１．４９以下であることが好ましく、１．４７以下であることがより好ましく、１．４２以下であることが特に好ましい。
低屈折率層の膜厚は、適宜設定すれば良く、例えば、１０〜３００ｎｍであることが好ましい。
低屈折率層は、バインダー成分、溶剤の他、低屈折率化のための低屈折率微粒子、低屈折率樹脂等の低屈折率材料を含有する組成物（以下、「低屈折率層用組成物」という。）を用いて形成することができる。
このバインダー成分及び溶剤は、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げた高屈折率微粒子、高屈折率バインダー成分以外のバインダー成分及び溶剤を用いることができる。
低屈折率微粒子としては、特許文献１に記載の空隙を有する微粒子（中空微粒子）や金属フッ化物を用いることが好ましい。
空隙を有する微粒子の材料は、低屈折率層の屈折率を低減するために、シリカ又はフッ素樹脂を用いることが好ましい。
空隙を有する微粒子の平均粒径は、５〜３００ｎｍであることが好ましく、１０〜８０ｎｍであることが好ましい。
金属フッ化物としては、従来公知の低屈折率材料に用いられているものを用いて良く、例えば、ＬｉＦ（屈折率１．４）、ＭｇＦ_２（フッ化マグネシウム、屈折率１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ_３（屈折率１．４）、ＡｌＦ_３（屈折率１．４）、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）及びＮａＭｇＦ_３（屈折率１．３６）等を用いることができる。

低屈折率樹脂としては、例えば、硬化性フッ素樹脂が挙げられる。硬化性フッ素樹脂は、光硬化性基及び／又は熱硬化性基を有するフッ素樹脂が挙げられる。
光硬化性基としては、例えば、上記第一のバインダー成分で挙げたアクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合及びエポキシ基等の重合性官能基が挙げられる。
熱硬化性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基及びアルコキシル基等が挙げられる。

光硬化性基を有する硬化性フッ素樹脂としては、例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等のフルオロオレフィン類が挙げられる。
この他、光硬化性基を有する硬化性フッ素樹脂として、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチル等の（メタ）アクリレート化合物、１分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等が挙げられる。

熱硬化性基を有する硬化性フッ素樹脂として、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体並びにエポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂及びポリイミド樹脂等のフッ素変性品等を用いることができる。

この他、特開２０１０−１２２６０３号公報に記載のフッ素原子を含有する重合性化合物の重合体、共重合体及びシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体を用いても良い。

上記低屈折率材料は１種単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
低屈折率微粒子の含有量は、適宜調節して用いればよく、低屈折率層用組成物のバインダー成分と低屈折率微粒子の合計質量に対して５０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは、５５〜７０質量％である。
硬化性フッ素樹脂を用いる場合、その含有量は適宜調節して用いればよく、低屈折率層用組成物の全固形分に対して５〜９５質量％が好ましく、より好ましくは、２５〜６０質量％である。

本発明に係る光学フィルムの製造方法の好適な実施態様においては、硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含む。これにより優れた反射防止性を有する光学フィルムが得られるという利点がある。
本発明に係る光学フィルムの製造方法により得られる光学フィルムでは、後述するように、屈折率傾斜ＨＣ層において、屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向では、高屈折率微粒子の存在量が光透過性基材側に近いほど少ない。すなわち、屈折率傾斜ＨＣ層において、屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向では、低屈折率層側の界面に近い部分ほど高屈折率微粒子の存在量が多いため、屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側の界面及びその近傍の屈折率を、同じ膜厚で同じ含有量の高屈折率微粒子を含むＨＣ層を逐次塗布で形成した場合や単層１回塗工法で形成した場合に比べて、効率的に高めることができる。そのため、中空シリカ微粒子を含む低屈折率層用組成物を硬化させて形成した低屈折率層を当該屈折率傾斜ＨＣ層上に形成することで、屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側の界面部分と低屈折率層との屈折率差を大きくし、優れた反射防止性を有する光学フィルムを得ることができる。

本発明に係る光学フィルムの製造方法の別の好適な実施態様においては、硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、金属フッ化物及び硬化性フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料を含む。このように低屈折率層用組成物が低屈折率材料としてフッ素系低屈折率材料を含む場合であっても、十分な反射防止性を有する光学フィルムを得ることができるという利点がある。
金属フッ化物や硬化性のフッ素樹脂等のフッ素系低屈折率材料は、中空シリカ微粒子ほど屈折率が低くないため、低屈折率層の屈折率を下げる効果が中空シリカ微粒子に比べて小さい。
従来の逐次塗布や単層１回塗布により形成した、低屈折率層／高屈折率層（高屈折率ＨＣ層）／基材という層構成の光学フィルムでは、上述したように高屈折率層（高屈折率ＨＣ層）の低屈折率層側の界面及びその近傍の屈折率を効率的に高めることができないため、低屈折率層を形成するための組成物に上記フッ素系低屈折率材料を用いると、十分な反射防止性が得られなかった。また、従来の逐次塗布により高屈折率層（高屈折率ＨＣ層）の低屈折率層側の界面及びその近傍の屈折率を高めることができても、当該高屈折率層（高屈折率ＨＣ層）と基材又は当該層の基材側の層との間に層界面が生じ、干渉縞が発生してしまっていた。
これに対して、本発明に係る光学フィルムの製造方法の上記好適な実施態様によれば、上述したように、屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側の界面及びその近傍の屈折率を効率的に高め、干渉縞の発生も抑制することができるため、低屈折率層用組成物にフッ素系低屈折率材料を用いても十分な反射防止性を有する光学フィルムを得ることができる。

本発明に係る光学フィルムの製造方法の別の好適な実施態様においては、硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含まず、金属フッ化物及び硬化性フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料を含む。このように低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含まず、低屈折率材料としてフッ素系低屈折率材料を含む場合、十分な反射防止性と耐ケン化性を両立することができるという利点がある。
通常、光学フィルムを偏光素子の一面側に貼り合わせて偏光板を作製する際に、光学フィルムをアルカリ溶液に浸漬し、当該光学フィルムの基材側の表面を親水化する処理（以下、「ケン化処理」という。）が行われる。しかし、光学フィルムの最表面の層にシリカ微粒子（中空シリカ微粒子）が含まれる場合、当該中空シリカ微粒子は、ケン化処理によって当該最表面の層から脱落したり、アルカリ溶液中に流出ないし溶解しやすい性質がある。
中空シリカ微粒子を含む低屈折率層を最表面に有する光学フィルムをケン化処理する場合、中空シリカ微粒子がケン化処理によって脱落すると中空シリカ微粒子の含有量が減少するため低屈折率層の屈折率が高まり、所望の反射防止性が得られなくなるおそれがある。また、アルカリ溶液中に中空シリカ微粒子が流出ないし溶解するとアルカリ溶液を汚染してしまうおそれがある。
従来では、耐ケン化性の低い光学フィルムをケン化処理する場合は、シリカ微粒子（中空シリカ微粒子）を含む最表面の層（低屈折率層）に保護フィルムを貼り付け、ケン化処理のアルカリ溶液から最表面の層（低屈折率層）を保護していた。しかし、保護フィルムを貼り付け、ケン化処理後に保護フィルムを除去する方法では、工程数や保護フィルムのコストが増え、光学フィルムの製造コストが増大していた。
これに対して、本発明に係る光学フィルムの製造方法の上記好適な実施態様によれば、上述したように、屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側の界面及びその近傍の屈折率を効率的に高めることができるため、低屈折率層用組成物が中空シリカ微粒子を含まず、フッ素系低屈折率材料を含むことによって、十分な反射防止性と耐ケン化性を両立した光学フィルムを得ることができる。
そのため、上記好適な実施態様の光学フィルムを用いてケン化処理を行う場合、保護フィルムが不要となり、工程数や製造コストを低減することができる。

低屈折率層には、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げた光重合開始剤や防汚剤が含まれていても良い。

低屈折率層や高屈折率層は、上述したように、バインダー成分や溶剤を含む組成物をハードコート層と同様に塗布し、硬化させて形成すれば良い。この他、低屈折率層や高屈折率層は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法（乃至ドライコーティング法）によって形成しても良い。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、前記（ｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間に、さらに（ｖｉ）前記光透過性基材の屈折率傾斜ハードコート層を設ける面に帯電防止層を形成する工程、を含むことも可能である。
帯電防止層を設けることで、光学フィルムの帯電防止性をより高めることができる。
帯電防止層は、帯電防止剤、バインダー成分及び溶剤を含む組成物を用いて形成することができる。
帯電防止剤は、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げたものを用いることができる。
帯電防止剤の含有量は、帯電防止層を形成するための組成物のバインダー成分の質量に対して５０〜４００質量％で用いることが好ましい。
帯電防止層を形成するための組成物に含まれるバインダー成分及び溶剤は、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げたバインダー成分及び溶剤を用いることができる。

本発明に係る光学フィルムの製造方法においては、光学フィルムの反射防止性を損なわない範囲で、光学フィルムの屈折率傾斜ＨＣ層を有する面側の最表面（光学フィルムの光透過性基材とは反対側の面）に、さらに防汚層を設ける工程が含まれていても良い。
防汚層を最表面に設けることで、光学フィルムに防汚性及び耐擦傷性等を付与することができる。
防汚層は、防汚剤、バインダー成分及び溶剤を含む組成物を用いて形成することができる。
防汚剤は、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げたレベリング剤や防汚剤を用いることができる。
防汚剤の含有量は、要求される性能に応じて適宜調節すれば良い。
防汚層を形成するための組成物に含まれるバインダー成分及び溶剤は、上記屈折率傾斜ＨＣ層で挙げた高屈折率バインダー成分以外のバインダー成分及び溶剤を用いることができる。
防汚層の膜厚は、適宜設定すれば良く、例えば、１０〜３００ｎｍであることが好ましい。

本発明に係る光学フィルムの製造方法の（ｉｉｉ）工程において、第一の組成物と第二の組成物を同時塗布する方法は特に限定されず、従来公知の同時塗布方法を用いることができる。
同時塗布方法としては、例えば、２以上のスリット（吐出口）を有するダイコーティング及びスライドコーティング等が挙げられる。
図２は、エクストルージョン型のダイコーターを用いた同時塗布方法の一例を示した模式図である。
光透過性基材１０上にダイコーターヘッド４０のスリット５１及び５２からそれぞれ、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物６０及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物７０を光透過性基材側に第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物６０が位置するように隣接して同時塗布し、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜６１及び第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜７１とする。なお、図２において、第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物と第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物は本来一体となって一つのハードコート層を形成するが、説明の便宜のため当該二種の組成物やその塗膜を色分けして記載してある。

また、同時塗布する際の第一の組成物と第二の組成物のウェット膜厚は、要求される性能等に応じて適宜調節すれば良い。
第一の組成物のウェット膜厚をＴ１、第二の組成物の塗膜のウェット膜厚をＴ２としたとき、Ｔ２／Ｔ１（すなわち、Ｔ２÷Ｔ１）を０．０１〜１とすることが、屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向において、光透過性基材とは反対側の界面から屈折率傾斜ＨＣ層の乾燥膜厚の７０％までの領域に、高屈折率微粒子の全量の７０〜１００％が存在する分布とし易く、効率良く高屈折率微粒子の分布を制御できる点から好ましい。
なお、ウェット膜厚は、被塗工体の搬送速度及び面積並びに組成物の吐出量から求めることができる。

本発明に係る光学フィルムの製造方法の（ｉｖ）工程において、光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線又は電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク又はメタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。光照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜３００ｍＪ／ｃｍ^２であれば良い。

また、（ｉｖ）工程においては、光照射の前に必要に応じて適宜乾燥を行っても良い。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、３０〜１１０℃で乾燥させることが好ましい。例えば、第一又は第二の溶剤としてメチルイソブチルケトンを用いる場合は、通常室温〜８０℃、好ましくは４０℃〜７０℃の範囲内の温度で、２０秒〜３分、好ましくは３０秒〜１分程度の時間で乾燥が行われる。

（ｉｖ）工程において形成される屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚は、要求される硬度及び反射防止性等に応じて適宜調節すれば良い。屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚は、例えば、１〜２０μｍとすることができる。

（光学フィルム）
本発明に係る第一の光学フィルムは、上記の光学フィルムの製造方法により得られることを特徴とする。

本発明に係る第二の光学フィルムは、光透過性基材の一面側に、少なくとも屈折率傾斜ハードコート層が設けられている光学フィルムであって、当該屈折率傾斜ハードコート層は、平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子を含み、当該屈折率傾斜ハードコート層において、当該屈折率傾斜ハードコート層の膜厚方向では、当該高屈折率微粒子の存在量が、当該光透過性基材側に近いほど少ないことを特徴とする。

図３は、本発明に係る光学フィルムの層構成及び屈折率傾斜ＨＣ層内の膜厚方向における高屈折率微粒子の分布の一例を模式的に示した断面図である。
図３において、光学フィルム１は、光透過性基材１０上に屈折率傾斜ハードコート層２０が設けられてなる。そして屈折率傾斜ハードコート層２０において、屈折率傾斜ハードコート層の膜厚方向では、高屈折率微粒子の存在量が、光透過性基材側に近いほど少ない。

図４は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。なお、説明の簡略化のため、図４〜６において、屈折率傾斜ＨＣ層内の高屈折率微粒子は省略している。
光透過性基材１０上に、当該光透過性基材側から順に、屈折率傾斜ハードコート層２０及び低屈折率層８０が設けられている。
上記光学フィルムの製造方法において、（ｉｖ）工程の後に、さらに（ｖ）前記屈折率傾斜ハードコート層上に、直接、低屈折率層を形成する工程を設けることでこのような層構成の光学フィルムが得られる。

図５は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。
光透過性基材１０上に、当該光透過性基材側から順に、屈折率傾斜ハードコート層２０、高屈折率層９０及び低屈折率層８０が設けられている。
上記光学フィルムの製造方法において、（ｉｖ）工程の後に、さらに（ｖ）前記屈折率傾斜ハードコート層上に、高屈折率層を介して低屈折率層を形成する工程を設けることでこのような層構成の光学フィルムが得られる。

図６は、本発明に係る光学フィルムの層構成の他の一例を模式的に示した断面図である。
光透過性基材１０上に、当該光透過性基材側から順に、帯電防止層１００、屈折率傾斜ハードコート層２０、高屈折率層９０及び低屈折率層８０が設けられている。
上記光学フィルムの製造方法において、（ｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間に、さらに（ｖｉ）前記光透過性基材の屈折率傾斜ハードコート層を設ける面に帯電防止層を形成する工程を設けることでこのような層構成の光学フィルムが得られる。帯電防止層が設けられていることにより、光学フィルムに帯電防止性が付与される。

本発明に係る第一の光学フィルムは、上述したように、特定の粘度の高屈折率微粒子を含まない第一の組成物と特定の粘度の高屈折率微粒子を含む第二の組成物を用いて、当該２種の組成物を第一の組成物が第二の組成物よりも光透過性基材側に位置するように隣接して同時塗布して形成される屈折率傾斜ＨＣ層を有することにより、当該屈折率傾斜ＨＣ層において、当該屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向では、高屈折率微粒子が光透過性基材側に近いほど存在量が少なくなる。そのため、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材側界面において、高屈折率微粒子と光透過性基材又は帯電防止層等の下層の屈折率差による干渉縞の発生が抑制され、光学フィルムの外観に優れる。
また、高屈折率微粒子が屈折率傾斜ＨＣ層内に均一に分布せず、上層側に多く分布しているため、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の面を効率的に高屈折率化することができる。そのため、当該屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材とは反対側の面側に、図４及び図５で示したように低屈折率層が設けられることにより、光学フィルムの反射防止性が高まる。

本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様においては、前記低屈折率層が、中空シリカ微粒子を含む。これにより光学フィルムが優れた反射防止性を有するという利点がある。
本発明に係る光学フィルムでは、図３に示したように、屈折率傾斜ＨＣ層において、屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚方向では、低屈折率層側の界面に近い部分ほど高屈折率微粒子の存在量が多いため、屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側の界面及びその近傍の屈折率が高い。そして、当該屈折率傾斜ＨＣ層上の低屈折率層に中空シリカ微粒子が含まれている場合、屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側の界面部分と低屈折率層との屈折率差が大きく、光学フィルムが優れた反射防止性を有する。

本発明に係る光学フィルムの別の好適な実施態様においては、前記低屈折率層が、金属フッ化物及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率成分を含む場合であっても、十分な反射防止性を有する光学フィルムを得ることができる。

本発明に係る光学フィルムの別の好適な実施態様においては、前記低屈折率層が、中空シリカ微粒子を含まず、金属フッ化物及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率成分を含むことが、十分な反射防止性と耐ケン化性を両立する観点から好ましい。また、この好適な実施態様の光学フィルムを用いると、ケン化処理において保護フィルムが不要となり、偏光板を低コストで作製することができる。

本発明に係る光学フィルムに適宜設けられる低屈折率層、高屈折率層、帯電防止層及び防汚層は、光学フィルムの製造方法において説明したのでここでの説明は省略する。

本発明に係る光学フィルムの好適な実施態様では、前記屈折率傾斜ハードコート層において、前記光透過性基材とは反対側の界面から当該屈折率傾斜ハードコート層の膜厚の７０％までの領域に、前記高屈折率微粒子の全量の９０％以上が存在する。
図３に示したように、屈折率傾斜ＨＣ層において、光透過性基材とは反対側の界面から光透過性基材側まで屈折率傾斜ＨＣ層の膜厚の７０％までの領域に、高屈折率微粒子の９０％以上が存在することで、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材側の界面に存在する高屈折率微粒子が少なくなり、屈折率傾斜ＨＣ層と光透過性基材や帯電防止層との間における干渉縞の発生がより抑制される。
なお、図３を例に説明したが、この屈折率傾斜ＨＣ層内における高屈折率微粒子の分布は、図４〜６のように、他の層が設けられていても形成される。

本発明に係る光学フィルムにおいては、前記屈折率傾斜ハードコート層において、前記光透過性基材側の界面近傍の領域には増粘剤が含まれている態様及び屈折率傾斜ハードコート層全体に増粘剤が含まれている態様とすることも可能である。
上述したように、屈折率傾斜ＨＣ層を形成するための第一の組成物に粘度調整のために増粘剤が含まれている場合、屈折率傾斜ＨＣ層の光透過性基材側の界面近傍の領域は、主に第一の組成物により形成されるため、その領域にはその増粘剤が含まれることになる。
また、第一の組成物及び第二の組成物の両方に増粘剤が含まれている場合、屈折率傾斜ＨＣ層全体に増粘剤が含まれることになる。

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。

高屈折率微粒子ゾル（１）として、日産化学工業（株）製のＺｎＳｂ_２Ｏ_６のイソプロパノール分散液、商品名ＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２（平均粒径１５ｎｍ、固形分２０％分散液）を用いた。
高屈折率微粒子ゾル（２）として、日産化学工業（株）製のＰＴＯ：リン酸ドープ酸化錫のイソプロパノール分散液、商品名ＣＸ−Ｓ３０３ＩＰ（平均粒径１５ｎｍ、固形分３０％分散液）を用いた。
高屈折率微粒子ゾル（３）として、日産化学工業（株）製のＺｒＯ_２のＭＥＫ分散液、
商品名ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（平均粒径１０ｎｍ、固形分３０％分散液）を用いた。
低屈折率微粒子として、中空シリカ微粒子（平均１次粒径５０ｎｍ、固形分２０％、空隙率４０％）を用いた。
金属フッ化物として、シーアイ化成（株）製の氷晶石（Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、固形分１５％ＭＩＢＫ溶液を用いた。
バインダー成分（１）として、新中村化学工業（株）製の多官能ウレタンアクリレート、商品名Ｕ−４ＨＡ（分子量６００、官能基数４）を用いた。
バインダー成分（２）として、日本化薬（株）製の商品名ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡ（ＤＰＰＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：５官能）とＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：６官能）の混合物）を用いた。
バインダー成分（３）として、日本化薬（株）製のペンタエリスリトールトリアクリレートを用いた。
バインダー成分（４）として、共栄社化学工業（株）製の商品名ＬＩＮＣ−３Ａ（フッ素モノマー）を用いた。
溶剤（１）として、ＴＡＣ基材に浸透性を有するメチルエチルケトンを用いた。
溶剤（２）として、ＴＡＣ基材への浸透性を有しないイソプロピルアルコールを用いた。
溶剤（３）として、メチルイソブチルケトンを用いた。
増粘剤として、日本曹達（株）製の商品名セルニー ＨＰＣ−Ｍ（ヒドロキシプロピルセルロース）を用いた。
光重合開始剤（１）として、チバ・スペシャルティケミカルズ（株）製の商品名イルガキュアー１８４を用いた。
光重合開始剤（２）として、チバ・スペシャルティケミカルズ（株）製の商品名イルガキュアー１２７を用いた。
防汚剤として、信越化学工業（株）製のＸ−２２−１６４Ｅ（反応性シリコーン系防汚剤）を用いた。
光透過性基材として、富士フィルム（株）製のＴＡＣ基材、商品名ＴＦ８０ＵＬ（厚さ８０μｍ、屈折率１．４７）を用いた。

各化合物の略語はそれぞれ、以下の通りである。
ＩＰＡ：イソプロパノール
ＭＥＫ：メチルエチルケトン
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
ＴＡＣ：トリアセチルセルロース

（組成物の調製）
それぞれ、下記に示す組成の成分を配合して組成物を調製した。

（第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物１、粘度５．３ｍＰａ・ｓ）
バインダー成分（１）Ｕ−４ＨＡ：２０質量部
バインダー成分（２）ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡ：３０質量部
溶剤（１）ＭＥＫ：３７．５質量部
溶剤（２）ＩＰＡ：１２．５質量部
光重合開始剤（１）イルガキュアー１８４：２質量部

（第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物１、粘度２５．７ｍＰａ・ｓ）
高屈折率微粒子ゾル（１）ＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２：８３．３質量部
バインダー成分（１）Ｕ−４ＨＡ：８．３質量部
溶剤（１）ＭＥＫ：８．４質量部
光重合開始剤（１）イルガキュアー１８４：０．３質量部

（第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物２、粘度１５．１ｍＰａ・ｓ）
高屈折率微粒子ゾル（２）ＣＸ−Ｓ３０３ＩＰ：６６．６質量部
バインダー成分（１）Ｕ−４ＨＡ：２０．０質量部
溶剤（１）ＭＥＫ：１３．４質量部
光重合開始剤（１）イルガキュアー１８４：０．８質量部

（第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物３、粘度２８．５ｍＰａ・ｓ）
高屈折率微粒子ゾル（２）ＣＸ−Ｓ３０３ＩＰ：８７．５質量部
バインダー成分（１）Ｕ−４ＨＡ：８．７質量部
溶剤（１）ＭＥＫ：３．８質量部
光重合開始剤（１）イルガキュアー１８４：０．４質量部
増粘剤ヒドロキシプロピルセルロース：０．２質量部

（第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物４、粘度２４．２ｍＰａ・ｓ）
高屈折率微粒子ゾル（３）ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：８７．５質量部
バインダー成分（１）Ｕ−４ＨＡ：８．７質量部
溶剤（１）ＭＥＫ：３．８質量部
光重合開始剤（１）イルガキュアー１８４：０．４質量部
増粘剤ヒドロキシプロピルセルロース：０．３質量部

（高屈折率層用組成物）
高屈折率微粒子ゾル（１）ＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２：２８．６質量部
バインダー成分（３）ＰＥＴＡ：２．３質量部
溶剤（３）ＭＩＢＫ：６９．１質量部
光重合開始剤（２）イルガキュアー１２７：０．１質量部

（低屈折率層用組成物１）
中空シリカ微粒子：１５．０質量部
バインダー成分（３）ＰＥＴＡ：１．０質量部
バインダー成分（４）ＬＩＮＣ−３Ａ：１．０質量部
溶剤（３）ＭＩＢＫ：８３．０質量部
光重合開始剤（２）イルガキュアー１２７：０．１質量部

（低屈折率層用組成物２）
バインダー成分（４）ＬＩＮＣ−３Ａ：３．０質量部
光重合開始剤（２）イルガキュアー１２７：０．１５質量部
防汚剤Ｘ−２２−１６４Ｅ：０．０６質量部
溶剤（３）ＭＩＢＫ：９６．９１質量部

（低屈折率層用組成物３）
金属フッ化物（氷晶石）：１０質量部
バインダー成分（３）ＰＥＴＡ：０．５質量部
バインダー成分（４）ＬＩＮＣ−３Ａ：０．５質量部
光重合開始剤（２）イルガキュアー１２７：０．０５質量部
防汚剤Ｘ−２２−１６４Ｅ：０．０５質量部
溶剤（３）ＭＩＢＫ：８８．９質量部

（実施例１）
ＴＡＣ基材上に、２スロットダイコーターを用いて、上記第一の組成物１が上記第二の組成物１よりも基材（下層）側に位置するように当該第一の組成物１及び第二の組成物１を、塗布速度２０ｍ／ｍｉｎにて隣接して同時塗布を行い、塗膜を形成した。その塗膜を３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量８０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて乾燥膜厚１２μｍの屈折率傾斜ＨＣ層を形成した。
次いで、その屈折率傾斜ＨＣ層上に、上記低屈折率層用組成物１をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜に屈折率傾斜ＨＣ層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、ＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例２）
実施例１において、第二の組成物１に代えて第二の組成物２を用いた以外は実施例１と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例３）
実施例２において、第一の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を０．５質量部加えて粘度を１４．８ｍＰａ・ｓに調整した以外は実施例２と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例４）
実施例１において、第一の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を１．０質量部加えて粘度を２０．４ｍＰａ・ｓに調整し、第二の組成物１に代えて第二の組成物３を用いた以外は実施例１と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例５）
実施例１において、第二の組成物１に代えて第二の組成物４を用いた以外は実施例１と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例６）
実施例５において、第一の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を１．０質量部加えて粘度を２０．４ｍＰａ・ｓに調整した以外は実施例５と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例７）
屈折率傾斜ＨＣ層の形成までを実施例１と同様に行った。
次いで、その屈折率傾斜ＨＣ層上に、上記高屈折率層用組成物をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜に屈折率傾斜ＨＣ層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥膜厚１６０ｎｍの高屈折率層を形成した。
次いで、その高屈折率層上に、上記低屈折率層用組成物１をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜に屈折率傾斜ＨＣ層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、ＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層、高屈折率層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例８）
屈折率傾斜ＨＣ層の形成までを実施例５と同様に行った。
次いで、その屈折率傾斜ＨＣ層上に、上記低屈折率層用組成物２をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜に屈折率傾斜ＨＣ層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、ＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（実施例９）
実施例８において、低屈折率層用組成物２に代えて低屈折率層用組成物３を用いた以外は実施例８と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例１）
実施例５において、ＭＥＫとＩＰＡの比を変えずにこの２種の混合溶剤を第一の組成物１に加えて第一の組成物１の粘度を１．２ｍＰａ・ｓに、ＭＥＫを第二の組成物４に加えて第二の組成物４の粘度を２．５ｍＰａ・ｓに調整して用いた以外は実施例５と同様にして、ＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例２）
実施例１において、第一の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を１０．０質量部加え、かつ、第一の組成物１のＭＥＫとＩＰＡの比を変えずにこの２種の混合溶剤の量を減らし、第一の組成物１の粘度を１０９．５ｍＰａ・ｓに調整したもの、及び第二の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を５．０質量部加え、かつ、第二の組成物１の溶剤を変えずに量を減らして第二の組成物２の粘度を１１０．３ｍＰａ・ｓに調整したものを用いた以外は実施例１と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例３）
実施例１において、ＭＥＫとＩＰＡの比を変えずにこの２種の混合溶剤を第一の組成物１に加えて、第一の組成物１の粘度を１．２ｍＰａ・ｓに調整して用いた以外は実施例１と同様にして、ＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例４）
実施例１において、第一の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を１０．０質量部加え、かつ、第一の組成物１のＭＥＫとＩＰＡの比を変えずにこの２種の混合溶剤の量を減らし、第一の組成物１の粘度を１０９．５ｍＰａ・ｓに調整して用いた以外は実施例１と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例５）
実施例５において、第二の組成物４に増粘剤を使用せずに、粘度を２．５ｍＰａ・ｓに調整して用いた以外は実施例５と同様にして、ＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例６）
実施例１において、第二の組成物１に増粘剤（セルニー ＨＰＣ−Ｍ）を５．０質量部加え、かつ、第二の組成物１の溶剤の量を減らして粘度を１１０．３ｍＰａ・ｓに調整して用いた以外は実施例１と同様にしてＴＡＣ基材上に屈折率傾斜ＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例７）
ＴＡＣ基材上に、上記第一の組成物１をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量８０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて乾燥膜厚１２μｍのＨＣ層を形成した。
次いで、そのＨＣ層上に、上記低屈折率層用組成物１をスロットダイを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜にＨＣ層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、ＴＡＣ基材上に高屈折率微粒子を含まないＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例８）
比較例７において、低屈折率層用組成物１に代えて低屈折率層用組成物３を用いた以外は比較例７と同様にして、ＴＡＣ基材上に高屈折率微粒子を含まないＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例９）
ＴＡＣ基材上に、スロットダイコーターを用いて、第一の組成物１を塗布し、その塗膜を温度７０度の熱オーブン中で３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して硬化させ、膜厚７μｍの高屈折率微粒子を含まないＨＣ層を形成した。次いで、そのＨＣ層上に、第二の組成物１をスロットダイコーターを用いて塗布し、その塗膜を温度７０度の熱オーブン中で３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して、高屈折率微粒子を含むＨＣ層を形成し、上下２層の合計膜厚が１１μｍのＨＣ層を形成した。
次いで、そのＨＣ層上に、上記低屈折率層用組成物１を用いて実施例１と同様に乾燥膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、ＴＡＣ基材上にＴＡＣ基材側から、高屈折率微粒子を含まないＨＣ層、高屈折率微粒子を含むＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

（比較例１０）
比較例９において、低屈折率層用組成物１に代えて低屈折率層用組成物２を用いた以外は比較例９と同様にして、ＴＡＣ基材上にＴＡＣ基材側から、高屈折率微粒子を含まないＨＣ層、高屈折率微粒子を含むＨＣ層及び低屈折率層を有する光学フィルムを作製した。

上記実施例及び比較例の第一の組成物及び第二の組成物の種類、粘度、塗布方式及びウェット膜厚並びに用いたその他の組成物についてまとめたものを表１に示す。

（光学フィルムの評価）
上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ下記に示すように反射率について測定を行った。上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ下記に示すように干渉縞、密着性、面状（塗工スジの有無）、高屈折率微粒子の分布及び生産性（塗工適性と簡便性）の評価を行った。また、実施例８と９、比較例７〜１０について、耐ケン化性の評価を行った。その結果を表２に示す。

（反射率の測定）
反射率の測定は、日本分光（株）製の商品名Ｖ７１００型紫外可視分光光度計及び日本分光（株）製の商品名ＶＡＲ−７０１０絶対反射率測定装置を用いて、入射角を５°、偏光子をＮ偏光、測定波長範囲を３８０〜７８０ｎｍとして、光学フィルムのＴＡＣ基材側に黒テープを貼合し、それを装置に設置して測定を行った。なお、測定波長範囲にて求められた測定結果の平均値を反射率とした。

（干渉縞の評価）
フナテック（株）製の干渉縞検査ランプ（Ｎａランプ）を用い、目視にて検査し、下記基準で評価した。
○：干渉縞の発生がほとんど見られなかったもの
×：干渉縞がはっきり見えたもの

（密着性の評価）
上記実施例及び比較例の光学フィルムについて、それぞれ下記に示す碁盤目密着性試験の密着率の測定を行った。
（碁盤目密着性試験）
光学フィルムの低屈折率層側表面に１ｍｍ角で合計１００目の碁盤目を入れ、ニチバン（株）製工業用２４ｍｍセロテープ（登録商標）を用いて５回連続剥離試験を行い、下記基準に基づいて算出される剥がれずに残ったマス目の割合を求めた。
密着率（％）＝（剥がれなかったマス目の数／合計のマス目数１００）×１００

（面状の評価）
光学フィルムの外観の面状（塗工スジの有無）について目視により評価を行った。
○：塗工スジが見えなかったもの
△：塗工スジがぼんやり見えたもの
×：塗工スジがはっきり見えたもの

（屈折率傾斜ＨＣ層における高屈折率微粒子の分布）
光学フィルムの断面をＴＥＭ写真で観察し、屈折率傾斜ＨＣ層又はＨＣ層において高屈折率微粒子の全量の９０％が含まれる低屈折率層側界面からの膜厚の割合を求めた。

（生産性（塗工適性））
上記各実施例及び比較例において、塗工速度のみを変えたときのＴＡＣ基材への第一の組成物及び第二の組成物の塗工（塗布）適性を下記基準で評価した。
○：塗工速度１０ｍ／ｍｉｎ以上でも塗工スジを生じずに塗工が可能なもの
△：塗工スジを生じずに塗工可能な塗工速度が１ｍ／ｍｉｎ以下のもの
×：どのような速度でも塗工スジが生じてしまうもの

（耐ケン化性）
光学フィルムを、５５℃に保たれた、２規定の水酸化ナトリウム水溶液に入れ、２分浸漬させた。次いで、十分に水洗した後、７０℃で５分乾燥させた。次いで、＃００００番のスチールウールを用いて、摩擦荷重０．９８Ｎ（１００ｇｆ）にて、１０往復摩擦し、その後の低屈折率層の傷、剥がれの有無を目視し、下記基準で評価した。
○：低屈折率層に傷及び剥がれなし
×：低屈折率層に傷又は剥がれがあり

また、得られた反射率の結果と、実施例１〜９及び比較例１〜６の光学フィルムの屈折率傾斜ＨＣ層について、膜厚方向での屈折率をＸＰＳで測定した結果から、屈折率の傾斜を求めたところ、いずれの屈折率傾斜ＨＣ層も低屈折率層側の界面からＴＡＣ基材側の界面に向けて屈折率が連続的に低下していた。

上記実施例及び比較例について、同時塗布を行った実施例１〜９及び比較例１〜６では、工程数が少なく、簡便に光学フィルムの作製を行うことができた。
しかし、逐次塗工を行った比較例９及び１０では、組成物の塗布と光照射による硬化工程が複数回に及び簡便性の点で劣っていた。

（結果のまとめ）
表２より、実施例１〜７、比較例１〜６及び９の光学フィルムは良好な反射率が得られた。特に、屈折率傾斜ＨＣ層、高屈折率層及び低屈折率層の層構成の実施例７は低い反射率が得られた。
低屈折率層用組成物にフッ素系低屈折率材料を用いた実施例８及び９の光学フィルムでは、反射率がそれぞれ１．０１と０．７５となり、十分な反射防止性が得られた。特に、実施例９の光学フィルムでは中空シリカ微粒子を含まず、フッ素系低屈折率材料を用いても、中空シリカ微粒子を用いた比較例７の光学フィルムよりも低い反射率となった。実施例９の光学フィルムと比較例１０の光学フィルムを対比すると、いずれも同じ低屈折率層を有し、低屈折率層に隣接したＨＣ層に高屈折率微粒子を含むが、実施例９の光学フィルムの方が反射率が低かった。これは、実施例９の光学フィルムは屈折率傾斜ＨＣ層内において、低屈折率層側の界面付近を効率的に高屈折率化しているため、上層のＨＣ層全体に均一に高屈折率微粒子が分布している比較例１０の光学フィルムよりも低屈折率層と屈折率傾斜ＨＣ層の屈折率差を大きくすることができたためと推測される。
実施例１〜９及び比較例１〜８の光学フィルムは干渉縞の評価が良好だった。
しかし、逐次塗工により上下のＨＣ層を別個に形成した比較例９及び１０の光学フィルムでは、層界面が生じ、干渉縞が発生した。
実施例１〜９の光学フィルムは密着性と面状の評価が良好だった。
しかし、比較例１〜６の光学フィルムは実施例よりも密着性が低く、面状も塗工スジが生じてしまった。特に、比較例２、４及び６の光学フィルムの場合は、第一の組成物と第二の組成物の少なくとも一方の粘度が高過ぎ、塗工速度２０ｍ／ｍｉｎでは塗工スジが生じやすく、面状の評価が×となった。塗工スジが生じたことにより塗工面の状態が悪いため、比較例２、４及び６の光学フィルムでは密着性の評価結果も悪くなったと推測される。
比較例７及び８の光学フィルムは、密着性と面状の評価が良好であった。これは、第一の組成物１のみを用いて１回でＨＣ層を形成したためと推測される。
比較例９及び１０の光学フィルムは、面状の評価は良好であったが、密着性が不十分となった。これは、上下層を別個に形成したため、層界面での密着性が不十分になったためと推測される。
実施例の光学フィルムの屈折率傾斜ＨＣ層では、断面観察により高屈折率微粒子の９０％が屈折率傾斜ＨＣ層の低屈折率層側界面から７０％までの膜厚に存在していた。
しかし、比較例２以外の比較例１及び３〜６の光学フィルムでは高屈折率微粒子がＴＡＣ基材側界面に近い９０％や９５％の膜厚まで分布していた。
逐次塗工を行った比較例９及び１０の光学フィルムでは、上層側の高屈折率微粒子を含むＨＣ層の膜厚方向全体に均一に高屈折率微粒子が分布していた。
実施例の第一の組成物及び第二の組成物の粘度では生産性（塗工適性）が良好だった。
しかし、比較例１〜６では、塗工スジを生じずに生産できる塗工速度が低い、又は塗工速度を遅くしても塗工スジを生じてしまう結果となった。比較例７〜１０の光学フィルムは同時塗布を行っておらず、１種類の組成物を塗布するか、又は組成物を１種類ずつ塗布したため、塗工適性は良好だった。
低屈折率層に中空シリカ微粒子を含む比較例７及び９の光学フィルムは、耐ケン化性が不十分であった。これに対して、低屈折率層に中空シリカ微粒子を含まない実施例８及び９の光学フィルムは、十分な反射防止性と耐ケン化性を両立することができた。

１ 光学フィルム
１０ 光透過性基材
２０ 屈折率傾斜ハードコート層
３０ 高屈折率微粒子
４０ ダイコーターヘッド
５１、５２ スリット
６０ 第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物
７０ 第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物
８０ 低屈折率層
９０ 高屈折率微粒子
１００ 帯電防止層

Claims (22)

1. （ｉ）光透過性基材を準備する工程、
   （ｉｉ）第一のバインダー成分及び第一の溶剤を含み、高屈折率微粒子を含まず、粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓの第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物並びに平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子、第二のバインダー成分及び第二の溶剤を含み、粘度が１０〜１００ｍＰａ・ｓの第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を準備する工程、
   （ｉｉｉ）当該光透過性基材の一面側に、当該光透過性基材側から、当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び当該第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物を隣接して、当該第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物が当該第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物よりも当該光透過性基材側に位置するように同時塗布し、塗膜とする工程、
   （ｉｖ）前記（ｉｉｉ）工程で得られた塗膜に光照射を行い硬化させ屈折率傾斜ハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
2. 前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物及び／又は第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物が、さらに増粘剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 前記第一のハードコート層用硬化性樹脂組成物の粘度と前記第二のハードコート層用硬化性樹脂組成物の粘度の差の絶対値が、３０以下であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光学フィルムの製造方法。
4. 前記光透過性基材が、トリアセチルセルロース基材であり、前記第一の溶剤が当該トリアセチルセルロース基材への浸透性を有することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
5. 前記（ｉｖ）工程の後に、さらに（ｖ）前記屈折率傾斜ハードコート層上に、直接又は高屈折率層を介して低屈折率層を形成する工程、を含むことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
6. 硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含むことを特徴とする、請求項５に記載の光学フィルムの製造方法。
7. 硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、金属フッ化物及び硬化性フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料を含むことを特徴とする、請求項５に記載の光学フィルムの製造方法。
8. 硬化して前記低屈折率層を形成する低屈折率層用組成物が、中空シリカ微粒子を含まず、金属フッ化物及び硬化性フッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料を含むことを特徴とする、請求項７に記載の光学フィルムの製造方法。
9. 前記（ｉ）工程と（ｉｉｉ）工程の間に、さらに（ｖｉ）前記光透過性基材の屈折率傾斜ハードコート層を設ける面に帯電防止層を形成する工程、を含むことを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
10. 前記請求項１乃至９のいずれか一項に記載の方法により得られることを特徴とする、光学フィルム。
11. 光透過性基材の一面側に、少なくとも屈折率傾斜ハードコート層が設けられている光学フィルムであって、
    当該屈折率傾斜ハードコート層は、平均粒径１〜１００ｎｍの高屈折率微粒子を含み、
    当該屈折率傾斜ハードコート層において、当該屈折率傾斜ハードコート層の膜厚方向では、当該高屈折率微粒子の存在量が、当該光透過性基材側に近いほど少ないことを特徴とする、光学フィルム。
12. 前記屈折率傾斜ハードコート層において、前記光透過性基材とは反対側の界面から当該屈折率傾斜ハードコート層の膜厚の７０％までの領域に、前記高屈折率微粒子の全量の９０％以上が存在することを特徴とする、請求項１１に記載の光学フィルム。
13. 前記屈折率傾斜ハードコート層には増粘剤が含まれていることを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の光学フィルム。
14. 前記光透過性基材が、トリアセチルセルロース基材であり、前記屈折率傾斜ハードコート層を構成しているマトリクスが、当該トリアセチルセルロース基材の屈折率傾斜ハードコート層側の界面にも存在することを特徴とする、請求項１１乃至１３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
15. 前記屈折率傾斜ハードコート層の光透過性基材とは反対側の面に、さらに低屈折率層又は当該屈折率傾斜ハードコート層側から高屈折率層及び低屈折率層が設けられていることを特徴とする、請求項１１乃至１４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
16. 前記低屈折率層が、中空シリカ微粒子を含むことを特徴とする、請求項１５に記載の光学フィルム。
17. 前記低屈折率層が、金属フッ化物及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率成分を含むことを特徴とする、請求項１５に記載の光学フィルム。
18. 前記低屈折率層が、中空シリカ微粒子を含まず、金属フッ化物及びフッ素樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の低屈折率成分を含むことを特徴とする、請求項１７に記載の光学フィルム。
19. 前記光透過性基材と前記屈折率傾斜ハードコート層の間に、さらに帯電防止層が設けられていることを特徴とする、請求項１１乃至１８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
20. 前記光学フィルムを、５５℃に保たれた２規定の水酸化ナトリウム水溶液に入れ、２分浸漬させ、次いで、水洗した後、７０℃で５分乾燥させ、次いで、＃００００番のスチールウールを用いて摩擦荷重０．９８Ｎにて前記低屈折率層表面を１０往復摩擦した時、当該低屈折率層に傷及び剥がれがないことを特徴とする、請求項１８又は１９に記載の光学フィルム。
21. 偏光素子の一面側に、前記請求項１０乃至２０のいずれか一項に記載の光学フィルムを、当該光学フィルムの光透過性基材側を当該偏光素子に向けて配置してなることを特徴とする、偏光板。
22. 前記請求項１０乃至２０のいずれか一項に記載の光学フィルムを備えることを特徴とする、画像表示装置。

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