JP2011141184A - 検査装置および検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、ウエハからの散乱光の検出方法としてマルチアノードの検出器を使用し、欠陥検出用の検出器(マルチアノード)のデータを使用して、ウエハに照射されているビームの形状や半径方向とビーム長辺との回転ズレなどを算出して照射ビームの光軸調整を行う方法を提供する。さらに、上記補正データをもとに、回転や振幅の補正量を検査信号データにフィードバックさせ、検査データの補正を行う手段を設ける。本発明により、光学系の調整や信号処理による微細な補正が可能になるため、欠陥検出の位置精度および欠陥強度(欠陥寸法)の精度を向上させることができる。
【選択図】 図1
Description
光ビームの回転補正:
P(θ)=Ax+By …(式1)
x/y…二次元画像のXY座標
A/B…xおよびy方向の補正量(補正係数)
レベル(振幅)補正:
Z(c)=Gz+C …(式2)
z…二次元画像の各ポイントの振幅値
G/C…ゲイン補正係数およびシフト補正量
また、検査装置の構成は本実施例には限定されず、検出器は、CCD等の画素を複数有するセンサであっても良いし、楕円球を用いて散乱光を集光する方式を用いても良い。さらに、検査対象はウエハに限定されず、ハードディスク基板等であっても良い。
2 光源
3 照射光ビーム
4 マルチ光検出器
5 散乱光ビーム形状
6 放射状パターン
7 ビーム強度分布
10 増幅器
11 AD変換器
12 メモリ回路
13 散乱光検出処理回路
14 コントローラ
15 ビームの中心位置座標検出回路
16 欠陥位置補正回路
17 ビーム強度分布係数算出回路
18 ビーム強度補正回路
19 欠陥位置座標検出回路
20 GUIインタフェース
21 GUI表示例
401 R方向波形
601,602,603 散乱光強度二次元画像
701 強度一定照射ビーム
801 光軸補正機構
802 光軸調整制御回路
1200 欠陥
1203 光電子検出器
1205 被検査物体移動ステージ
1208 Zステージ
Claims (9)
- 基板を検査する検査装置において、
基板を移動する搬送系と、
前記基板に楕円形状の第1の光を照射する照射光学系と、
前記基板からの第2の光を検出するマルチアノード検出系と、
前記マルチアノード検出系の検出結果を用いて、前記第1の光の光軸を調整する調整部と、を有することを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記第1の光の長辺方向の長さは、前記搬送系の走査ピッチより長く、
前記マルチアノード検出系の検出素子の長さは、前記第2の光の長辺方向の長さより長いことを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記第1の光の強度の分布は、ガウス分布、または半径方向及びθ方向に一定な分布であることを特徴とする検査装置。 - 基板を検査する検査装置において、
基板を移動する搬送系と、
前記基板に楕円形状の第1の光を照射する照射光学系と、
前記基板からの第2の光を検出するマルチアノード検出系と、
前記マルチアノード検出系の検出結果を用いて、前記検出結果の補正を行う補正部と、を有することを特徴とする検査装置。 - 請求項4に記載の検査装置において、
前記第1の光の長辺方向の長さは、前記搬送系の走査ピッチより長く、
前記マルチアノード検出系の検出素子の長さは、前記第2の光の長辺方向の長さより長いことを特徴とする検査装置。 - 請求項4に記載の検査装置において、
前記補正部は、
前記第1の光の回転補正、または振幅補正を行うことを特徴とする検査装置。 - 請求項4に記載の検査装置において、
前記第1の光の強度の分布は、ガウス分布、または半径方向及びθ方向に一定な分布であることを特徴とする検査装置。 - 基板を検査する検査方法において、
前記基板に第1の光を照射し、
前記基板からの第2の光を検出し、
前記第2の光の分布を取得し、
前記第2の光の分布に基づいて、前記第1の光の光軸を調整することを特徴とする検査方法。 - 基板を検査する検査方法において、
前記基板に第1の光を照射し、
前記基板からの第2の光を検出し、
前記第2の光の分布を取得し、
前記第2の光の分布に基づいて、前記第2の光の検出結果を補正することを特徴とする検査方法。
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