JP2007225480A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007225480A JP2007225480A JP2006048124A JP2006048124A JP2007225480A JP 2007225480 A JP2007225480 A JP 2007225480A JP 2006048124 A JP2006048124 A JP 2006048124A JP 2006048124 A JP2006048124 A JP 2006048124A JP 2007225480 A JP2007225480 A JP 2007225480A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection object
- light
- inspection
- wafer
- inspection apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、被検査物に光を照射する光照射手段と、該被検査物から散乱される光を検出する光学系の第1光検出手段と、前記光照射手段から前記被検査物上に照射される光の位置が変るように該被検査物を縦横に移動させる被検査物移動手段と、前記被検査物を保持する被検査物保持手段と、前記光照射手段から前記被検査物上に照射される光の反射光を検出し、前記被検査物表面の高さ情報を取得し、前記情報を用いて前記光学系の光検出手段の焦点位置を補正する焦点位置補正手段と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
Claims (6)
- 被検査物に光を照射する光照射手段と、
該被検査物から散乱される光を検出する光学系の第1光検出手段と、
前記光照射手段から前記被検査物上に照射される光の位置が変るように該被検査物を縦横に移動させる被検査物移動手段と、
前記被検査物を保持する被検査物保持手段と、
前記光照射手段から前記被検査物上に照射される光の反射光を検出し、前記被検査物表面の高さ情報を取得し、前記情報を用いて前記光学系の光検出手段の焦点位置を補正する焦点位置補正手段と、
を備えたことを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記焦点位置補正手段は、前記光照射手段から前記被検査物上に照射される光の反射光を検出する第2光検出手段と、第2光検出手段に検出されてフィードバックされた前記被検査物表面の高さ情報を基づいて前記焦点位置と被検査物表面の高さが同一となるように制御する制御系を有することを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1記載の表面検査装置において、
前記被検査物からの反射光の量を光学素子等によって最適化する光量最適化手段を有することを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記被検査物の裏面が非接触の状態で測定するように前記被検査物の外周縁部を前記検査物保持手段で保持することを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記検査物保持手段の上下動作と、前記被検査物を裏面側から吸引する吸引制御とを併用して前記焦点位置の補正をすることを特徴とする表面検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記被検査物を回しながら一方向に移動させて被検査物を縦横に移動させることを特徴とする表面検査装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006048124A JP4668809B2 (ja) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | 表面検査装置 |
US11/709,873 US20070211241A1 (en) | 2006-02-24 | 2007-02-23 | Optical defect inspection apparatus |
US12/275,746 US7746461B2 (en) | 2006-02-24 | 2008-11-21 | Optical defect inspection apparatus |
US12/705,031 US7894052B2 (en) | 2006-02-24 | 2010-02-12 | Optical defect inspection apparatus |
US12/785,065 US8184283B2 (en) | 2006-02-24 | 2010-05-21 | Optical defect inspection apparatus |
US12/985,006 US20110102781A1 (en) | 2006-02-24 | 2011-01-05 | Optical defect inspection apparatus |
US13/433,035 US8472016B2 (en) | 2006-02-24 | 2012-03-28 | Optical defect inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006048124A JP4668809B2 (ja) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | 表面検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007225480A true JP2007225480A (ja) | 2007-09-06 |
JP4668809B2 JP4668809B2 (ja) | 2011-04-13 |
Family
ID=38547433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006048124A Expired - Fee Related JP4668809B2 (ja) | 2006-02-24 | 2006-02-24 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4668809B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009168479A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2010175551A (ja) * | 2010-03-05 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2011137678A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査方法及び検査装置 |
JP2011258880A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Canon Inc | 異物検査装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2012073204A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
WO2013111720A1 (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | シャープ株式会社 | 基板検査装置 |
JP2013181771A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Univ Of Tokyo | 裏返し法による形状測定方法及び装置 |
CN107863303A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-03-30 | 德淮半导体有限公司 | 缺陷检测方法 |
CN111879782A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-11-03 | 深圳中科飞测科技有限公司 | 检测装置及检测方法 |
WO2022219748A1 (ja) * | 2021-04-14 | 2022-10-20 | 株式会社日立ハイテク | 表面検査装置 |
CN117368098A (zh) * | 2023-08-22 | 2024-01-09 | 南京苏胜天信息科技有限公司 | 用于检测物体表面缺陷的系统及其方法 |
WO2024034071A1 (ja) * | 2022-08-10 | 2024-02-15 | 株式会社日立ハイテク | 試料の表面検査装置 |
WO2024079791A1 (ja) * | 2022-10-11 | 2024-04-18 | 株式会社日立ハイテク | 表面検査装置 |
JP7498973B2 (ja) | 2022-03-01 | 2024-06-13 | スガ試験機株式会社 | 光学特性測定器 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08110205A (ja) * | 1994-10-07 | 1996-04-30 | Topcon Corp | 回転体上の異物の位置座標測定装置 |
JPH10325711A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Hitachi Ltd | 検査方法およびその装置並びに半導体基板の製造方法 |
JPH11111819A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Asahi Kasei Micro Syst Co Ltd | ウェハーの固定方法及び露光装置 |
JP2001035893A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-02-09 | Hitachi Ltd | 回路パターンの検査装置 |
JP2003014438A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 基板検査装置および基板検査方法 |
JP2003229462A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 回路パターンの検査装置 |
JP2004325217A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Nikon Corp | 搬送装置 |
JP2004347361A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Seiko Epson Corp | 異物検査装置、異物検査方法および異物検査プログラム |
JP2005156537A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-06-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥観察方法及びその装置 |
-
2006
- 2006-02-24 JP JP2006048124A patent/JP4668809B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08110205A (ja) * | 1994-10-07 | 1996-04-30 | Topcon Corp | 回転体上の異物の位置座標測定装置 |
JPH10325711A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Hitachi Ltd | 検査方法およびその装置並びに半導体基板の製造方法 |
JPH11111819A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Asahi Kasei Micro Syst Co Ltd | ウェハーの固定方法及び露光装置 |
JP2001035893A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-02-09 | Hitachi Ltd | 回路パターンの検査装置 |
JP2003014438A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-15 | Nikon Corp | 基板検査装置および基板検査方法 |
JP2003229462A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 回路パターンの検査装置 |
JP2004325217A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Nikon Corp | 搬送装置 |
JP2004347361A (ja) * | 2003-05-20 | 2004-12-09 | Seiko Epson Corp | 異物検査装置、異物検査方法および異物検査プログラム |
JP2005156537A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-06-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥観察方法及びその装置 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8537351B2 (en) | 2008-01-11 | 2013-09-17 | Hitachi-High Technologies Corporation | Inspection apparatus and inspection method |
JP2009168479A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
US8203705B2 (en) | 2008-01-11 | 2012-06-19 | Hitachi-High Technologies Corporation | Inspection apparatus and inspection method |
JP2011137678A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査方法及び検査装置 |
JP2010175551A (ja) * | 2010-03-05 | 2010-08-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置及び検査方法 |
JP2011258880A (ja) * | 2010-06-11 | 2011-12-22 | Canon Inc | 異物検査装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2012073204A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-12 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
WO2013111720A1 (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-01 | シャープ株式会社 | 基板検査装置 |
JP2013181771A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Univ Of Tokyo | 裏返し法による形状測定方法及び装置 |
CN107863303A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-03-30 | 德淮半导体有限公司 | 缺陷检测方法 |
CN111879782A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-11-03 | 深圳中科飞测科技有限公司 | 检测装置及检测方法 |
CN111879782B (zh) * | 2020-06-30 | 2023-10-03 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | 检测装置及检测方法 |
WO2022219748A1 (ja) * | 2021-04-14 | 2022-10-20 | 株式会社日立ハイテク | 表面検査装置 |
JP7498973B2 (ja) | 2022-03-01 | 2024-06-13 | スガ試験機株式会社 | 光学特性測定器 |
WO2024034071A1 (ja) * | 2022-08-10 | 2024-02-15 | 株式会社日立ハイテク | 試料の表面検査装置 |
WO2024079791A1 (ja) * | 2022-10-11 | 2024-04-18 | 株式会社日立ハイテク | 表面検査装置 |
CN117368098A (zh) * | 2023-08-22 | 2024-01-09 | 南京苏胜天信息科技有限公司 | 用于检测物体表面缺陷的系统及其方法 |
CN117368098B (zh) * | 2023-08-22 | 2024-05-10 | 南京苏胜天信息科技有限公司 | 用于检测物体表面缺陷的系统及其方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4668809B2 (ja) | 2011-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4668809B2 (ja) | 表面検査装置 | |
KR101469403B1 (ko) | 하전 입자선 장치 | |
US8280664B2 (en) | XY-coordinate compensation apparatus and method in sample pattern inspection apparatus | |
US8537351B2 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP4886549B2 (ja) | 位置検出装置および位置検出方法 | |
JP2005249745A (ja) | 試料表面検査方法および検査装置 | |
JP2007188975A (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | |
JP2017107201A (ja) | 動的オートフォーカスシステム | |
JP2011141184A (ja) | 検査装置および検査方法 | |
KR20190100616A (ko) | 표면 결함 검사 장치 | |
US8766215B2 (en) | Charged particle beam drawing apparatus and method of manufacturing article | |
JP2005091342A (ja) | 試料欠陥検査装置及び方法並びに該欠陥検査装置及び方法を用いたデバイス製造方法 | |
JP5302934B2 (ja) | 試料表面検査方法および検査装置 | |
JP2007194419A (ja) | 露光処理方法及び、半導体装置の製造方法 | |
JP4041109B2 (ja) | 荷電粒子ビーム処理装置 | |
JP2011069676A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP2005175042A (ja) | 異物検査装置および異物検査方法 | |
JP2010142839A (ja) | レーザ加工状態検査方法及び装置並びにソーラパネル製造方法 | |
CN216208676U (zh) | 检测设备 | |
JP2009156574A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
US20240085811A1 (en) | Determining apparatus, pattern forming apparatus, and method for manufacturing article | |
WO2024022006A1 (zh) | 一种校准系统、测校工具及校准方法 | |
JP2022162408A (ja) | 異物検査装置、露光装置、および物品製造方法 | |
KR20230020903A (ko) | 가공 장치 및 진동 검출 방법 | |
JP6330211B2 (ja) | 平板基板の表面状態検査方法及びそれを用いた平板基板の表面状態検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100720 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100915 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110111 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |