JP2011258880A - 異物検査装置、それを用いた露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被検査物2、3に対して照明光を照射する照明手段7と、照明光の照射を受け、異物から発生する散乱光を受光する受光手段8と、被検査物を面方向、若しくは面に対する法線方向に駆動する第1駆動手段6と、照明手段7、受光手段8、及び第1駆動手段6の動作及び処理を制御する制御手段12とを備え、第1駆動手段6は、複数の被検査物2、3を個別に駆動が可能であり、受光手段8は、第1駆動手段6による駆動前後において散乱光を受光し、制御手段12は、駆動前後に検出された、それぞれの異物の検出結果に基づいて検出結果の変化を導出し、変化に基づいて複数の被検査物2、3のいずれの被検査物に異物が付着しているかを判定する。
【選択図】図1
Description
まず、本発明の実施形態に係る異物検査装置の構成について説明する。図1は、異物検査装置の構成を示す概略図である。以下、異物検査装置は、液晶表示装置等に使用されるガラス基板に対してパターンを投影露光するために採用される光透過性のマスク(原版)2、及び該マスク2の自重たわみを低減させるための平面ガラス(平面部材)3に付着した異物を検査するものとする。また、被検査物であるマスク2と平面ガラス3とは、従来と同様に予め重畳させて外周部で張り合わされ、マスク2に接して気密室(密閉空間)を構成している。また、異物検査装置1は、投影露光を実施する不図示の露光装置の露光処理部近傍、即ち、露光処理部に構成されるマスクステージ(保持手段)4の駆動範囲内に設置される。この異物検査装置1は、マスクステージ4の上部(露光処理時の投影光照射側)に位置するように配置される検出部5と、マスク2及び平面ガラス3の周囲に位置するように配置される第1駆動機構6とを備える。
次に、本発明の第2実施形態に係る異物検査装置について説明する。第1実施形態の異物検査装置1は、第2検査工程にて、第1駆動機構6を利用してマスク2又は平面ガラス3のどちらか一方を面方向に微小駆動させる。これに対して、本実施形態の異物検査装置は、第1駆動機構に対応するマスクたわみ補正機構(たわみ補正機構)を利用して、マスク2及び平面ガラス3をそれぞれの面に直交する方向に微小駆動させる。図6は、マスク2と平面ガラス3とによって囲まれた気密室内の気圧を制御し、外気圧差を利用して微小駆動させる従来のたわみ補正機構の構成を示す概略図である。なお、図6において、図1に示す異物検査装置1の構成と同一構成のものには同一の符号を付し、説明を省略する。また、たわみ補正機構20は、気密室21内の気圧を制御することによりマスク2のたわみ量を補正するたわみ補正手段であり、配管22を介して気密室21に連通した気圧制御部23を備える。ここで、気圧制御部23が、図6(a)に示す気密室21内の気圧制御前の状態から気圧制御を実施すると、図6(b)に示すように、マスク2及び平面ガラス3の両方でたわみが発生し、それぞれの面内でも場所により変化量が異なる。図7は、図3に対応し、図6(b)に示す状態で異物検査を実施した場合の異物の検出位置ずれを示す概念図である。このように、従来のたわみ補正機構20をそのまま利用して、上記第2検査工程のような異物検査を実施すると、図7に示すように、検出された異物の全ての検出位置がずれ、制御部12は、異物が付着している被検査物を判別することができない。
次に、本発明の第3実施形態に係る異物検査装置について説明する。本実施形態の特徴は、第2実施形態の異物検査装置30を利用し、第2実施形態に示す異物検査と同時に、マスク2のたわみ補正を実施する点にある。図13は、本実施形態の異物検査の流れを示すフローチャートである。なお、図13に示す異物検査において、図4に示す第1実施形態の異物検査、及び図12に示す第2実施形態の異物検査と同様のステップには同様の番号を付し、説明を省略する。まず、ステップS101に対応したステップS301の終了後、制御部12は、ステップS102と同様の第1検査工程を実施する(ステップS302A)。同時に、制御部12は、たわみ補正機構20により、マスク2のたわみ量の計測を実施する(ステップS302B)。次に、制御部12は、第2実施形態のステップS203と同様の第2検査工程を実施する(ステップS303)。このとき、制御部12は、たわみ補正機構20によりマスク2のたわみ量の計測を再度実施する。次に、制御部12は、たわみ補正機構20による駆動レンジが終了したかどうかを確認し(ステップS304)、終了したと判断した場合は(YES)、マスク2のたわみ量が規格内となる気圧を決定する(ステップS305)。一方、ステップS304にて、制御部12が駆動レンジは終了していないと判断した場合は(NO)、ステップS303に戻り、同様の処理を繰り返す。ステップS305の終了後のステップS306〜S310は、それぞれ図4に示す第1実施形態のステップS104〜S108と同一である。このように、本実施形態によれば、異物検査装置30による異物検査と、たわみ補正機構20によるマスク2のたわみ補正とを同時に実施するので、第1実施形態と同様の効果を奏すると共に、処理時間を短縮できる。
次に、本発明の異物検査装置を採用した露光装置について説明する。図14は、本実施形態に係る露光装置の構成を示す概略図である。なお、本実施形態では、ガラス基板に対する反射型投影光学系を用いたプロジェクション方式の露光装置を採用するものとして説明する。露光装置90は、マスクに形成されたパターン(例えば、TFT回路)を、感光剤が塗布された基板P上へ投影転写するものである。この露光装置90は、光源91からの光を導入する照明光学系92と、該照明光学系92からの光をマスク上に導く結像光学系93と、マスクを載置するマスクステージ94と、投影光学系95と、基板を載置する基板ステージ96とを備える。この場合、マスクは、上記実施形態で示す平面ガラス3を含むマスク2に相当する。この露光装置90において、マスクステージ94は、マスクを載置し保持しつつ、XY方向に移動可能なステージ装置であり、上記実施形態に示すマスクステージ4に相当する。投影光学系95は、該投影光学系95の内部に設置された反射鏡97で偏光特性を変化させつつ、マスクの照射領域に描画されたパターン像を基板上に結像させるものである。基板ステージ96は、基板を載置し保持しつつ、XYZの3次元方向に移動可能なステージ装置である。更に、露光装置90の近傍には、上記実施形態に係る異物検査装置1(30)が配置される。本実施形態の露光装置90によれば、マスク(マスク2及び平面ガラス3)に付着した異物を効率良く検出することができるので、良好な精度のデバイスを製造できると共に、処理時間を短縮できる。
次に、本発明の一実施形態のデバイス(半導体デバイス、液晶表示デバイス等)の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)と、パッケージング工程(封入)を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。
2 マスク
3 平面ガラス
6 第1駆動機構
7 照明部
8 受光部
12 制御部
Claims (15)
- 重畳する複数の被検査物に付着した異物を検査する異物検査装置であって、
前記被検査物に対して照明光を照射する照明手段と、
前記照明光の照射を受け、前記異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、
前記被検査物を面方向、若しくは面に対する法線方向に駆動する第1駆動手段と、
前記照明手段、前記受光手段、及び前記第1駆動手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記第1駆動手段は、前記複数の被検査物を個別に駆動が可能であり、
前記受光手段は、前記第1駆動手段による駆動前後において前記散乱光を受光し、
前記制御手段は、前記駆動前後に検出された、それぞれの前記異物の検出結果に基づいて前記検出結果の変化を導出し、前記変化に基づいて前記複数の被検査物のいずれの被検査物に前記異物が付着しているかを判定することを特徴とする異物検査装置。 - 前記検出結果の変化は、前記駆動前後の、前記異物の位置変化、前記異物の散乱光強度の変化、又は前記異物の検出像の変化のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の異物検査装置。
- 前記第1駆動手段は、前記複数の被検査物を前記面方向に駆動する駆動部を備え、前記複数の被検査物の前記面方向の相対位置を変更可能とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の異物検査装置。
- 前記複数の被検査物は、表面にパターンが形成された原版と、平面部材とであり、
前記第1駆動手段は、前記原版と前記平面部材とで構成された気密室内の気圧を制御して前記原版のたわみを補正するたわみ補正機構であり、前記気圧を制御することにより、前記法線方向に前記被検査物を駆動させることを特徴とする請求項1又は2に記載の異物検査装置。 - 前記平面部材は、前記原版と比較し、気圧変化に対する変形敏感度が小さくなるような剛性を有することを特徴とする請求項4に記載の異物検査装置。
- 前記平面部材の面の法線に対する前記受光手段の光軸角度は、前記受光手段が、前記照明光の正反射光を受光せず、また、前記原版及び前記平面部材に付着した前記異物からの散乱光のみを受光する角度を有し、かつ、前記制御手段が、前記異物の判定を可能とする程度に大きいことを特徴とする請求項4又は5に記載の異物検査装置。
- 更に、前記照明手段及び前記受光手段を、前記被検査物の表面に対して面方向に移動可能とする第2駆動手段と、
前記被検査物を保持し、該被検査物を面方向に移動可能とする保持手段と、を備え、
前記制御手段は、前記照明手段の光源の適正光量の決定、及び前記被検査物の面毎の感度曲線の作成を実施し、
次に、前記感度曲線に基づいて前記照明手段の光量を設定して、前記第1駆動手段による駆動の前に、前記被検査物の検査領域において前記異物を検出する第1検査工程を実施し、
次に、前記第1検査工程において前記異物が存在していると判断した場合、前記被検査物のいずれか、若しくは両方に対して前記第1駆動手段による駆動を行い、その後、再度、前記被検査物の検査領域において前記異物を検出する第2検査工程を実施し、
次に、前記第1検査工程と前記第2検査工程との検出結果の変化に基づいて、前記異物が、駆動させた被検査物の面に存在すると判定する第3検査工程を実施することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の異物検査装置。 - 前記感度曲線は、予め前記被検査物の面に大きさが既知の異物を配置して検出することで取得される、前記異物の大きさに対する、前記異物の散乱光強度、若しくは前記異物の検出像の大きさを示す情報であることを特徴とする請求項7に記載の異物検査装置。
- 前記制御手段は、前記第1検査工程と、前記たわみ補正機構による前記原版のたわみ補正とを同時に実施することを特徴とする請求項7又は8に記載の異物検査装置。
- 前記制御手段は、前記第1〜3検査工程に加えて、
前記第1及び第2検査工程による検査結果に基づいて、前記検査領域の前記異物の位置を特定する第4検査工程を実施し、
次に、前記感度曲線に基づいて、前記異物の大きさを算出する第5検査工程を実施することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の異物検査装置。 - 前記制御手段は、前記第3〜第5検査工程によるいずれかの検査結果を出力することを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載の異物検査装置。
- 前記制御手段は、前記第3〜第5検査工程によるいずれかの検査結果に基づいて、前記異物の付着部分をクリーニングするかどうかを判断することを特徴とする請求項7〜10のいずれか1項に記載の異物検査装置。
- パターンが形成された原版、及び前記原版のたわみを低減するために前記原版に接して密閉空間を構成する平面部材に付着した異物を検査する異物検査装置であって、
前記原版及び前記平面部材を照明する照明手段と、
前記異物から発生する散乱光を受光する受光手段と、
前記密閉空間を構成した状態を保ちながら、前記原版及び前記平面部材のうち少なくとも1つを駆動し、前記原版と前記平面部材との相対位置を変更する駆動手段と、を備え、
前記駆動手段による駆動前後で前記散乱光を受光した結果に基づいて、前記異物が前記原版及び前記平面部材のうちいずれに付着しているかを判定することを特徴とする異物検査装置。 - 原版に形成されたパターンを基板に露光する露光装置であって、
露光処理に際し、請求項1〜13のいずれか1項に記載の異物検査装置により、前記原版、若しくは前記原版に重畳された平面部材に付着した異物の検査を実施することを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI486579B (zh) * | 2012-10-26 | 2015-06-01 | Canon Kk | 偵測裝置,微影裝置,物品的製造方法以及偵測方法 |
JP2020051759A (ja) * | 2018-09-21 | 2020-04-02 | キヤノン株式会社 | 異物検査装置、露光装置、および物品製造方法 |
KR20230068305A (ko) | 2021-11-10 | 2023-05-17 | 캐논 가부시끼가이샤 | 이물 검사 장치, 노광 장치 및 물품 제조 방법 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62274248A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-11-28 | Canon Inc | 表面状態測定装置 |
JPH0627027A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-02-04 | Nikon Corp | 異物検査装置 |
JPH0734384U (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-23 | 株式会社ニコン | 距離測定装置 |
JP2002057097A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-22 | Nikon Corp | 露光装置、及びマイクロデバイス並びにその製造方法 |
JP2003186201A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査機能を備えた露光装置及びその装置における異物検査方法 |
JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2007225480A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置 |
JP2011174817A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Canon Inc | 異物検査装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2010
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62274248A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-11-28 | Canon Inc | 表面状態測定装置 |
JPH0627027A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-02-04 | Nikon Corp | 異物検査装置 |
JPH0734384U (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-23 | 株式会社ニコン | 距離測定装置 |
JP2002057097A (ja) * | 2000-05-31 | 2002-02-22 | Nikon Corp | 露光装置、及びマイクロデバイス並びにその製造方法 |
JP2003186201A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査機能を備えた露光装置及びその装置における異物検査方法 |
JP2006135087A (ja) * | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2007225480A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Hitachi High-Technologies Corp | 表面検査装置 |
JP2011174817A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Canon Inc | 異物検査装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI486579B (zh) * | 2012-10-26 | 2015-06-01 | Canon Kk | 偵測裝置,微影裝置,物品的製造方法以及偵測方法 |
JP2020051759A (ja) * | 2018-09-21 | 2020-04-02 | キヤノン株式会社 | 異物検査装置、露光装置、および物品製造方法 |
JP7292842B2 (ja) | 2018-09-21 | 2023-06-19 | キヤノン株式会社 | 異物検査装置、露光装置、および物品製造方法 |
KR20230068305A (ko) | 2021-11-10 | 2023-05-17 | 캐논 가부시끼가이샤 | 이물 검사 장치, 노광 장치 및 물품 제조 방법 |
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