JP5732637B2 - ウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置 - Google Patents
ウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5732637B2 JP5732637B2 JP2007147480A JP2007147480A JP5732637B2 JP 5732637 B2 JP5732637 B2 JP 5732637B2 JP 2007147480 A JP2007147480 A JP 2007147480A JP 2007147480 A JP2007147480 A JP 2007147480A JP 5732637 B2 JP5732637 B2 JP 5732637B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- light
- peripheral edge
- foreign matter
- apex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 title claims description 45
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
ウェハエッジ部の異常をレーザ光の照射と散乱光により検査する方法として、レーザ光の焦点をウェハエッジとしてレーザ光を照射し、ウェハエッジ周囲を走査し、これにより生じた散乱光を楕円鏡を用いて集光し、集光した散乱光の強度、及び周波数分析によりウェハエッジの欠陥や異物の付着の状況を検査する方法及び装置が開示されている(特許文献3)。
しかし、そのようにしたとしても楕円鏡が一定の幅と体積をとるため、装置が大型化したり、複雑な回転機構が必要になるという問題がある。更に、楕円鏡を用いた方式は一般的に感度が悪い。これは楕円鏡の精度が直接測定精度となるためであり、そのため、測定精度を上げるのには楕円鏡の精度を上げる必要があり、コスト高になるという問題がある。
なお、ウェハ回転時のウェハの上下動等振動を防止することは好適である。
試験体として、直径300mmのウェハを用いた。このウェハの周縁端の形状はブレット(弾丸)型であり、アペックス長は約0.3mm、ベベル長も約0.3mmである。レーザ光のウェハエッジにおけるスポット形状は、長さ32nm、最大幅0.8mmの細長い形状とした。ウェハを1m/秒の速度で回転させながら、アペックス部分にレーザ光を照射し、それにより得られた散乱光の強度を光電気変換した。その結果を示したグラフが図6である。
10 ウェハ
11 投光系
12 受光系
13 レーザ光
14 散乱光
15 基台
16 中心点
17 回転アーム
20 支持台
30 ガイド板
40 ガイド板制御機構
50 載置台
60 ベース
100 アンプ回路
101 コンパレータ
102 解析装置
Claims (3)
- 投光系により光をウェハ周縁端に照射し、受光系によりウェハ周縁端からの散乱光を検出し、検出した散乱光の強度からウェハ周縁端に付着する異物、及び/又は欠陥を検査するウェハ周縁端の異物検査方法において、
前記投光系により光を、ウェハ周縁端の厚み方向の中心点に向けて、前記中心点における法線に対して所定の角度で、前記ウェハ周縁端のアペックスの両端よりもそれぞれはみ出した細長の形状に成形して照射し、
前記投光系と固定され、集光レンズを備えた前記受光系により前記ウェハ周縁端からの散乱光を受光し、
前記受光系が受光する散乱光の強度に閾値を設定することにより、前記ウェハ周縁端のベベルからの散乱光を消去するとともに、
受光した散乱光の強度から、前記アペックスに付着する異物、及び/又は欠陥を検査することを特徴とするウェハ周縁端の異物検査方法。 - ウェハの周方向の一回転により、前記アペックスの全域について、前記アペックスに付着する異物、及び/又は欠陥の検出が完了することを特徴とする請求項1に記載のウェハ周縁端の異物検査方法。
- 前記光がレーザ光であることを特徴とする請求項1又は2に記載のウェハ周縁端の異物検査方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007147480A JP5732637B2 (ja) | 2007-06-01 | 2007-06-01 | ウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置 |
KR1020080035404A KR101440622B1 (ko) | 2007-06-01 | 2008-04-17 | 웨이퍼 주연 단부의 이물질 검사 방법 및 이물질 검사 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007147480A JP5732637B2 (ja) | 2007-06-01 | 2007-06-01 | ウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008298696A JP2008298696A (ja) | 2008-12-11 |
JP5732637B2 true JP5732637B2 (ja) | 2015-06-10 |
Family
ID=40172331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007147480A Active JP5732637B2 (ja) | 2007-06-01 | 2007-06-01 | ウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5732637B2 (ja) |
KR (1) | KR101440622B1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016115738A (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | エッチング処理方法及びベベルエッチング装置 |
US10249518B2 (en) * | 2015-03-04 | 2019-04-02 | Toshiba Memory Corporation | Polishing device and polishing method |
KR20190119803A (ko) | 2018-04-13 | 2019-10-23 | 주식회사 넥서스원 | 웨이퍼의 에지 영역 검사장치 및 검사방법 |
AU2019268718A1 (en) * | 2018-05-14 | 2020-11-26 | Yoshino Gypsum Co., Ltd. | Inspection device, plate-like object manufacturing device, inspection method, and plate-like object manufacturing method |
KR20190134275A (ko) | 2018-05-25 | 2019-12-04 | 주식회사 넥서스원 | 웨이퍼의 에지 영역 검사 시스템 및 검사 방법 |
JP7372173B2 (ja) * | 2020-02-20 | 2023-10-31 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板エッジ検査装置 |
KR102136084B1 (ko) | 2020-06-16 | 2020-08-13 | 주식회사 넥서스원 | 웨이퍼의 에지 영역 검사 시스템 |
KR102136085B1 (ko) | 2020-06-16 | 2020-07-23 | 주식회사 넥서스원 | 웨이퍼의 에지 영역 검사장치 |
JP7344491B2 (ja) * | 2021-01-19 | 2023-09-14 | 学校法人関西学院 | 加工変質層の評価方法及び半導体単結晶基板の製造方法 |
CN115931903B (zh) * | 2023-02-02 | 2023-05-26 | 苏州高视半导体技术有限公司 | 边缘检测镜头及系统 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6295849U (ja) * | 1985-12-06 | 1987-06-18 | ||
JPH10318933A (ja) * | 1997-05-16 | 1998-12-04 | Sony Corp | 基板欠損検出方法及びその装置 |
JP2001249016A (ja) * | 2000-03-06 | 2001-09-14 | Hitachi Ltd | 円板状基板エッジモニタ装置 |
JP2003090803A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Mitsubishi Electric Corp | 被処理基板欠陥検査装置、これを用いた半導体製造装置、及び被処理基板欠陥検査方法 |
JP2003177100A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-06-27 | Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp | 鏡面面取りウェーハの品質評価方法 |
JP3629244B2 (ja) * | 2002-02-19 | 2005-03-16 | 本多エレクトロン株式会社 | ウエーハ用検査装置 |
JP3936220B2 (ja) * | 2002-03-28 | 2007-06-27 | 株式会社レイテックス | 端部傷検査装置 |
TWI352645B (en) * | 2004-05-28 | 2011-11-21 | Ebara Corp | Apparatus for inspecting and polishing substrate r |
JP4663725B2 (ja) * | 2005-08-10 | 2011-04-06 | 株式会社レイテックス | 端部傷検査装置 |
-
2007
- 2007-06-01 JP JP2007147480A patent/JP5732637B2/ja active Active
-
2008
- 2008-04-17 KR KR1020080035404A patent/KR101440622B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008298696A (ja) | 2008-12-11 |
KR101440622B1 (ko) | 2014-09-15 |
KR20080105989A (ko) | 2008-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5732637B2 (ja) | ウェハ周縁端の異物検査方法、及び異物検査装置 | |
JP5355922B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP5349742B2 (ja) | 表面検査方法及び表面検査装置 | |
JP4875936B2 (ja) | 異物・欠陥検出方法および異物・欠陥検査装置 | |
US7791721B2 (en) | Surface inspection with variable digital filtering | |
TWI625519B (zh) | 表面檢驗方法及系統 | |
US20080218751A1 (en) | Inspection device and inspection method of an object to be inspected | |
JP3425590B2 (ja) | 端部傷検査方法およびその装置 | |
TWI663392B (zh) | 用於具有跟蹤邊緣輪廓之軌跡之晶圓邊緣檢查之系統及方法 | |
JP4876744B2 (ja) | 検査装置 | |
US10769769B2 (en) | Dual mode inspector | |
US8547547B2 (en) | Optical surface defect inspection apparatus and optical surface defect inspection method | |
US20130010290A1 (en) | Surface inspection device and surface inspection method | |
JP4974267B2 (ja) | ウェーハ外周検査方法 | |
JPH11230912A (ja) | 表面欠陥検出装置及びその方法 | |
JP3432273B2 (ja) | 異物検査装置及び異物検査方法 | |
JP5222635B2 (ja) | 被検査物の検査装置及び検査方法 | |
JP7017916B2 (ja) | 基板検査装置 | |
JP3505655B2 (ja) | ガラス容器検査装置 | |
JP2009156574A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP5668113B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP3627562B2 (ja) | シリコンウェーハ表面の微量有機物の評価方法 | |
JP4679995B2 (ja) | 欠陥検出方法及び装置 | |
KR101018207B1 (ko) | 빔 스캐너 및 표면 측정 장치 | |
JP2013164357A (ja) | 検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100521 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120320 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130708 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150125 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5732637 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |