JP2011126274A - 光学シート及びこれを用いたバックライトユニット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、透明な基材層、この基材層の一方の面側に積層される光学層、及び基材層の他方の面側に積層されるスティッキング防止層を備え、このスティッキング防止層の表面全面に微細凹凸形状を有する光学シートであって、上記スティッキング防止層の平均厚さが0.5μm以上4μm以下であり、上記スティッキング防止層表面の算術平均粗さ(Ra)が0.03μm以上0.3μm以下、粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)が40μm以上400μm以下であることを特徴とするものである。
【選択図】図1
Description
透明な基材層と、この基材層の一方の面側に積層される光学層と、基材層の他方の面側に積層されるスティッキング防止層とを備え、このスティッキング防止層の表面全面に微細凹凸形状を有する光学シートであって、
上記スティッキング防止層の平均厚さが0.5μm以上4μm以下であり、
上記スティッキング防止層表面の算術平均粗さ(Ra)が0.03μm以上0.3μm以下、粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)が40μm以上400μm以下であることを特徴とする。
エーテル類として、例えばテトラヒドロフラン等;
ジエチレングリコールアルキルエーテル類として、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等;
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等;
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類として、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等;
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類として、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等;
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類として、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等;
芳香族炭化水素類として、例えばトルエン、キシレン等;
ケトン類として、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等;
エステル類として、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3−ヒドロキシプロピオン酸メチル、3−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−ヒドロキシプロピオン酸プロチル、3−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸ブチル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル等をそれぞれ挙げることができる。これらの溶剤は、単独で又は混合して用いることができる。
例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、カルバゾール、キサントン、4−クロロベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、1,1−ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3'−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン系化合物、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−2−オン、2−(4−メチルベンジル)−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、トリフェニルアミン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリ−メチルペンチルフォスフィンオキサイド、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、ミヒラーケトン、3−メチルアセトフェノン、3,3',4,4'−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン等が挙げられる。このようなラジカル発生剤は、1種を単独で使用することもできるし、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
ポリエステルポリオールを基材ポリマーとするバインダー樹脂配合物(東洋紡績(株)の「バイロン」)100部、平均粒子径が20nmのコロイダルシリカ(扶桑化学工業(株)の「PL−1」)50部、硬化剤(日本ポリウレタン(株)の「コロネートHX」)5部及び光安定化剤(大塚化学(株)の「PUVA−1033」)5部を含むポリマー組成物中に、平均粒子径15μmのアクリル系樹脂ビーズ(積水化成品工業(株)の「MBX−15」)50部を混合して塗工液を作製し、この塗工液をロールコート法によって厚さ100μmの透明ポリエステル製の基材層(東洋紡績(株)の「A−4300」)の表面に15g/m2(固形分換算)塗工し、硬化させることで光学層を形成した。
スティッキング防止層用の塗工液の塗工量を0.5g/m2(固形分換算)としたこと以外は実施例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが0.7μmの実施例2の光学シートを得た。
スティッキング防止層用の塗工液の塗工量を1g/m2(固形分換算)としたこと以外は実施例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが1.4μmの実施例3の光学シートを得た。
スティッキング防止層用の塗工液の塗工量を1.5g/m2(固形分換算)としたこと以外は実施例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが2.1μmの実施例4の光学シートを得た。
スティッキング防止層用の塗工液の塗工量を2.5g/m2(固形分換算)としたこと以外は実施例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが3.5μmの実施例5の光学シートを得た。
スティッキング防止層用の塗工液として、ウレタンアクリレートを配合せず(他の成分は同様に配合)、この塗工液をロールコート法により上記基材層の裏面に2g/m2(固形分換算)塗工したこと以外は実施例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが2.8μmの比較例1の光学シートを得た。
スティッキング防止層用の塗工液の塗工量を3g/m2としたこと以外は、比較例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが4.2μmの比較例2の光学シートを得た。
ポリエステルポリオールを基材ポリマーとするバインダー樹脂配合物(東洋紡績(株)の「バイロン」)100部、平均粒子径が20nmのコロイダルシリカ(扶桑化学工業(株)の「PL−1」)50部、硬化剤(日本ポリウレタン(株)の「コロネートHX」)5部及び光安定化剤(大塚化学(株)の「PUVA−1033」)5部を含むポリマー組成物中に、平均粒子径5μmのアクリル系樹脂ビーズ(積水化成品工業(株)の「MBX−5」)10部を混合して塗工液を作製し、この塗工液をロールコート法により上記基材層の裏面に2g/m2(固形分換算)塗工し、硬化させることでスティッキング防止層を形成した以外は実施例1と同様にして、スティッキング防止層の平均厚さが3.0μmの比較例3の光学シートを得た。
上記実施例1〜5及び比較例1〜3の光学シートを用い、表面性状の算術平均粗さ(Ra)、粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)、十点平均粗さ(Rz)、二乗平均平方根粗さ(Rq)及び鉛筆硬度を測定し、また、これらの光学シートをバックライトユニットに組み込んだ際の正面輝度、及び光学シートが及ぼす他の光学シートへの影響(密着性、干渉縞の発生、傷付きの発生)を評価した。その結果を下記表1に示す。
◎:全く密着していない
○:密着している部分もある
△:一定程度密着している
×:強く密着している
◎:全く干渉縞が発生していない
○:注視してみるとわずかに干渉縞が確認できる
△:注視しなくとも干渉縞が確認できる
×:はっきりと干渉縞が確認できる
◎:全く傷付きが観測されない
○:わずかな傷付きが観測される
△:傷付きが観測される
×:はっきりと傷付きが観測される
実施例1において、スティッキング防止層用塗工液の成分であるアクリル樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びウレタンアクリレートの配合量を下記表2に示す通りとし、スティッキング防止層用塗工液の不揮発成分率を60質量%となるようにし、かつ形成されるスティッキング防止層の平均厚さが2μmになるようにした以外は、実施例1と同様にして、実施例6〜12の光学シートを得た。
上記得られた実施例6〜12の光学シートについて、上記と同様に、表面性状の算術平均粗さ(Ra)、粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)、十点平均粗さ(Rz)、二乗平均平方根粗さ(Rq)及び鉛筆硬度を測定し、また、これらの光学シートをバックライトユニットに組み込んだ際の正面輝度、及び光学シートが及ぼす他の光学シートへの影響(密着性、干渉縞の発生、傷付きの発生)を、上記評価基準に従い評価した。加えて、スティッキング防止層表面の各凸部分の平均高さ(h)、平均突起径(r1)、平均径(r2)、及び存在密度を測定した。各凸部分についての測定には、レーザー顕微鏡「VK−8500」(キーエンス社製)を用いた。その結果を下記表2に示す。
2 基材層
3 光学層
4 スティッキング防止層
5 バインダー
6 光拡散剤
7 微細凹凸形状
Claims (6)
- 透明な基材層と、この基材層の一方の面側に積層される光学層と、基材層の他方の面側に積層されるスティッキング防止層とを備え、このスティッキング防止層の表面全面に微細凹凸形状を有する光学シートであって、
上記スティッキング防止層の平均厚さが0.5μm以上4μm以下であり、
上記スティッキング防止層表面の算術平均粗さ(Ra)が0.03μm以上0.3μm以下、粗さ曲線要素の平均長さ(RSm)が40μm以上400μm以下であることを特徴とする光学シート。 - 上記スティッキング防止層表面の微細凹凸形状が、合成樹脂及びモノマー又はオリゴマーを溶質として含む硬化性組成物を塗布し硬化させることによって形成される請求項1に記載の光学シート。
- 上記スティッキング防止層表面の十点平均粗さ(Rz)の算術平均粗さ(Ra)に対する比(Rz/Ra)が3以上10以下である請求項1又は請求項2に記載の光学シート。
- 上記スティッキング防止層表面の二乗平均平方根粗さ(Rq)が0.04μm以上0.4μm以下である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の光学シート。
- 上記スティッキング防止層表面の鉛筆硬度がB以上5H以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学シート。
- ランプから発せられる光線を分散させて表面側に導く液晶表示装置用のバックライトユニットにおいて、
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学シートを備えていることを特徴とする液晶表示装置用のバックライトユニット。
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