TWI436103B - An optical sheet and a backlight unit using it - Google Patents

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TWI436103B
TWI436103B TW099139480A TW99139480A TWI436103B TW I436103 B TWI436103 B TW I436103B TW 099139480 A TW099139480 A TW 099139480A TW 99139480 A TW99139480 A TW 99139480A TW I436103 B TWI436103 B TW I436103B
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Tadayuki Nonaka
Kenichi Harada
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Description

光學片及使用其之背光單元
本發明係關於一種具有較高之防黏功能及防損傷功能之光學片及具備其之背光單元。
液晶顯示裝置廣泛用作電視或個人電腦等之畫面之顯示裝置，其大致分類為直接觀看顯示畫面之直視型及觀看放映於螢幕上之影像之投影型。直視型液晶顯示裝置有透射背光之光之透射型、不具有背光而使用自然光或室內燈等之反射光之反射型、以及於明處變成反射型而於暗處變成透射型之半透射型。另一方面，投影型液晶顯示裝置有於前方之螢幕上放映影像之前投型、以及於顯示機櫃(display cabinet)內安裝螢幕而放映影像之背投型(rear type)。今日一般所使用者，以直視型中透射型之液晶顯示裝置為主流。
於透射型液晶顯示裝置中，自背面照射液晶層之背光方式已普及，且於液晶層之下面側配備有端面照光(edge light)型(側光型)、直下型等之背光單元。該端面照光型之背光單元20通常如圖2所示，具備作為光源之燈21、以端部沿著該燈21之方式配置之方形板狀之導光板22、以及積層於該導光板22之表面側之複數片光學片23。作為光源之燈21係使用LED(發光二極體)或冷陰極管等，但就小型化及節能化之觀點等而言，現在普遍使用LED。該光學片23對於透射光線具有擴散、折射等光學功能，且使用有(1)配設於導光板22之表面側，且具有朝向法線方向側之折射功能之稜鏡片24；以及(2)配設於稜鏡片24之表面側，且主要具有光擴散功能之光擴散片25等。
又，雖未圖示，但亦有考慮到上述導光板22之導光特性或光學片23所具備之光學片之光學功能等而配設更多光擴散片或稜鏡片等光學片23的背光單元。
以下對該背光單元20之功能進行說明：首先，自燈21入射至導光板22之光線，係於導光板22內面之反射點或反射片(未圖示)及各側面反射而自導光板22表面出射。自導光板22出射之光線入射至稜鏡片24，藉由形成於表面之複數個突條之稜鏡部而朝法線方向側折射，並自表面出射。之後，自稜鏡片24表面出射之光線入射至光擴散片25，進行擴散而自表面出射，進而照明上方之未圖示之液晶層整面。
重疊配設於稜鏡片24表面之光擴散片25通常如圖2(b)所示，具備透明之合成樹脂製之基材層26、積層於該基材層26之表面之光學層27及積層於基材層26之內面之防黏層28。該光學層27通常構成為具有於黏合劑29中分散有樹脂珠粒30之結構，且對於透射光線發揮光擴散功能等。又，防黏層28具有於黏合劑31中隔開分散有少量之珠粒32且該珠粒32之下部自黏合劑31之內面突出之結構。該防黏層28防止下述不良情況：光擴散片25內面與其他光學片等(稜鏡片24)之表面密著(即黏著而產生干擾條紋)，或者於製造步驟中捲繞成輥狀加以保存時發生黏連(blocking)(附著)。再者，由於稜鏡部之頂點並非銳角而是形成有若干平面或曲面，故稜鏡片24之表面側與光擴散片25之內面側係面與面呈帶狀接觸，會於該帶狀面發生黏著。
分散於上述光擴散片25之防黏層28中之珠粒32，一般使用壓克力珠等，由於相對較硬質，故有時導致於內面突出之珠粒32對積層於該光擴散片25之內面側之稜鏡片24等之表面(稜鏡部頂點部分)造成損傷。又，分散於防黏層28中之珠粒32，由於與稜鏡片24之稜鏡部頂點部分接觸而脫落，該珠粒32之脫落部分亦成為損傷產生之主要原因。對該稜鏡片表面之損傷會導致液晶顯示裝置之亮度不均或正面亮度的下降。
因此，為防止積層於內面側之稜鏡片等或其他光學片或導光板之損傷，開發出於內面設置有防損傷層之光學片(參照日本特開2004-85626號公報等)，或者以塗佈液之形式進行塗佈並使其硬化而於表面形成微細凹凸之抗黏連性硬化性樹脂組成物(參照日本特開2007-182519號公報等)。
然而，於上述設置有防損傷層之光學片中，亦存在用以防止黏著之微細珠粒，因此無法充分防止對其他光學片等之損傷。又，於藉由上述抗黏連性硬化性樹脂組成物而於表面形成凹凸之情形時，存在下述不良情況：表面之凹凸過於微細而防黏功能不充分。
專利文獻1：日本專利特開2004-85626號公報
專利文獻2：日本專利特開2007-182519號公報
本發明係鑒於該等不良情況開發而成者，其目的在於提供一種可防止與積層於內面側之其他光學片等之黏著且可防止對該其他光學片等之表面造成損傷的光學片，以及使用該光學片而防止損傷所造成之亮度不均、干擾條紋之產生等之高品質的背光單元。
為解決上述課題開發而成之發明係一種光學片，其具備：透明之基材層、積層於該基材層之一面側之光學層、及積層於基材層之另一面側之防黏層，且於該防黏層之整個表面具有微細凹凸形狀，其特徵在於：上述防黏層之平均厚度為0.5μm以上4μm以下，上述防黏層表面之算術平均粗糙度(Ra)為0.03μm以上0.3μm以下，粗糙度曲線要素(roughness curve element)之平均長度(RSm)為40μm以上400μm以下。
於該光學片中，防黏層表面之算術平均粗糙度(Ra)及粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)為上述範圍之相對較小的值，藉此可較佳地防止與積層於防黏層側之其他片之黏著，並且可防止由該防黏層表面之微細凹凸形狀所引起之損傷。又，於該光學片中，防黏層之平均厚度薄至0.5μm以上4μm以下，因此可防止由於設置防黏層而導致之亮度下降。
上述防黏層表面之微細凹凸形狀較佳為藉由塗佈包含合成樹脂及單體或寡聚物作為溶質之硬化性組成物並使其硬化而形成。根據該光學片，藉由塗佈上述硬化性組成物並使其硬化而形成防黏層表面之微細凹凸形狀，藉此可形成具有所需之較佳厚度及表面粗糙度之防黏層。
上述防黏層表面之十點平均粗糙度(Rz)對於算術平均粗糙度(Ra)之比(Rz/Ra)較佳為3以上10以下。根據該光學片，將此比Rz/Ra設為小至上述範圍之值，藉此可均勻地具有高度相對均等之微細凹凸形狀，因此凹凸形狀之凸部分難以脫落，且可防止由於力集中於突出之部分而導致對其他光學片表面造成損傷。
上述防黏層表面之均方根粗糙度(Rq)較佳為0.04μm以上0.4μm以下。根據該光學片，防黏層表面之均方根粗糙度(Rq)具有小至上述範圍之值，藉此平緩地形成微細凹凸形狀之傾斜，從而凹凸形狀之凸部分尤其難以脫落，可防止積層之其他片之損傷。
上述防黏層表面之鉛筆硬度較佳為B以上5H以下。根據該光學片，防黏層表面之鉛筆硬度為B以上5H以下，藉此凹凸形狀之凸部分之脫落性下降，並且可有效發揮防黏功能，且可防止積層之其他片之損傷。
因此，於使燈所發出之光線分散而導引至表面側之液晶顯示裝置用背光單元中，若具備該光學片，則利用該光學片之較高之防損傷性，可防止由其他光學片等之損傷所引起之亮度不均之產生或干擾條紋之產生，可實現液晶顯示畫面之高品質化，並且製造、搬運、保存等時之操作變得容易。
此處，所謂「光學層」係下述概念：意指對於透射光線發揮特定光學功能之層，具體而言，符合的有(a)於黏合劑中具有光擴散劑之光擴散層；(b)具有藉由壓紋加工而大致均勻地形成於表面之微細凹凸之光擴散層；以及(c)以條狀具有三角柱狀之稜鏡部之稜鏡層等，且亦包括與基材層一定成形之情形。又，「算術平均粗糙度(Ra)」及「十點平均粗糙度(Rz)」係依據JISB0601-1994，「粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)」及「均方根粗糙度(Rq)」係依據JIS B0601-2001，且使截斷值λc為2.5mm、評價長度為12.5mm之值。所謂「鉛筆硬度」，係指依據JIS K5400之試驗方法8.4之鉛筆刮痕值。又，所謂「溶質」，係指巨觀狀態下穩定且均勻地溶解於溶劑中之成分，但並不限定於單分子無秩序地分散、混合於溶劑中者。即，溶質亦包括藉由分子間之相互作用而彼此吸引而成之聚集體(藉由聚集而形成之多聚體分子、溶劑合分子、分子簇、膠體粒子等)等分散於溶劑中者。
如上說明般，本發明之光學片藉由將防黏層表面之算術平均粗糙度(Ra)及粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)抑制為相對較小之值之範圍內，進而調整防黏層之其他表面形狀等，而可確保與其他光學片等之防黏功能，並可防止對該其他光學片等之表面造成損傷。又，本發明之背光單元可防止由光學片、導光板等之損傷所導致之亮度不均或干擾條紋之產生，且製造、搬運、保存等時之操作變得容易。
以下，一邊適當參照圖式，一邊對本發明之實施形態進行詳細說明。
圖1之光學片1具備基材層2、積層於該基材層2之一面側之光學層3及積層於該基材層2之另一面側之防黏層4。
基材層2必須透射光線，因此由透明、尤其是無色透明之玻璃或合成樹脂所形成。用於該基材層2之合成樹脂，並無特別限定，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚烯烴、乙酸纖維素、耐候性氯乙烯等。其中，較佳為透明性優異且強度較高之聚對苯二甲酸乙二酯，尤佳為彎曲性能經改善之聚對苯二甲酸乙二酯。
基材層2之厚度(平均厚度)並無特別限定，例如設為10μm以上500μm以下，較佳為35μm以上250μm以下，尤佳為50μm以上188μm以下。若基材層2之厚度未達上述範圍，則於塗佈用以形成光學層3之樹脂組成物時容易產生捲曲，操作變得困難等不良情況。反之，若基材層2之厚度超出上述範圍，則有時液晶顯示裝置之亮度下降，且亦導致背光單元之厚度增加，與液晶顯示裝置之薄型化之要求相反。
光學層3具有黏合劑5及分散於該黏合劑5中之光擴散劑6。如此使光擴散劑6分散於光學層3中，藉此可使自內面側至表面側穿透該光學層3之光線均勻地擴散。又，藉由光擴散劑6而於光學層3之表面大致均勻地形成微細凹凸，該微細凹凸之各凹部及凸部形成為透鏡狀。藉由該微細凹凸之透鏡作用，該光學片1發揮優異之光擴散功能，且由於該光擴散功能而亦具有使透射光線向法線方向側折射之折射功能及使透射光線向法線方向巨觀地聚光之聚光功能。再者，光學層3之厚度(係指除光擴散劑6以外之黏合劑5部分之厚度)並無特別限定，例如設為10μm以上30μm以下之程度。又，黏合劑5需要透射光線，因此設為透明，尤佳為無色透明。
光擴散劑6係具有使光線擴散之性質之粒子，其大致區分為無機填料及有機填料。無機填料，具體而言可使用二氧化矽、氫氧化鋁、氧化鋁、氧化鋅、硫化鋇、矽酸鎂或其等之混合物。有機填料之具體材料，可使用丙烯酸樹脂、丙烯腈樹脂、聚胺酯(polyurethane)、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚丙烯腈等。其中，較佳為透明性較高之丙烯酸樹脂，尤佳為聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
光擴散劑6之形狀並無特別限定，例如可列舉球狀、立方狀、針狀、棒狀、紡錘形狀、板狀、鱗片狀、纖維狀等，其中，較佳為光擴散性優異之球狀珠粒。
光擴散劑6之平均粒徑之下限，較佳為1μm，尤佳為2μm，進而較佳為5μm，光擴散劑6之平均粒徑之上限，較佳為50μm，尤佳為20μm，進而較佳為15μm。其原因在於：若光擴散劑6之平均粒徑未達上述範圍，則有由光擴散劑6所形成之光學層3表面之凹凸變小，未滿足作為光學片所需之光擴散性之虞，反之，若光擴散劑6之平均粒徑超出上述範圍，則光學片1之厚度增大且難以均勻擴散。
光擴散劑6之摻合量(相對於作為黏合劑5之形成材料之聚合物組成物中之基材聚合物100份的固形物換算的摻合量)之下限，較佳為10份，尤佳為20份，進而較佳為50份，該摻合量之上限，較佳為500份，尤佳為300份，進而較佳為200份。其原因在於：若光擴散劑6之摻合量未達上述範圍，則光擴散性不充分，另一方面，若光擴散劑6之摻合量超出上述範圍，則固定光擴散劑6之效果下降。再者，於配設在稜鏡片之表面側之所謂上用光學片之情形時，無需較高之光擴散性，因此光擴散劑6之摻合量，較佳為10份以上40份以下，尤佳為10份以上30份以下。
黏合劑5係藉由使包含基材聚合物之聚合物組成物進行硬化(交聯等)而形成。藉由該黏合劑5，而於基材層2之整個表面大致等密度地配置固定有光擴散劑6。再者，用以形成該黏合劑5之聚合物組成物中，除此以外，例如亦可適當摻合微小無機填充劑、硬化劑、塑化劑、分散劑、各種調平劑、防靜電劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、黏性改質劑、潤滑劑、光穩定劑等。
上述基材聚合物，並無特別限定，例如可列舉丙烯酸系樹脂、聚胺酯、聚酯、氟系樹脂、矽酮系樹脂、聚醯胺醯亞胺、環氧樹脂、紫外線硬化型樹脂等，該等聚合物可使用1種，或者可將2種以上混合使用。上述基材聚合物，尤佳為加工性較高，可利用塗佈等手段容易地形成光學層3之多元醇。又，用於黏合劑5之基材聚合物需要透射光線，因此設為透明，尤佳為無色透明。
上述多元醇，例如可列舉將包含含有羥基之不飽和單體之單體成分聚合所獲得之多元醇、於羥基過量之條件下所獲得之聚酯多元醇等，該等可以單體使用，或者可將2種以上混合使用。
該含有羥基之不飽和單體，可列舉：(a)例如丙烯酸-2-羥乙酯、丙烯酸-2-羥丙酯、甲基丙烯酸-2-羥乙酯、甲基丙烯酸-2-羥丙酯、烯丙醇、高烯丙醇(homoallyl alcohol)、桂皮醇、巴豆醇等含有羥基之不飽和單體；(b)藉由例如乙二醇、環氧乙烷、丙二醇、環氧丙烷、丁二醇、環氧丁烷、1,4-雙(羥甲基)環己烷、苯基縮水甘油醚、癸酸縮水甘油酯(glycidyl decanoate)、PLACCEL FM-1(Daicel化學工業股份有限公司製造)等二元醇或環氧化合物，與例如丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、伊康酸等不飽和羧酸之反應所獲得的含有羥基之不飽和單體等。可將選自該等含有羥基之不飽和單體之1種或2種以上進行聚合而製造多元醇。
又，亦可將選自丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸三級丁酯、丙烯酸乙基己酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸三級丁酯、甲基丙烯酸乙基己酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸環己酯、苯乙烯、乙烯基甲苯、1-甲基苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、乙酸烯丙酯、己二酸二烯丙酯、伊康酸二烯丙酯、順丁烯二酸二乙酯、氯乙烯、二氯亞乙烯、丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、N-丁氧基甲基丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺、乙烯、丙烯、異戊二烯等之1種或2種以上之乙烯性不飽和單體，與選自上述(a)及(b)之含有羥基之不飽和單體進行聚合而製造多元醇。
將包含該含有羥基之不飽和單體之單體成分聚合所獲得之多元醇之數量平均分子量為1000以上500000以下，較佳為5000以上100000以下。又，其羥值為5以上300以下，較佳為10以上200以下，進而較佳為20以上150以下。
於羥基過量之條件下所獲得之聚酯多元醇可藉由如下方式而製造：使(c)例如乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、新戊二醇、六亞甲二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、三羥甲基丙烷、己三醇、甘油、新戊四醇、環己二醇、氫化雙酚A、雙(羥甲基)環己烷、對苯二酚雙(羥乙醚)、三(羥乙基)三聚異氰酸酯(tris(hydroxyethyl)isocyanurate)、茬二醇等多元醇，與(d)例如順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁二酸、己二酸、癸二酸、壬二酸、偏苯三酸(trimellitic acid)、對苯二甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸等多元酸，於丙二醇、己二醇、聚乙二醇、三羥甲基丙烷等多元醇中之羥基數多於上述多元酸之羧基數之條件下進行反應。
該於羥基過量之條件下所獲得之聚酯多元醇之數量平均分子量為500以上300000以下，較佳為2000以上100000以下。又，其羥值為5以上300以下，較佳為10以上200以下，進而較佳為20以上150以下。
用作該聚合物組成物之基材聚合物的多元醇，較佳為上述聚酯多元醇、及將包含上述含有羥基之不飽和單體之單體成分聚合所獲得的具有(甲基)丙烯酸單元等之丙烯酸多元醇。以該聚酯多元醇或丙烯酸多元醇為基材聚合物之黏合劑5的耐候性較高，可抑制光學層3之黃變等。再者，可使用該聚酯多元醇及丙烯酸多元醇之任一者，亦可使用兩者。
再者，上述聚酯多元醇及丙烯酸多元醇中之羥基個數只要為每一個分子中為2個以上，則無特別限定，但若固形物中之羥值為10以下，則存在交聯點數減少，耐溶劑性、耐水性、耐熱性、表面硬度等被膜物性下降之傾向。
上述基材聚合物，較佳為具有環烷基之多元醇。如此，藉由於構成黏合劑5之基材聚合物(多元醇)中導入環烷基，而黏合劑5之拒水性、耐水性等疏水性增強，且高溫高濕條件下之該光學片1之耐彎曲性、尺寸穩定性等得以改善。又，光學層3之硬度、耐候性、厚度感、耐溶劑性等塗膜基本性能提高。進而，與下述於表面固定著有機聚合物之微小無機填充劑之親和性及微小無機填充劑之均勻分散性更加良好。
上述環烷基，並無特別限定，例如可列舉環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環壬基、環癸基、環十一烷基、環十二烷基、環十三烷基、環十四烷基、環十五烷基、環十六烷基、環十七烷基、環十八烷基等。
具有上述環烷基之多元醇，係藉由將具有環烷基之聚合性不飽和單體進行共聚合而獲得。該具有環烷基之聚合性不飽和單體，係指分子內具有至少1個環烷基之聚合性不飽和單體。該聚合性不飽和單體，並無特別限定，例如可列舉(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三級丁基環己酯、(甲基)丙烯酸環十二烷酯等。
如上所述，於使用多元醇作為基材聚合物之情形時，可於上述聚合物組成物中包含聚異氰酸酯化合物作為硬化劑。該聚異氰酸酯化合物係將二異氰酸酯進行聚合而成之二聚物、三聚物、四聚物等衍生物。藉由摻合該聚異氰酸酯化合物而聚合物組成物之硬化反應速度增加，因此即便於聚合物組成物中包含有助於微小無機填充劑之分散穩定性之陽離子系防靜電劑，亦可充分彌補陽離子系防靜電劑所引起之硬化反應速度之下降，可進一步提高生產性。
上述聚異氰酸酯化合物，較佳為二甲苯二異氰酸酯(xylylene diisocyanate)衍生物或該二甲苯二異氰酸酯衍生物與脂肪族二異氰酸酯衍生物之混合物。該二甲苯二異氰酸酯衍生物，其聚合物組成物之反應速度提昇效果較強，且於芳香族二異氰酸酯衍生物中由熱或紫外線所引起之黃變及劣化相對較小，因此可減少該光學片1之光線透射率之隨時間下降。另一方面，脂肪族二異氰酸酯衍生物雖相較於芳香族二異氰酸酯衍生物，反應速度提昇效果較小，但由紫外線等所引起之黃變、劣化等非常小，因此可藉由與二甲苯二異氰酸酯衍生物混合而平衡良好地實現反應速度提昇效果及黃變等之防止效果。
該脂肪族二異氰酸酯衍生物，較佳為異佛酮二異氰酸酯衍生物及六亞甲基二異氰酸酯衍生物。該異佛酮二異氰酸酯衍生物及六亞甲基二異氰酸酯衍生物係於脂肪族二異氰酸酯衍生物中硬化反應速度提昇作用相對較強，而可促進上述生產性及耐熱性。
上述二異氰酸酯衍生物之型式，較佳為TMP加成物型、三聚異氰酸酯型或縮二脲型。根據該等型式之衍生物，可有效增強上述硬化反應速度。
上述聚異氰酸酯化合物之摻合量(相對於聚合物組成物中之聚合物成分100份之固形物換算的摻合量)之下限，較佳為2份，尤佳為5份。另一方面，硬化劑之上述摻合量之上限，較佳為20份，尤佳為15份。藉由如此將聚異氰酸酯化合物之摻合量設為上述範圍，可有效發揮上述聚合物組成物之硬化反應速度提昇作用。
又，較佳為於上述聚合物組成物中含有微小無機填充劑。藉由使微小無機填充劑分散包含於黏合劑5中，可提高光學層3甚至該光學片1整體之耐熱性，其結果，就背光單元而言，即便暴露於燈之熱或空氣中之濕氣中，亦可明顯抑制該光學片1之變形。
構成該微小無機填充劑之無機物，並無特別限定，尤佳為無機氧化物。將該無機氧化物定義為：金屬元素主要經由與氧原子之結合而構成三維網狀結構之各種含氧金屬化合物。又，構成無機氧化物之金屬元素，例如較佳為選自元素週期表II～VI族之元素，進而較佳為選自元素週期表III～V族之元素。其中，尤佳為選自Si、Al、Ti及Zr之元素，作為微小無機填充劑，最佳為金屬元素為Si之矽酸膠。又，微小無機填充劑之形狀可為球狀、針狀、板狀、鱗片狀、破碎狀等任意之粒子形狀，而並無特別限定。
微小無機填充劑之平均粒徑之下限，較佳為5nm，尤佳為10nm。另一方面，微小無機填充劑之平均粒徑之上限，較佳為50nm，尤佳為25nm。其原因在於：若微小無機填充劑之平均粒徑未達上述範圍，則微小無機填充劑之表面能量增強，容易引起凝聚等，反之，若平均粒徑超出上述範圍，則有由於短波長之影響而引起白濁，光學片1之透明性下降之虞。
微小無機填充劑(僅無機物成分)之摻合量(相對於聚合物組成物中之聚合物成分100份之固形物換算的摻合量)之下限，較佳為10份，尤佳為50份。另一方面，微小無機填充劑之上述摻合量之上限，較佳為500份，尤佳為200份。其原因在於：若微小無機填充劑之摻合量未達上述範圍，則有無法充分表現光學片1之耐熱性之虞，反之，若摻合量超出上述範圍，則有難以摻合於聚合物組成物中，光學層3之光線透射率下降之虞。
微小無機填充劑，較佳為使用於其表面固定著有機聚合物者。如上所述，藉由使用有機聚合物固定微小無機填充劑，可提高黏合劑5中之分散性或與黏合劑5之親和性。關於該有機聚合物，其分子量、形狀、組成、官能基之有無等並無特別限定，可使用任意有機聚合物。又，關於有機聚合物之形狀，可使用直鏈狀、支鏈狀、交聯結構等任意形狀者。
構成該有機聚合物之具體樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸樹脂、聚苯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯或聚丙烯等聚烯烴、聚氯乙烯、聚二氯亞乙烯、聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯及其等之共聚物或由胺基、環氧基、羥基、羧基等官能基改質一部分之樹脂等。其中，以(甲基)丙烯酸系樹脂、(甲基)丙烯酸-苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸-聚酯系樹脂等具有(甲基)丙烯酸單元之有機聚合物為必須成分者具有被膜形成能力，而較佳。另一方面，較佳為與上述聚合物組成物之基材聚合物具有相溶性之樹脂，因此最佳為與聚合物組成物中所包含之基材聚合物為相同組成者。
再者，微小無機填充劑亦可於微粒子內包含有機聚合物。藉此，可對作為微小無機填充劑之核心的無機物賦予適當之柔軟度及韌性。
上述有機聚合物較佳為使用含有烷氧基者，其含量，較佳為每1g之固定著有機聚合物之微小無機填充劑中為0.01mmol以上50mmol以下。藉由該烷氧基，可提高與構成黏合劑5之基質(matrix)樹脂之親和性或於黏合劑5中之分散性。
此處之烷氧基表示與形成微粒子骨架之金屬元素結合之RO基。該R為亦可被取代之烷基，微粒子中之RO基既可相同亦可不同。R之具體例，可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等。較佳為使用與構成微小無機填充劑之金屬相同之金屬烷氧基，於微小無機填充劑為矽酸膠之情形時，較佳為使用以矽作為金屬之烷氧基。
關於上述固定著有機聚合物之微小無機填充劑中之有機聚合物之含有率，並無特別限制，較佳為以微小無機填充劑為基準而為0.5質量%以上50質量%以下。
如上所述，較佳為：使用具有羥基者作為固定於微小無機填充劑之有機聚合物，並於構成黏合劑5之聚合物組成物中包含選自具有2個以上與羥基反應之官能基之多官能異氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物及胺基塑膠樹脂中之至少1種。藉此，微小無機填充劑與黏合劑5之基質樹脂以交聯結構結合，從而保存穩定性、耐污染性、可撓性、耐候性、保存穩定性等變得良好，進而所獲得之被膜具有光澤。
上述多官能異氰酸酯化合物，可列舉脂肪族、脂環族、芳香族及其他多官能異氰酸酯化合物或其等之改質化合物。多官能異氰酸酯化合物之具體例，例如可列舉：甲苯二異氰酸酯(tolylene diisocyanate)、二甲苯二異氰酸酯(xylylene diisocyanate)、二苯甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、2,2,4-三甲基己基甲烷二異氰酸酯、甲基環己烷二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯之縮二脲體、三聚異氰酸酯體等三聚物等；藉由該等多官能異氰酸酯類與丙二醇、己二醇、聚乙二醇、三羥甲基丙烷等多元醇之反應所生成之殘存2個以上之異氰酸酯基之化合物；以乙醇、己醇等醇類，苯酚、甲酚等具有酚性羥基之化合物，丙酮肟、甲乙酮肟等肟類，ε-己內醯胺、γ-己內醯胺等內醯胺類等阻斷劑，將該等多官能異氰酸酯化合物封端而得之封端多官能異氰酸酯化合物等。再者，上述多官能異氰酸酯化合物可使用1種，或者可將2種以上混合使用。其中，為防止被膜之黃變色，較佳為不具有直接鍵結於芳香環之異氰酸酯基之無黃變性多官能異氰酸酯化合物。
上述三聚氰胺化合物，例如可列舉二羥甲基三聚氰胺、三羥甲基三聚氰胺、四羥甲基三聚氰胺、五羥甲基三聚氰胺、異丁醚型三聚氰胺、六羥甲基三聚氰胺、正丁醚型三聚氰胺、丁基化苯代三聚氰胺(benzoguanamine)等。
上述胺基塑膠樹脂，例如可列舉烷基醚化三聚氰胺樹脂、脲樹脂、苯代三聚氰胺樹脂等，可使用該等胺基塑膠樹脂之單體或2種以上之混合物或者共縮合物。該烷基醚化三聚氰胺樹脂，係指將胺基三嗪(aminotriazine)進行羥甲基化，並以環己醇或碳數為1～6之烷醇進行烷基醚化所得者，具代表性的是丁醚化三聚氰胺樹脂、甲醚化三聚氰胺樹脂、甲基丁基混合三聚氰胺樹脂。又，可使用用以促進硬化之磺酸系觸媒，例如對甲苯磺酸及其胺鹽等。
又，可於聚合物組成物中包含防靜電劑。該防靜電劑，並無特別限定，例如可使用烷基硫酸鹽、烷基磷酸鹽等陰離子系防靜電劑，第四銨鹽、咪唑磷化合物等陽離子系防靜電劑，聚乙二醇系、聚氧乙烯山梨醇酐單硬脂酸酯、乙醇醯胺類等非離子系防靜電劑，聚丙烯酸等高分子系防靜電劑等。其中，較佳為防靜電效果相對較大，且不阻礙微小無機填充劑之分散狀態之穩定性的陽離子系防靜電劑。又，於該陽離子系防靜電劑中，尤佳為可進一步促進對於上述高疏水性之黏合劑5之防靜電性的銨鹽及甜菜鹼。
上述防靜電劑之摻合量(相對於聚合物組成物中之聚合物成分100份之固形物換算之摻合量)之下限，較佳為0.1份，尤佳為0.5份。另一方面，防靜電劑之上述摻合量之上限，較佳為10份，尤佳為5份。其原因在於：若防靜電劑之摻合量小於上述下限，則有無法充分發揮上述防靜電效果之虞，反之，若防靜電劑之上述摻合量超過上述上限，則有由於摻合防靜電劑而產生全光線透射率下降或強度下降等不良情況之虞。
防黏層4係於整個表面具有微細凹凸形狀7。因此，若將該光學片1重疊配設於稜鏡片等其他光學片或導光板等之表面，則微細凹凸形狀7之凸部部分抵接於其他光學片等之表面，從而不會是光學片1之整個內面(防黏層4側之面)與其他光學片表面等抵接。藉此，可防止光學片1與其他光學片等之黏著，抑制液晶顯示裝置之畫面之亮度不均。
防黏層4之平均厚度之下限，設為0.5μm，尤佳為1μm，進而較佳為1.5μm。另一方面，防黏層4之平均厚度之上限，設為4μm，尤佳為3.5μm，進而較佳為3μm。若防黏層4之平均厚度小於上述下限，則藉由塗佈及硬化下述樹脂及單體或寡聚物而形成微細凹凸形狀7時，難以形成充分大小之凹凸形狀。反之，若防黏層4之平均厚度超過上述上限，則該防黏層4造成之光吸收量增加，因此光線透射率下降。
防黏層4表面之算術平均粗糙度(Ra)之下限，設為0.03μm，尤佳為0.05μm，進而較佳為0.08μm。另一方面，該算術平均粗糙度(Ra)之上限，設為0.3μm，尤佳為0.25μm，進而較佳為0.2μm。若防黏層4表面之算術平均粗糙度(Ra)小於上述下限，則微細凹凸形狀7變小，因此有凸部以外之部分亦與其他光學片等之表面抵接而未發揮防黏功能之虞。反之，若防黏層4表面之算術平均粗糙度(Ra)超過上述上限，則有凹凸形狀變粗糙而對配設於內面之其他光學片等之表面造成損傷之虞。
防黏層4表面之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)之下限，設為40μm，尤佳為80μm，進而較佳為120μm。另一方面，該粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)之上限，設為400μm，尤佳為280μm，進而較佳為240μm。防黏層4表面之粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)取上述範圍之相對較小之值，藉此微細凹凸形狀7呈島狀且均勻地形成於整個表面，從而即便於算術平均粗糙度(Ra)為上述範圍之相對較小之值之情形時，亦可防止由於與其他光學片等之表面之密著(黏著)而產生干擾條紋。
尤其是於使算術平均粗糙度(Ra)變得較小時，將粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)設為上述範圍，而微細凹凸形狀7呈島狀且均勻地形成於整個表面，藉此於防黏層4與稜鏡片表面之帶狀稜鏡部頂點相接觸時，亦可於帶狀部分形成微細凹凸形狀7之凸部分所抵接之部分及未抵接之部分。因此，根據該光學片1，可有效發揮積層於稜鏡片表面(稜鏡部側之面)時之防黏功能。
若該粗糙度曲面要素之平均長度(RSm)小於上述下限，則有由於各凸部分之尺寸變小而產生抵接之其他光學片等之表面的損傷之虞。又，於稜鏡片表面(稜鏡部側之面)與防黏層4相接觸之情形時，有於與防黏層4相接觸之帶狀稜鏡部頂點不產生相抵接之部分及未抵接之部分之虞。反之，若該粗糙度曲面要素之平均長度(RSm)超過上述上限，則有未充分形成微細之凹凸形狀，而於除凸部以外之面，與其他光學片等之表面抵接，藉此產生干擾條紋之虞。
防黏層4表面之十點平均粗糙度(Rz)之下限，較佳為0.18μm，更佳為0.2μm，尤佳為0.3μm，進而較佳為0.4μm。另一方面，該十點平均粗糙度(Rz)之上限，較佳為 1.4μm，尤佳為1μm，進而較佳為0.8μm。若防黏層4表面之十點平均粗糙度(Rz)小於上述下限，則有可能於防黏層4表面之微細凹凸形狀7中，除凸部以外之部分與其他光學片等之表面抵接，藉此發生黏著。反之，若該十點平均粗糙度(Rz)大於上述上限，則有凹凸形狀變得過於粗糙而對積層於內面側之其他光學片等之表面造成損傷之虞。
防黏層4之十點平均粗糙度(Rz)對於算術平均粗糙度(Ra)之比(Rz/Ra)之下限，較佳為3，尤佳為4，進而較佳為5。另一方面，此比之上限，較佳為14.25，更佳為10，尤佳為9，進而較佳為8。將防黏層4之十點平均粗糙度(Rz)對於算術平均粗糙度(Ra)之比(Rz/Ra)設為小至上述範圍之值，藉此該光學片1可均勻地具有高度相對均等之凹凸形狀。因此，該光學片1可防止由於力集中於防黏層4之微細凹凸形狀7之凸部分中之尤其突出的部分而產生之其他片之損傷。又，可防止因已突出之凸部分由於例如與稜鏡部頂點之接觸等而脫落所造成之其他光學片等之表面之損傷。若防黏層4之十點平均粗糙度(Rz)對於算術平均粗糙度(Ra)之比(Rz/Ra)小於上述下限，則難以充分形成該微細凹凸形狀7。反之，若此比(Rz/Ra)超過上述上限，則有可能微細凹凸形狀7之凸部分之高度之差變得明顯，力集中於該部分，藉此對其他光學片等之表面造成損傷。
防黏層4表面之均方根粗糙度(Rq)之下限，較佳為0.04μm，尤佳為0.07μm，進而較佳為0.1μm。另一方面，該均方根粗糙度(Rq)之上限，較佳為0.4μm，尤佳為0.3 μm，進而較佳為0.2μm。根據該光學片1，防黏層4表面之均方根粗糙度(Rq)具有小至上述範圍之值，藉此平緩地形成微細凹凸形狀7之傾斜，而可防止積層之其他光學片之損傷。若防黏層4表面之均方根粗糙度(Rq)小於上述下限，則因微細凹凸形狀7之形成不充分，故有防黏功能下降之虞。反之，若該均方根粗糙度(Rq)超過上述上限，則有微細凹凸形狀7中產生陡峭之傾斜部分，藉此於該陡峭之傾斜附近產生其他光學片等之表面的損傷之虞。
防黏層4表面之各凸部分之平均高度(h)之下限，較佳為0.5μm，尤佳為0.7μm，進而尤佳為1μm。又，該平均高度(h)之上限，較佳為3μm，進而較佳為2.5μm，進而尤佳為2μm。根據該光學片，如此使防黏層4表面之各凸部分之平均高度(h)如上所述般變得相對較小，藉此可減少其他光學片等之表面之損傷，且可使產生損傷時之傷痕深度變淺。若各凸部分之平均高度(h)小於上述下限，則無法發揮充分之防黏功能。反之，若該平均高度(h)超過上述上限，則有其他光學片表面產生損傷，且該產生之傷痕變深之虞。再者，該平均高度(h)係利用雷射顯微鏡於特定面積中進行觀察，藉由所觀察之複數個凸部分中高度較高之前16個凸部分之平均高度而算出。
防黏層4表面之各凸部分之平均突起徑(r1 )之下限，較佳為1.8μm，更佳為2μm，尤佳為2.5μm，進而尤佳為3μm。另一方面，該平均突起徑(r1 )之上限，較佳為5μm，尤佳為4.5μm，進而尤佳為4μm。根據該光學片，如 此使防黏層4表面之各凸部分之平均突起徑(r1 )如上所述般變得相對較小，藉此可減少其他光學片等之表面之損傷，且可使該產生之傷痕之傷痕寬度較窄。若各凸部分之平均突起徑(r1 )小於上述下限，則無法發揮充分之防黏功能。反之，若該平均突起徑(r1 )超過上述上限，則產生其他光學片表面之損傷，且該產生之傷痕之傷痕寬度較寬。再者，該平均突起徑(r1 )係利用雷射顯微鏡於特定面積中進行觀察，藉由所觀察之複數個凸部分中高度較高之前16個凸部分之平均突起徑而算出。又，所謂突起徑(r1 )，係指於凸部分之高度(h)之90%之高度(0.9h)切斷所得之剖面之直徑，各突起徑之平均值係根據該斐瑞特直徑(Feret diameter)(以一定方向之平行線夾持投影像時之間隔)而算出。
防黏層4表面之各凸部分之平均徑(r2 )之下限，較佳為40μm，尤佳為60μm，進而尤佳為70μm。另一方面，該平均徑(r2 )之上限，較佳為200μm，尤佳為150μm，進而尤佳為120μm。根據該光學片，如此使防黏層4表面之各凸部分之平均徑(r2 )如上所述般變得相對較大，藉此可將於其他光學片表面產生損傷時之傷痕深度抑制為較淺。若各凸部分之平均徑(r2 )小於上述下限，則無法發揮充分之防黏功能。反之，若該平均徑(r2 )超過上述上限，則容易產生對其他光學片表面之損傷，並且該傷痕深度變深。再者，該平均徑(r2 )係利用雷射顯微鏡於特定面積中進行觀察，藉由所觀察之複數個凸部分中高度較高之前16個凸部分之平均徑而算出。又，所謂各徑，係指於凸部分之高度(h)之5%之高度(0.05h)切斷所得之剖面之直徑，各徑之平均值係根據該斐瑞特直徑(以一定方向之平行線夾持投影像時之間隔)而算出。
防黏層4表面之各凸部分之高度比(h/r2 )之下限，較佳為1/400，尤佳為1/200，進而尤佳為1/150，進而尤佳為1/120。又，該高度比(h/r2 )之上限，較佳為1/10，尤佳為1/30，進而尤佳為1/60，進而尤佳為1/80。根據該光學片，如此使防黏層4表面之各凸部之高度比(h/r2 )如上所述般變小，藉此抑制其他光學片表面之損傷之產生，並且可將產生損傷時之傷痕本身之大小抑制為較小。若該高度比(h/r2 )小於上述下限，則有無法發揮充分之防黏功能之虞。反之，若該高度比(h/r2 )超過上述上限，則容易於其他光學片表面產生損傷，並且該傷痕本身之大小擴大。
又，該防黏層4表面之凸部分具有如此相對較小之平均高度(h)、相對較小之平均突起徑(r1 )、相對較大之平均徑(r2 )及較小之高度比(h/r2 )，藉此可提高與此層接觸之面之摩擦力。根據具備此類防黏層4之該光學片1，該防黏層4及與此層接觸之其他光學片或稜鏡片間之摩擦增強，藉此防止滑動，其結果，抑制該等片之間所產生之微細之偏移，藉此可抑制其他光學片或稜鏡片表面之損傷。
防黏層4表面之凸部分之存在密度之下限，較佳為40個/mm2 ，尤佳為60個/mm2 ，進而尤佳為80個/mm2 。又，該凸部分之存在密度之上限，較佳為500個/mm2 ，尤佳為400個/mm2 ，進而尤佳為300個/mm2 。若防黏層4表面之凸部分之存在密度小於上述下限，則有無法發揮充分之防黏功能之虞。反之，若該凸部分之存在密度大於上述上限，則容易產生其他光學片等之表面之損傷。再者，該凸部分之存在密度，係測量雷射顯微鏡中放大至1000倍而進行觀察之視野內之凸部分的個數，並使用該視野面積而算出。
再者，所謂計算上述平均高度(h)、平均突起徑(r1 )、平均徑(r2 )及存在密度時之凸部分，係指於防黏層4表面之高度為0.2μm以上之突起。
防黏層4表面之鉛筆硬度之下限，於基材層2為玻璃之情形時，較佳為H，尤佳為2H。另一方面，該鉛筆硬度之上限，較佳為5H，尤佳為4H。又，於基材層2為聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂之情形時，防黏層4表面之鉛筆硬度之下限，較佳為B，尤佳為HB。另一方面，此時之鉛筆硬度之上限，較佳為3H，尤佳為2H。根據該光學片1，防黏層4表面為上述形狀且鉛筆硬度為上述範圍，藉此有效發揮防黏功能，並且可防止積層之其他片之損傷。若防黏層4表面之鉛筆硬度小於上述下限，則有可能由於微細凹凸形狀7之前端等變脆而斷裂，其結果產生對其他光學片等之表面之損傷之虞。反之，若該鉛筆硬度超過上述上限，則有由於具有較高硬度之微細凹凸形狀7本身而產生對其他光學片等之表面之損傷之虞。
該防黏層4之材質，並無特別限定，可使用合成樹脂等，較佳為包含合成樹脂及單體或寡聚物作為溶質之硬化性組成物之硬化物且藉由該硬化物而形成有表面之微細凹凸形狀7。進而，上述溶質之組成較佳為至少於製成膜狀時進行層分離者。此層分離可於合成樹脂與單體或寡聚物之間產生，亦可於其他複數個單體或寡聚物之間產生。根據該光學片1，塗佈上述硬化性組成物且使其硬化，藉此可利用各成分之硬化時之收縮率之差而較佳地形成微細凹凸形狀7。該微細凹凸形狀7於上述層分離之狀態下更佳地形成。
上述合成樹脂，例如可列舉：(甲基)丙烯酸樹脂、烯烴樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、聚矽氧烷樹脂、聚矽烷樹脂、聚醯亞胺樹脂、三聚氰胺樹脂或氟樹脂等。(甲基)丙烯酸樹脂，可列舉(甲基)丙烯酸單體之聚合物或共聚物、(甲基)丙烯酸單體與其他具有乙烯性不飽和雙鍵之單體之共聚物等。烯烴樹脂，可列舉聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、離子聚合物、乙烯-乙烯醇共聚物、乙烯-氯乙烯共聚物等。聚醚樹脂，可列舉聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇等。聚酯樹脂，可列舉聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、不飽和聚酯樹脂、醇酸樹脂等。樹脂，可為具有2種以上之構成該等樹脂之結構單元之共聚物，亦可為由構成該等樹脂之結構單元及除此以外之單體所構成之共聚物。其中，就微細凹凸形狀成為較佳尺寸且防黏效果提高之觀點而言，較佳為丙烯酸單體之共聚物。
上述合成樹脂之質量平均分子量之下限，較佳為2,000，更佳為5,000。另一方面，樹脂之質量平均分子量之上限，較佳為100,000，更佳為50,000。若質量平均分子量小於上述下限，則有防黏層4之微細凹凸形狀7變小而防黏效果不充分之虞。反之，若質量平均分子量超過上述上限，則有防黏層4之微細凹凸形狀7之硬度變得過高而產生附著於防黏層4之其他光學片等之表面的損傷之虞。
上述寡聚物，可列舉上述合成樹脂之低分子量者。寡聚物，較佳為重複單元數為3～10且重量平均分子量為8,000以下者。寡聚物，可為具有2種以上之構成該等寡聚物之結構單元之共聚物，亦可為由構成該等寡聚物之結構單元及除此以外之單體所構成之共聚物。
上述單體，只要為具有可聚合之官能基之化合物，便可使用。可聚合之官能基，較佳為不飽和雙鍵，就容易聚合之方面而言，尤佳為(甲基)丙烯醯基。又，單體較佳為多官能性單體。多官能性單體，可列舉多元醇等之(甲基)丙烯酸酯，具體而言例示有二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等。該單體，亦可於分子內具有除可聚合之官能基以外之官能基，例如胺酯基、三聚異氰酸酯基、脲基、碳酸酯基、醯胺基、酯基、羧基、亞胺基、胺基、醚基、羥基等。又，單體亦可具有氟、氯等鹵素，矽、硫、磷等原子。
作為上述溶質之合成樹脂、寡聚物及單體，較佳為分別具有相互反應之官能基。藉由各成分具有此類官能基，而所獲得之防黏層4之強度增強，可提高耐久性。此類進行反應之官能基之組合，例如可列舉乙烯性不飽和基與乙烯性不飽和基、具有活性氫之官能基(羥基、胺基、氫硫基、羧基等)與環氧基、具有活性氫之官能基與異氰酸酯基、具有活性氫之官能基與具有活性氫之官能基、矽烷醇基與矽烷醇基、矽烷醇基與環氧基、活性亞甲基與丙烯醯基、唑啉基與羧基等。其中，就藉由產生成分間之牢固鍵結而所獲得之防黏層4之強度提高的方面而言，相互反應之官能基，較佳為乙烯性不飽和基與乙烯性不飽和基之組合。
又，上述溶質，較佳為包含合成樹脂、單體或寡聚物、及具有極性基之單體或寡聚物之三種成分。藉由該防黏層4包含此類成分，尤其是包含具有極性基之單體或寡聚物，而促進樹脂硬化物之相分離，有效表現出微細凹凸形狀7，從而防黏層4之效果提高。該極性基，例如可列舉胺酯基、三聚異氰酸酯基、脲基、碳酸酯基、醯胺基、酯基、羧基、酸酐基、醚基、環氧基、亞胺基、胺基、羥基等。具有極性基之單體或寡聚物之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸胺酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯等。其中，就容易引起相分離，微細凹凸形狀7表現出有效形狀，而防黏效果提高之方面而言，尤佳為(甲基)丙烯酸胺酯。
進而，上述溶質之三種成分之組合，較佳為於塗佈、硬化時形成海-島-湖之相結構者。藉由設為此類組合，而即便於塗膜厚度較薄之情形時，所形成之微細凹凸形狀7亦相對變大，而防黏效果增強。
接著，對該光學片1之製造方法進行說明。該光學片1之製造方法，通常具有如下步驟：(a)於構成黏合劑5之聚合物組成物中混合光擴散劑6，藉此製造光學層用塗佈液；(b)將該光學層用塗佈液塗佈於基材層2之表面，藉此積層光學層3；(c)調整包含樹脂及單體或寡聚物作為溶質之硬化性組成物，藉此製造防黏層用塗佈液；以及(d)藉由將該防黏層用塗佈液塗佈於基材層2之內面而積層防黏層4並使其硬化，藉此於該表面形成微細凹凸形狀7。
(c)步驟中之硬化性組成物除摻合有上述各溶質成分(合成樹脂及單體或寡聚物)以外，亦摻合有溶劑及聚合起始劑等。
上述溶劑，例如可列舉醚類、二乙二醇烷基醚類、乙二醇烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚丙酸酯類、芳香族烴類、酮類、酯類等。
該等溶劑中，醚類，例如可列舉四氫呋喃等；二乙二醇烷基醚類，例如可列舉二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲醚等；乙二醇烷基醚乙酸酯類，例如可列舉甲基賽路蘇乙酸酯、乙基賽路蘇乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等；丙二醇單烷基醚類，例如可列舉丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等；丙二醇單烷基醚乙酸酯類，例如可列舉丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯等；丙二醇單烷基醚丙酸酯類，例如可列舉丙二醇單甲醚丙酸酯、丙二醇單乙醚丙酸酯、丙二醇單丙醚丙酸酯、丙二醇單丁醚丙酸酯等；芳香族烴類，例如可列舉甲苯、二甲苯等；酮類，例如可列舉甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、2-庚酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮等；酯類，例如可列舉乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯等。該等溶劑可單獨使用，或者可混合使用。
上述聚合起始劑，例如可列舉：苯乙酮、苯乙酮苄基縮酮、蒽醌、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、咔唑、酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二胺基二苯甲酮、1,1-二甲氧基去氧安息香、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、硫雜蒽酮(thioxanthone)系化合物、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉基-丙烷-2-酮、2-(4-甲基苄基)-2-二甲胺基-1-(4-啉基苯基)-丁烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉基苯基)-丁烷-1-酮、三苯基胺、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三-甲基戊基氧化膦、苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、茀酮、茀、苯甲醛、安息香乙醚、安息香丙醚、二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、米其勒酮、3-甲基苯乙酮、3,3',4,4'-四(三級丁基過氧化羰基)二苯甲酮、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯肟)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-啉基丙烷-1-酮、1-羥基-環己基-苯基酮等。此類自由基產生劑可單獨使用1種，或者可將2種以上組合使用。
(d)步驟中之硬化方法，可配合組成物之組成而使用熱硬化或放射線硬化等眾所周知之方法。所使用之放射線，例如可使用可見光、紫外線、遠紫外線、電子束、X射線等。該等放射線中，較佳為波長為190～450nm之範圍內之放射線。
根據該光學片1，於防黏層4之整個表面具有上述性狀之微細凹凸形狀7，因此可防止該平滑且均等地形成之微細凹凸形狀7之凸部分與重疊配設於該防黏層4側之其他光學片等之黏著，且可防止其他光學片等之表面之損傷。進而，即便由於該光學片1本身捲曲或重疊而該光學片1彼此摩擦，亦防止相互損傷或黏連。
因此，於如圖2(a)所示之具備燈21、導光板22、稜鏡片24及光擴散片25且使燈21所發出之光線分散而導引至表面側的液晶顯示裝置用之背光單元20中，若使用上述光學片1作為光擴散片25，則藉由光學片1之良好之防黏性及防損傷性而減少稜鏡片24表面之黏著及損傷，其結果，降低干擾條紋之產生或損傷所造成之亮度不均之產生，而品質得以提高。
尤其是於該光學片1中，因防黏層4具有上述表面性狀，故於如此積層於稜鏡片24之表面之情形時，當防黏層4與稜鏡片表面之帶狀稜鏡部頂點相接觸時，亦可於帶狀部分形成相抵接之部分及未抵接之部分。因此，根據該光學片1，可有效發揮對於稜鏡片24表面(稜鏡部側之面)之防黏功能。又，該光學片1之微細凹凸形狀7成為即便於與稜鏡片24之稜鏡部頂點相接觸時亦難以脫離之形狀。因此，於在稜鏡片之表面側具備光學片1之該背光單元中，亦可充分發揮較高之防黏功能及防損傷功能，從而該背光單元可具有高品質。
又，於該背光單元中，亦可將光學片1積層於稜鏡片等其他光學片之表面，且亦可積層於導光板之表面。於此類本發明之背光單元中，可使光學片1之防黏層4之面與接觸於此面之其他光學片或導光板之表面間之動摩擦係數變得較大。該動摩擦係數之下限，較佳為0.4，尤佳為0.5，進而尤佳為0.55。又，該動摩擦係數之上限，就實用性之觀點而言，較佳為0.8，尤佳為0.7。根據該背光單元，如上所述般光學片1之防黏層4之面與接觸於此面之其他光學片或導光板之表面間之動摩擦係數較高，藉此可防止其間之滑動，且可抑制由該滑動而引起其他光學片或稜鏡片表面產生損傷。
再者，本發明之光學片並不限定於上述實施形態，例如亦可於稜鏡片(折射性光學片)、微透鏡片、偏光片、反射偏光片、反射片、相位差片、視野放大片等其他形態之光學片之一面具備上述防黏層。藉由積層於一面(光學層之相反側之面)之防黏層，可對該等各種形態之光學片賦予防損傷性及防黏性。
[實施例]
以下，基於實施例對本發明進行詳細敍述，但並不根據該實施例之記載而限定解釋本發明。
[實施例1]
於包含以聚酯多元醇為基材聚合物之黏合劑樹脂摻合物(東洋紡織(股)之「Vylon」)100份、平均粒徑為20nm之矽酸膠(扶桑化學工業(股)之「PL-1」)50份、硬化劑(Nippon Polyurethane(股)之「Coronate HX」)5份及光穩定劑(大塚化學(股)之「PUVA-1033」)5份的聚合物組成物中，混合平均粒徑為15μm之丙烯酸系樹脂珠粒(積水化成品工業(股)之「MBX-15」)50份而製作塗佈液，並藉由輥塗法將該塗佈液以15g/m2 (固形物換算)塗佈於厚度為100μm之透明聚酯製之基材層(東洋紡織(股)之「A-4300」)之表面，並使其硬化，藉此形成光學層。
又，將丙烯酸樹脂0.6質量份、作為含多官能不飽和雙鍵之單體的新戊四醇三丙烯酸酯41.9質量份、丙烯酸胺酯57.7質量份、作為聚合起始劑之2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-啉基丙烷-1-酮(Ciba-Geigy公司製造之「IRGACURE907」)7質量份及1-羥基-環己基-苯基酮(Ciba-Geigy公司製造「IRGACURE184」)3質量份，混合於甲基乙基酮(MEK)與甲基異丁基酮(MIBK)之混合溶劑(混合比：MEK/MIBK=1：1質量比)中，以非揮發成分率成為50質量%之方式製備防黏層用塗佈液。使用棒式塗佈機，將該塗佈液以塗佈厚度2g/m2 而棒式塗佈於上述基材層之內面。將其於80℃下乾燥1分鐘而將溶劑去除乾燥，並利用超高壓水銀燈將所獲得之塗膜以成為紫外線400mJ/cm2 之照射能量之方式進行曝光而使其硬化，藉此形成平均厚度為2.8μm之防黏層。藉此，獲得實施例1之光學片。
[實施例2]
將防黏層用塗佈液之塗佈量設為0.5g/m2 (固形物換算)，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得防黏層之平均厚度為0.7μm之實施例2之光學片。
[實施例3]
將防黏層用塗佈液之塗佈量設為1g/m2 (固形物換算)，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得防黏層 之平均厚度為1.4μm之實施例3之光學片。
[實施例4]
將防黏層用塗佈液之塗佈量設為1.5g/m2 (固形物換算)，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得防黏層之平均厚度為2.1μm之實施例4之光學片。
[比較例1]
作為防黏層用塗佈液，未摻合丙烯酸胺酯(其他成分係同樣地摻合)，並藉由輥塗法將該塗佈液以2g/m2 (固形物換算)塗佈於上述基材層之內面，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得防黏層之平均厚度為2.8μm之比較例1之光學片。
[比較例2]
將防黏層用塗佈液之塗佈量設為3g/m2 ，除此以外，以與比較例1相同之方式，獲得防黏層之平均厚度為4.2μm之比較例2之光學片。
[比較例3]
於包含以聚酯多元醇為基材聚合物之黏合劑樹脂摻合物(東洋紡織(股)之「Vylon」)100份、平均粒徑為20nm之矽酸膠(扶桑化學工業(股)之「PL-1」)50份、硬化劑(Nippon Polyurethane(股)之「Coronate HX」)5份及光穩定劑(大塚化學(股)之「PUVA-1033」)5份的聚合物組成物中，混合平均粒徑為5μm之丙烯酸系樹脂珠粒(積水化成品工業(股)之「MBX-5」)10份而製作塗佈液，並藉由輥塗法將該塗佈液以2g/m2 (固形物換算)塗佈於上 述基材層之內面，使其硬化而形成防黏層，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得防黏層之平均厚度為3.0μm之比較例3之光學片。
[特性之評價]
使用上述實施例1~4及比較例1~3之光學片，測定表面性狀之算術平均粗糙度(Ra)、粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)、十點平均粗糙度(Rz)、均方根粗糙度(Rq)及鉛筆硬度，又，評價將該等光學片組入背光單元中時之正面亮度、及光學片所引起之對其他光學片之影響(密著性、干擾條紋之產生、損傷之產生)。將其結果示於下述表1。
表面性狀之「算術平均粗糙度(Ra)」及「十點平均粗糙度(Rz)」係依據JIS B0601-1994，「粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)」及「均方根粗糙度(Rq)」係依據JIS B0601-2001，使截斷值λ c為2.5mm且使評價長度為12.5mm，並使用東京精密股份有限公司製造之觸針式表面粗糙度測定器「Surfcom 470A」而進行測定。「鉛筆硬度」係依據JIS K5400之試驗方法8.4而進行測定。
又，關於將光學片組入背光單元中時之正面亮度及光學片所引起之對其他光學片之影響(密著性、干擾條紋之產生)，將該等光學片實際組入端面照光型背光單元中(光學片，使用積層於導光板之表面之惠和(股)製造之稜鏡片H505、及積層於該表面之實施例或比較例之光學片(光擴散片))，如下所述進行評價。
關於與稜鏡片之密著性，根據以下觀點評價氣溫40℃、濕度90%之狀態下放置48小時後之密著性。
◎：完全不密著○：亦存在密著之部分△：於一定程度上密著×：牢固地密著根據以下觀點，目測評價干擾條紋之產生。
◎：完全不產生干擾條紋○：若注視觀察，則可確認到些許干擾條紋△：即便不注視，亦可確認到干擾條紋×：可清晰地確認到干擾條紋關於損傷之產生，利用顯微鏡觀察使該等光學片之防黏層與惠和(股)製造之稜鏡片H505之表面(稜鏡部側之面)摩擦100次後之稜鏡部之損傷之有無，並根據以下觀點進行評價。
◎：完全未觀測到損傷○：觀測到些許損傷△：觀測到損傷×：清晰地觀測到損傷
如上述表1所示，顯示出下述內容：實施例1~4之光學片於組入背光單元中時具有較高之正面亮度，並且抑制與其他光學片之密著性或干擾條紋之產生，進而降低其他光學片表面之損傷。尤其是可知藉由抑制十點平均粗糙度(Rz)對於算術平均粗糙度(Ra)之比(Rz/Ra)之值而降低密著性、干擾條紋及損傷之產生。
[實施例6~12]
於實施例1中，將作為防黏層用塗佈液之成分之丙烯酸樹脂、新戊四醇三丙烯酸酯及丙烯酸胺酯之摻合量設為下述表2所示，使防黏層用塗佈液之非揮發成分率成為60質量%，且使所形成之防黏層之平均厚度成為2μm，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得實施例6~12之光學片。
[特性之評價]
關於上述所獲得之實施例6~12之光學片，與上述同樣地，測定表面性狀之算術平均粗糙度(Ra)、粗糙度曲線要素之平均長度(RSm)、十點平均粗糙度(Rz)、均方根粗糙度(Rq)及鉛筆硬度，且依據上述評價基準評價將該等光學片組入背光單元中時之正面亮度及光學片所引起之對其他光學片之影響(密著性、干擾條紋之產生、損傷之產生)。此外，測定防黏層表面之各凸部分之平均高度(h)、平均突起徑(r1 )、平均徑(r2 )及存在密度。對各凸部分進行測定時，使用雷射顯微鏡「VK-8500」(KEYENCE公司製造)。將其結果示於下述表2。
根據上述表2之結果，顯示出下述內容：藉由改變形成光學片之成分之摻合量比，可維持較高之正面亮度及防損傷性，並且可調整防黏層之表面性狀，藉由配合積層之其他光學片等進行設計，可進一步提高密著防止性等。
[產業上之可利用性]
如上所述，本發明之光學片係作為液晶顯示裝置之背光單元之構成要素較為有用，尤其是可較佳地應用於透射型液晶顯示裝置。
1．．．光學片
2．．．基材層
3．．．光學層
4．．．防黏層
5．．．黏合劑
6．．．光擴散劑
7．．．微細凹凸形狀
20．．．背光單元
21‧‧‧燈
22‧‧‧導光板
23‧‧‧光學片
24‧‧‧稜鏡片
25‧‧‧光擴散片
26‧‧‧基材層
27‧‧‧光學層
28‧‧‧防黏層
29‧‧‧黏合劑
30‧‧‧樹脂珠粒
31‧‧‧黏合劑
32‧‧‧珠粒
h‧‧‧高度
r1 ‧‧‧平均突起徑
r2 ‧‧‧平均徑
圖1(a)係表示本發明之一實施形態之光學片之模式剖面圖，圖1(b)係其一部分之放大圖。
圖2(a)係表示一般之端面照光型背光單元之模式斜視圖，圖2(b)係表示一般之光擴散片之模式剖面圖。
1．．．光學片
2．．．基材層
3．．．光學層
4．．．防黏層
5．．．黏合劑
6．．．光擴散劑
7．．．微細凹凸形狀
h．．．高度
r1 ．．．平均突起徑
r2 ．．．平均徑

Claims (5)

  1. 一種光學片，其具備：透明之基材層、積層於該基材層之一面側之光學層、及積層於基材層之另一面側之防黏層，且於該防黏層之整個表面具有微細凹凸形狀，該防黏層之平均厚度為0.5μm以上4μm以下，該防黏層表面之算術平均粗糙度(Ra)為0.03μm以上0.3μm以下，粗糙度曲線要素(roughness curve element)之平均長度(RSm)為40μm以上400μm以下，均方根粗糙度(Rq)為0.04μm以上0.4μm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學片，其中，該防黏層表面之微細凹凸形狀係藉由塗佈包含合成樹脂及單體或寡聚物作為溶質之硬化性組成物並使其硬化而形成。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學片，其中，該防黏層表面之十點平均粗糙度(Rz)對於算術平均粗糙度(Ra)之比(Rz/Ra)為3以上10以下。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學片，其中，該防黏層表面之鉛筆硬度為B以上5H以下。
  5. 一種液晶顯示裝置用背光單元，其使燈所發出之光線分散而導引至背光單元的表面側，該液晶顯示裝置用背光單元具備申請專利範圍第1項之光學片。
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